「surface defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a screen printing method preventing printing defects such as color omission and enabling high-quality printing when carrying out screen printing on the surface of the plate-like printed matter such as a substrate having recesses due to steps and an optical recording medium having the substrate screen printed using the printing method.例文帳に追加

段差による凹部を有する基板などの板状の被印刷物の表面にスクリーン印刷を行う際に色抜けなどの印刷不良を防止し、高品質な印刷を可能にするスクリーン印刷方法、及び該印刷方法を用いてスクリーン印刷された基板を有する光記録媒体の提供。 - 特許庁

To provide a method for removing minute defects in a thin film solar battery that eliminates a risk of characteristic deterioration due to damage to the solar cell surface, cuts the increasing cost and requires neither additional troubelsome process nor complex mechanism.例文帳に追加

太陽電池セル表面を傷つけてその特性を低下させてしまう危険を伴わず、製造におけるコスト増大を招くことなく、工程の煩雑さを増加させることなく且つ複雑な機構を必要としない薄膜太陽電池内の微小欠陥部除去方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous hot dip plating production method by which in a continuous hot dip plating operation, the occurrence of dross itself is exceedingly reduced, thereby the frequency of a dross recovery operation is extremely reduced, and surface defects such as flaws caused by dross do not occur, while high productivity is obtained.例文帳に追加

連続溶融メッキ操業においてドロス発生自体を非常に少なくし、そのことによりドロス回収作業頻度を極端に少なくし、ドロスに起因した疵等の表面欠陥を発生することがなく、又生産性の高い連続溶融メッキ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that suppresses damages of an image holder and of an intermediate transfer body as well as suppresses image defects by suppressing sticking of a contaminant on the surface of the image holder and improving sliding property at a contact part between the image holder and the intermediate transfer body.例文帳に追加

像保持体表面への汚染物質の固着を抑制すると共に、像保持体と中間転写体との接触部における摺動性を向上することにより、像保持体及び中間転写体の損傷、並びに、画像欠陥を抑制する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

It is possible to avoid contact between the lead portion exposed under the resin 22 and the top surface of the resin 22 and to prevent ungainly external appearance and electrical defects caused by damages and adhesions of foreign materials by forming barrel-shaped bottomed protrusions 24 higher than the resin 22.例文帳に追加

封止樹脂２２の高さよりも大きな高さを有する有底筒形状の突起２４を設けることにより、封止樹脂２２の下面に露出するリード部と封止樹脂２２の上面との当接を回避し、損傷や異物の付着による外観的、電気的不良の発生を防止する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting patterns, capable of preventing incorrect detection of defects while shortening the inspection time by controlling the focal deviation of an electron beam or the deviation of irradiation position, which is caused by the charging phenomenon on the surface of a sample incident to irradiation with an electron beam in the inspection of fine patterns.例文帳に追加

微細なパターンの検査において、電子ビームの照射によって生じる試料表面の帯電現象による電子ビームの焦点ずれや照射位置のずれを抑制し、欠陥の誤検出を防止するとともに、検査時間を短縮できる検査装置，検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a two-layer plated substrate that is controlled so that surface defects do not give rise to problems even when it is used for a flexible wiring board having interconnections with a width of 25 μm or less, and a method of simply and effectively manufacturing this two-layer plated substrate.例文帳に追加

表面の欠陥が、幅２５μｍ以下の配線を有するフレキシブル配線板に使用された場合でも問題が生じないように制御された二層めっき基板と、この二層めっき基板を簡便且つ効果的に製造する二層めっき基板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an apparatus for forming a coated film, which suppresses the increase in the size of equipment and the equipment cost, and which can prevent coating unevenness in the surface of a coated article and coating defects caused by a foreign material adhering thereto and the like from occurring by avoiding drying a coating material in a coating trough.例文帳に追加

設備の大型化及び設備コストを抑制するとともに、塗工桶内の塗料の乾燥を防止して、被塗装物の表面の塗装ムラの発生や異物の付着等による塗装不良の発生を防止することができる塗膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic EL display capable of preventing the occurrence of display defects caused by diffusion of residual gas and moisture to an organic EL layer, because coverage failure of a passivation layer is improved by reducing protrusions on the surface of an overcoat layer, and also provide its manufacturing method.例文帳に追加

オーバーコート層の表面上の突起などを低減することで、パッシベーション層のカバレッジ不良が改善され、有機ＥＬ層への残留ガスや水分の拡散に起因する表示欠陥などの発生を防ぐことができる有機ＥＬディスプレイ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrical cable in which there is no concern for the occurrence of surface defects due to the deterioration of such properties as mechanical strength, electrical properties, and especially tracking resistance caused by the breeding of fungi, bacteria and algae, without the occurrence of deterioration of such the properties in the organic polymer material.例文帳に追加

有機ポリマー材料の機械的強度、電気特性、特に耐トラッキング性を維持しつつ、真菌類、細菌類及び藻類の繁殖によるこれらの特性低下による表面欠損等の懸念のない電気ケーブル用絶縁部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a web coating method capable of preventing occurrence of coating defects such as coating streaks, coating unevenness, or the like attributed to sagging of a metering bar, vibration and a support and highly precisely forming a coating film with a uniform thickness on the web surface fed at a high speed, and a web coating apparatus.例文帳に追加

メタリングバーの撓み、振動、支持体に起因する塗布スジや塗布むら等の塗布欠点の発生を防止するとともに、高速で走行するウェブ表面に均一な厚さの塗膜を精度良く形成することができるウェブの塗布方法および塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor wafer, capable of grinding a metal film at a high speed on a semiconductor substrate under a low grinding pressure, controlling etchability which causes dishing at a low level, and also suppressing the occurrence of defects on a ground surface, such as scratches or erosion.例文帳に追加

低研磨圧力下においても半導体基板上の金属膜を高速に研磨でき、かつディッシングの原因となるエッチング性も低いレベルに制御され、同時にスクラッチやエロージョン等の被研磨面の欠陥発生も抑制することのできる半導体ウェハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method capable of suppressing the occurrence of development defects at an unexposed part while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure and hydrophilicity during developing on a resist-coated surface and maintaining excellence in the resulting pattern shape.例文帳に追加

レジスト被膜表面における液浸露光時の疎水性と現像時の親水性とを確保し、かつ得られるパターン形状の良好性を保持しつつ、未露光部における現像欠陥の発生を抑制できる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a squeezing apparatus which can prevent that a processing agent is solidified on the surface of a metallic roll, does not cause defects such as the irregular adhesion of the processing agent and the readhesion of a solidified material to a fabric, and can thereby provide the fabric having a stable quality.例文帳に追加

加工剤が金属ロールの表面で固化することを防止することができ、長時間の連続操業の場合においても、加工材剤の付与量にバラツキが生じたり、固化したものが布帛に再付着して欠点となったりすることの少ない品質の安定した加工布帛を提供する。 - 特許庁

In the white conductive powder having the conductive layer on the surface of each white inorganic powder particle, the conductive layer is made of stannic oxide uniformly forming oxygen defects, and powder volume resistance is 10^4 Ω cm or below.例文帳に追加

白色無機粉末表面に導電層を有する白色導電性粉末であって、導電層は、酸素欠陥がほぼ均一に形成された酸化第二錫からなり、粉体体積抵抗が、１０^４Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする、白色導電性粉末である。 - 特許庁

To provide a management method for a coating liquid for an electrophotographic photoreceptor, by which a dispersion state of the coating liquid containing a pigment is evaluated, without diluting the coating liquid and image defects, such as black dots on the white ground and surface fogging in images by dip coating, and density unevenness in halftone images is eliminated.例文帳に追加

顔料を含む塗布液を希釈せずに塗布液の分散状態を評価でき、浸漬塗布による画像における白地上の黒点、地かぶり、ハーフトーン画像での濃度むらなどの画像欠陥を解消できる電子写真感光体用塗布液の管理方法の提供。 - 特許庁

To solve the limits or defects in a process for fabricating semiconductor quantum dots employing conventional MOVPE growth, and to attain semiconductor quantum dots having good optical characteristics, high surface density and high uniformity by MOVPE growth.例文帳に追加

従来のＭＯＶＰＥ成長を用いた半導体量子ドットの製造方法における限界あるいは欠点を解決するためになされたもので、良好な光学特性、高い面密度、高い均一性を兼ね備えた半導体量子ドットをＭＯＶＰＥ成長により実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical device by which the optical device is molded with the minimum steps without causing optical defects such as cloudiness or crack and without causing the fusion of glass or the deposition of produced material on the surface of a mold in press molding.例文帳に追加

曇りやクラックなどによる光学的な不具合が発生してしまうことなく、また、加圧成形に伴って成形型の表面にガラスの融着や生成物の析出が生じてしまうことがなく、最小限の工程で光学素子を成形することが可能な光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phosphorus-containing copper anode for electric copper plating, with which production of anode slime is suppressed and production of plating defects such as contamination or projections on the surface of a material to be plated such as a semiconductor wafer is prevented even when fine copper wiring is formed on the semiconductor wafer or the like.例文帳に追加

半導体ウエハ等への精緻な銅配線を形成する場合にも、アノードスライムの発生を抑制するとともに、半導体ウエハ等の被めっき材表面における汚染、突起等のめっき欠陥の発生防止を図ることができる電気銅めっき用含リン銅アノードを提供する。 - 特許庁

To provide a novel levelling agent for plating which gives excellent characteristics in any of plating appearance such as plating covering power for the insides or corner parts of blind via holes or through-holes and levelling property of a plated surface and is capable of coping with substrate defects.例文帳に追加

酸性銅めっき処理において、ブラインドビアホールやスルーホールの内部やコーナー部のめっき付き回り性およびめっき面のレベリング性などのめっき外観のいずれにおいても優れた特性を与え、かつ下地不良にも対応できる新規なめっき用レベリング剤を提供する。 - 特許庁

To remove defects of former conveyance mechanisms for conveying a tape carrier consisting of any one of: a conveyance mechanism for utilizing a perforation; a grip roller conveyance mechanism for performing a conveyance in the state of being pinched by a roller pair; or a clamp mechanism for performing the conveyance by clamping tape front and rear sides, wherein any mechanism damages a tape front surface.例文帳に追加

従来のテープキャリアを搬送する搬送機構は、パーフォレーションを利用する搬送機構、ローラ対で挟持して搬送するグリップローラ搬送機構、又はテープ表裏面をクランプして搬送するクランプ機構があるがいずれも、テープ表面に損傷を与えている。 - 特許庁

To provide a method for producing a waterproof and moisture-permeable processed fabric obtained by directly coating a fiber fabric with an aqueous resin, which obtains a waterproof and moisture-permeable processed fabric having excellent moisture permeability and waterproofness and excellent film surface qualities free from processing defects such as processing wrinkles, coating unevenness, etc.例文帳に追加

水系樹脂を繊維布帛に直接コーティングする防水透湿加工布帛の製造方法において、優れた透湿性と防水性を有し、かつ、加工シワ、塗工ムラなどの加工欠点がない膜面品位の優れた防水透湿加工布帛を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical waveguide element having a polarization inversion structure and being capable of reducing its manufacturing cost and time by suppressing the occurrence of defects on a crystal surface due to stress distortion caused by a polarization domain wall when polarization inversion is formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に分極反転を形成した際に、分極ドメイン壁が及ぼす応力歪により結晶表面に欠陥が生じることを抑え、製造コストや製造時間を削減することが可能な、分極反転構造を有する光導波路素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a rolling method capable of suppressing the vibration of a rolled stock between roll stands in a finish hot-rolling process in a sizing mill for bar steel such as a wire rod and a steel bar, thereby reducing surface defects and enhancing the dimensional accuracy over the entire length of a rolled stock.例文帳に追加

線材、棒鋼などの条鋼のサイジングミルでの仕上げ熱間圧延過程で、ロールスタンド間での圧延材の振動を抑制して、表面疵を低減させ、かつ圧延材全長にわたる寸法精度を向上させることが可能な圧延方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film capable of obtaining the optical film which is used for forming a film prepared by melt-extruding and which has a high level surface uniformity without having optical defects, and to provide a roll capable of obtaining such optical film.例文帳に追加

溶融押出したフィルムを成膜するのに用いられ、光学欠点がなく、かつ高水準の表面均一性を有する光学用フィルムを得ることを可能とする光学用フィルムの製造方法、及びこのような光学用フィルムを得ることを可能とするロールを提供する。 - 特許庁

The defect-free hydrogen separation membrane includes a metallic thin layer comprising a first metallic layer comprising palladium formed on a porous support without allowing palladium to substantially penetrate the surface pores of the porous support, and a second metallic layer formed by depositing palladium thereon while plugging the defects opening in the surface of the first metallic layer on the first metallic layer.例文帳に追加

多孔性支持体の表面細孔に実質的に侵入することなく前記多孔性支持体上に形成されたパラジウムからなる第１金属層と、前記第１金属層の上に該第１金属層表面に開口する欠陥を閉塞しつつパラジウムを堆積することで形成された第２金属層とを有する金属薄膜を備える無欠陥化水素分離膜。 - 特許庁

This defect detection method includes a step for carrying out HF treatment for dipping the surface having an SOI layer into hydrofluoric acid for treatment, a step for depositing electrolytes at the site on the surface of the SOI layer closest or regarded as closest from a place having cavities or defects in an insulating layer due to the HF treatment, and a step for detecting the site where the electrolytes are decorated.例文帳に追加

ＳＯＩ層がある面をフッ化水素に浸漬処理するＨＦ処理をするステップと、ＨＦ処理されたことで生じた絶縁層の空洞または絶縁層の欠陥がある箇所から最短距離または最短距離とみなせるＳＯＩ層の面上の部位に電解物質を（析出）させるステップと、電解物質がデコレートされた部位を検出するステップと、を有する。 - 特許庁

In a compound semiconductor 1 composed of a buffer layer 3 and a compound semiconductor layer 4 formed on a substrate 2, the surface of at least either of the buffer layer 3 and the compound semiconductor layer 4 is formed into a wavelike surface having an unevenness in a specific direction; thus strain energy in the crystal can be reduced and dislocation density by the crystal defects can be reduced.例文帳に追加

基体２上に、バッファ層３と化合物半導体層４とが形成された化合物半導体１において、バッファ層３及び化合物半導体層４の少なくとも一方の表面を特定の方向に凹凸を有する波状面とすることにより、結晶内部の歪エネルギーを低減することができ、結晶欠陥による転位密度を低減することが可能とされる。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device having a BiCMOS, a base region 14 is formed through implantation of ions, then a thermal treatment, is carried out for recovering from defects caused by implantation of ions, and then an oxide film is formed near the end of a gate electrode 11 on the surface of a substrate 1 or an oxide film formed on the surface is improved in film quality by a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

また、ＢｉＣＭＯＳを有してなる半導体装置の製造方法の場合、イオン注入法によってベース領域１４を形成した後、イオン注入による欠陥回復のための熱処理を施し、その後、熱酸化処理を施すことによって基板１表面のゲート電極１１端近傍に酸化膜を形成しあるいはここの酸化膜の膜質を改善する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device equipped with a CMOS, LDDs 12 and 13 are formed by implantation of ions, then a thermal treatment is carried out for recovering from defects caused by implantation of ions, and thereafter an oxide film is formed near the end of a gate electrode 11 on the surface of a substrate 1 or an oxide film formed on the surface is improved in film quality by a thermal oxidation treatment.例文帳に追加

ＣＭＯＳを有してなる半導体装置の製造方法の場合、イオン注入法によってＬＤＤ１２、１３を形成した後、イオン注入による欠陥回復のための熱処理を施し、その後、熱酸化処理を施すことによって基板１表面のゲート電極１１端近傍に酸化膜を形成しあるいはここの酸化膜の膜質を改善する。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing metal-coated particles each comprising a substrate particle having conductivity on the surface thereof and a metal-coated layer coating the surface of the substrate particle, which can produce metal-coated particles each having a metal-coated layer having a uniform thickness and few defects.例文帳に追加

本発明は、表面に導電性を有する基材粒子と前記基材粒子の表面に被覆された金属被覆層とを有する金属被覆粒子の製造装置において、金属被覆層の厚みが均一でかつ欠陥の少ない金属被覆層を有する金属被覆粒子を製造可能な金属被覆粒子の製造装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加

周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段（しきい値選択部４９）を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

This defect classification equipment is provided with an illuminating unit 101 for illuminating a light transmitting coating surface with illuminating lights whose wavelength is restricted, a CCD camera 104 for imaging the interfering image of the coating surface through a lens 103, and a PC 110 for calculating the radiant direction component quantity of the peripheral luminance gradient to each pixel in the pickup image and for classifying the defects based on the radiant direction component quantity.例文帳に追加

波長を制限した照明光により光透過性のあるコーティング表面を照明する照明器１０１と、レンズ１０３を通してコーティング表面の干渉像を撮像するＣＣＤカメラ１０４と、撮像した画像内の各画素に対する周囲の輝度勾配の放射方向成分量を算出し、この放射方向成分量を基に欠陥を分類するＰＣ１１０とを具備する。 - 特許庁

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a surface oxide film formed on a semiconductor layer made of InGaAs or InGaAsP is effectively removed to form a clean flat surface and at the same time to form a semiconductor layer for relieving lattice distortion to relieve accumulated distortion at a growing interface and then a III-V group compound semiconductor layer having less defects and good crystallinity is regrown.例文帳に追加

ＩｎＧａＡｓもしくはＩｎＧａＡｓＰよりなる半導体層上に形成されている表面酸化膜を効果的に除去し、清浄で平坦な表面を形成すると同時に、格子歪みを緩和する半導体層を形成させて、成長界面に歪みの蓄積がなく、再成長膜に欠陥の発生の少ない結晶性の良好なIII−Ｖ族化合物半導体膜を再成長する方法を提供する。 - 特許庁

In the production method for compound single crystal for epitaxially growing the compound single crystal layer, different from a compound single crystal substrate on the surface of this substrate, at least one part of the substrate surface has a plurality of projections, extending in one direction and each of such projections is provided, so that the defects to be grown with the epitaxial growth of this compound monocrystal layer can mutually meet.例文帳に追加

化合物単結晶基板の表面にこの基板とは異なる化合物単結晶層をエピタキシャル成長させる化合物単結晶の製造方法であって、前記基板表面の少なくとも一部が一方向に延在する複数の起伏を有し、かつこの起伏は前記化合物単結晶層のエピタキシャル成長に伴って成長する欠陥が互いに会合しあうように設けられた方法。 - 特許庁

To provide a heat treatment method, which can prevent occurrence of slip dislocation and sufficiently eliminate grown-in defects in the vicinity of the surface even when a CZ silicon monocrystal wafer having a diameter of 300 mm or larger is mainly subjected to a high heat treatment, and an annealed wafer having a DZ layer in the wafer surface layer and containing high-density oxygen precipitates capable of achieving a high gettering effect in a bulk.例文帳に追加

主に直径が３００ｍｍ以上のＣＺシリコン単結晶ウェーハに高温熱処理を行なってもスリップ転位の発生を抑制し、表面近傍のGrown-in欠陥を十分に消滅させることのできる熱処理方法を提供し、及びウェーハ表層部にＤＺ層を有し、かつバルク中に高いゲッタリング効果が得られる高密度の酸素析出物を有するアニールウェーハを提供する。 - 特許庁

To improve efficiency of a light-emitting device by improving crystallinity of another nitride semiconductor, growing on the surface of an n-type nitride semiconductor layer, by providing a method for growing the n-type nitride semiconductor layer with less lattice defects when the n-type nitride semiconductor layer grows on the surface of a lattice-mismatched substrate, with a vapor phase growth method, such as a MOVPE and MBE method.例文帳に追加

ＭＯＶＰＥ、ＭＢＥ法等の気相成長法により、格子整合していない基板の表面にｎ型窒化物半導体を成長させる際に、ｎ型窒化物半導体層の格子欠陥を少なくして成長させる方法を提供することにより、ｎ型窒化物半導体層の表面に成長させる他の窒化物半導体の結晶性を向上させて、発光素子の効率を向上させる。 - 特許庁

To provide integral expansion molded goods, such as seat pads for vehicles, which have a good reinforcing effect, have adequate rear surface rigidity and bending feel, and are free of expansion defects at the edges (corners) between a fabric for reinforcement joined to the rear surface and fabrics for reinforcement joined to flanks.例文帳に追加

車両用シートパッド等の発泡成形品の裏面及び少なくとも一側面に補強用布帛を一体化接合してなる一体発泡成形品において、上記裏面に配された布帛と上記側面に配された布帛とが上記裏面と上記側面との間の縁部において離間していると共に、複数箇所において橋渡し布帛を介して互いに一体に連結していることを特徴とする一体発泡成形品。 - 特許庁

To provide a charging member which has excellent surface mechanical durability and oxidation resistance, and with which image defects due to deposition of toner components are suppressed, also, has excellent charging characteristics, further, which can easily keep these characteristics at a high level with time, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the charging member.例文帳に追加

表面の機械的耐久性や耐酸化性に優れ、トナー成分の付着に起因する画像欠陥も抑制できると共に帯電特性にも優れ、さらに、これらの特性を経時的に高いレベルで維持することが容易な帯電部材、並びに、これを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

Meanwhile, the generation of defects which can not be restored by heat treatment is prevented by performing the surface treatment process continuously in the same chamber using a plasma gas including a halogen having an atomic weight not less than Cl and a rare gas having an atomic weight not less than Ar after the gate oxide film exposure time.例文帳に追加

一方、ゲート酸化膜露出時点以降は、引き続き同じチャンバ内でＣｌ以上の原子量を持つハロゲンとＡｒ以上の原子量を持つ希ガスを含むプラズマガスを用いて表面処理工程を行なうこととしたことにより、熱処理では回復できない欠陥の発生を抑制したこと。 - 特許庁

To provide semiconductor lamination structure having a high yield rate and capable of realizing a wafer having high characteristics, in which warpages and misfit defects on the substrate of an epitaxial growth wafer in surface-emitting type optical device structure can be reduced, while suppressing reduction of DBR characteristics by introducing heterogeneous elements into a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板への異種元素の導入によって、ＤＢＲ特性の低下を抑制しつつ、面発光型光デバイス構造におけるエピタキシャル成長ウエハの基板の反りや、ミスフィット欠陥の少ない良好な特性を有するウエハを実現し、歩留まり率の高い半導体積層構造を提供する。 - 特許庁

To reduce dust attachment to a surface of an article to be polished, to reduce scratches, to provide a flattening characteristic in common and to remove defects of fine irregularities of a semiconductor wafer before irregularity working itself expressed as waviness, nanotopology, etc., under a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、すなわちｗａｖｉｎｅｓｓや、ｎａｎｏｔｏｐｏｌｏｇｙなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁