「surface oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

In the oxidation method for oxidating the surface of a treating body W set to a specific temperature in a process envelop 8, an oxidizing gas composed of oxygen and/or ozone and a reduction gas composed of hydrogen and/or heavy hydrogen are supplied under the vacuum atmosphere (excluding a combination of oxygen and hydrogen), and the oxidation is made by a hydroxyl group active species and an oxygen active species generated.例文帳に追加

処理容器８内にて所定の温度になされた被処理体Ｗの表面を酸化する酸化方法において、真空雰囲気下にて酸素及び／又はオゾンよりなる酸化性ガスと水素及び／又は重水素よりなる還元性ガスとを供給し（酸素と水素のみの組み合わせを除く）、発生した水酸基活性種と酸素活性種とにより前記酸化を行なう。 - 特許庁

In the method for suppressing the generation of the scale by supplying an oxidation suppressing chemical on the surface of the rolled steel material in a hot rolling process, an aqueous solution containing one or more of ascorbic acid, a derivative of ascorbic acid, and a metallic salt of ascorbic acid is used as a oxidation suppressing chemical.例文帳に追加

熱間圧延工程で、圧延鋼材表面に酸化抑制剤を供給することによりスケール生成を抑制する方法において、上記酸化抑制剤としてアスコルビン酸、アスコルビン酸の誘導体およびアスコルビン酸の金属塩のうちの１種または２種以上を含む水溶液を用いることを特徴とする熱間圧延鋼材表面のスケール生成抑制方法。 - 特許庁

A substrate on the surface of which a Co film is formed as a seed layer is prepared, and when a Cu film is deposited on the Co film of the substrate by electrolytic plating using a plating solution mainly composed of a copper sulfate solution, before immersing the substrate surface into the plating solution, a negative voltage is applied to the substrate so that the surface potential of Co becomes lower than the oxidation potential of Co.例文帳に追加

表面にシード層としてＣｏ膜が形成された基板を準備し、Ｃｏ膜の上に硫酸銅溶液を主体とするメッキ液を用いて、電解メッキにより基板のＣｏ膜上にＣｕ膜を成膜するにあたり、基板表面をメッキ液に浸漬する前に、基板に対して、Ｃｏの表面電位がＣｏの酸化電位より低くなるような負の電圧を印加する。 - 特許庁

With the positive electrode active substance for the alkaline storage battery equipped with a core layer including nickel hydroxide and a surface layer including a cobalt compound and coating the core layer, the surface layer is made of a hydroxide including cobalt and at least one kind of rare-earth element of which, the oxidation number of the cobalt contained in the surface layer is to be three or more.例文帳に追加

水酸化ニッケルを含む芯層と、コバルト化合物を含みかつ前記芯層を被覆する表面層とを備えたアルカリ蓄電池用正極を製造するために用いられるアルカリ蓄電池用正極活物質において前記表面層がコバルトと少なくとも一種の希土類元素を含む水酸化物から成り、該表面層に含まれるコバルトの酸化数を３価以上とする。 - 特許庁

In the fixing device having the heat fixing member and a pressurization fixing member pressure welded to the heat fixing member, the heat fixing member is at least equipped with: the fluoroelastomer surface layer 3 to which carbon black to which surface oxidation processing is performed is distributed; and an oil supply means for applying dimethylsilicon oil having unsaturated bonding to the surface of the heating fixing member.例文帳に追加

加熱定着部材と、該加熱定着部材に圧接される加圧定着部材とを有する定着装置において、加熱定着部材は、表面酸化処理されたカーボンブラックが分散されたフルオロエラストマー表層を少なくとも具備し、該加熱定着部材の表面に不飽和結合を有するジメチルシリコーンオイルを塗布するオイル供給手段を備えることを特徴とする定着装置。 - 特許庁

Furthermore, the hydrogen oxidation catalyst is constituted so that the μ-oxotransition metal complex is immobilized on the surface of the conductive carrier via the ligand, the hydrophobic group having the number of carbons of 6 to 10 is arranged in the vicinity of the μ-oxotransition metal complex and hydrophilic treatment is applied on the surface of the conductive carrier.例文帳に追加

μ−オキソ遷移金属錯体が導電性担体表面に配位子を介して固定化され、前記μ−オキソ遷移金属錯体の近傍に炭素数６〜１０である疎水性基が配置され、かつ、前記導電性担体表面に親水処理が施されていることを特徴とする水素酸化触媒。 - 特許庁

On a first surface of a Si wafer 1, a pad oxide film 4 and a nitride film 5 are laminated successively, field oxidation is formed between the etched nitride films 5 to form a field oxide film 6, and on a second surface of the Si wafer an oxide film 2, a polysilicon film 3, a pad oxide film 4 and a nitride film 5 are laminated successively.例文帳に追加

シリコンウェハ１の第１の面側においては、パッド酸化膜４及び窒化膜５を順次積層し、エッチングされた窒化膜５間をフィールド酸化させてフィールド酸化膜６を形成し、シリコンウェハの第２の面側には、酸化膜２とポリシリコン膜３とパッド酸化膜４と窒化膜５とを順次積層する。 - 特許庁

Thus, it is possible to prevent the surface of the resin board from being oxidized when the heat treatment of the resin board is carried out with oxygen in the atmosphere, to prevent the adhesion of the resin board and metallic coating from being damaged by the oxidation of the 'surface of the resin board, and to increase the dimension stability of the resin board by carrying out the heat treatment.例文帳に追加

雰囲気中の酸素で熱処理の際に樹脂基板の表面が酸化されることを防ぐことができ、樹脂基板の表面の酸化によって樹脂基板と金属被覆の間の密着性が阻害されるようなことなく、熱処理によって樹脂基板の寸法安定性を高めることができる。 - 特許庁

To provide a surface conditioning method for aluminum-containing parts capable of removing natural oxidation films and segregated matters and improving corrosion resistance without uselessly consuming a treating liquid in surface treatment of aluminum or aluminum alloy parts and parts provided with iron, copper or zinc or their alloy parts.例文帳に追加

アルミニウムまたはアルミニウム合金部品と鉄、銅もしくは亜鉛またはこれらの合金部を備えた部品の表面処理において、処理液を無駄に浪費することなく、自然酸化皮膜や偏析物を除去して耐食性を向上させることができるアルミニウム含有部品の表面調整方法を提供する。 - 特許庁

Before the wire bonding is performed on an electrode forming nickel plating on a thin film metal barrier used as the uppermost surface layer on a substrate such as an IC board, acid radical and hydroxyl group forming oxidation product of nickel being a trace quantity on the surface layer of the electrode are reduced and removed.例文帳に追加

ＩＣ基板等のサブストレート上の最表層としてなる薄膜金属のバリアにニッケルめっきを形成して成る電極にワイヤボンディングを行なうに先立ち、前記電極の表層部に微量なるニッケルの酸化生成物を形成する酸基および水酸基を還元して取り除くことを特徴とするワイヤボンディング前処理方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a surface coated cutting tool having excellent oxidation resistance, excellent chipping resistance and excellent wear resistance by depositing a conductive oxide film on a surface of a base material, capable of executing the film deposition by the physical vapor deposition method, and having the high commodity value by representing the beautiful appearance color.例文帳に追加

導電性を有する酸化物膜を基材表面上に成膜することにより耐酸化性、耐欠損性、耐摩耗性の全てに優れ、また、物理蒸着法により成膜可能であり、さらに美しい外観色を呈することにより商品価値の高い表面被覆切削工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the method includes mounting the laminated body on a tray 6021 having a +Z-side surface shaped to follow a warpage of the laminated body at an oxidation temperature and selectively oxidizing the selectively oxidized layer from the side surface of the mesa structure using an oxidizing device, thereby generating a current constriction structure in which a current passing region is surrounded by an oxide.例文帳に追加

そして、＋Ｚ側の面が酸化温度での積層体のそり形状に倣った形状を有するトレイ６０２１に積層体を載置し、酸化装置を用いて被選択酸化層をメサの側面から選択的に酸化させ、酸化物が電流通過領域を取り囲んでいる狭窄構造体を作成する。 - 特許庁

In an oxidation furnace 13 of a process system 1 which forms the Ge oxide film on the surface of the Ge substrate 2, the Ge oxide film is formed on the surface of the substrate by supplying an ozone gas from an ozone supply device 11 to the Ge substrate 2 under a pressure of ≤1,000 Pa at a substrate temperature of ≤300°C.例文帳に追加

Ｇｅ基板２の表面にＧｅ酸化膜を形成するプロセスシステム１の酸化炉１３において、１０００Ｐａ以下の圧力及び３００℃以下の基板温度のもとでＧｅ基板２にオゾン供給装置１１からオゾンガスを供して当該基板の表面にＧｅ酸化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a simple method for producing silicone rubber allowing crosslinking of a silicone rubber composition at high temperature in a short time, causing no surface crosslinking inhibition due to oxygen inhibition of an organic peroxide during crosslinking when the organic peroxide is used as a curing agent, and requiring no consideration on surface oxidation deterioration of silicone due to high temperature.例文帳に追加

高温かつ短時間でシリコーンゴム組成物の架橋が可能で、かつ硬化剤として有機過酸化物を用いた場合に、架橋時に有機過酸化物の酸素阻害による表面架橋阻害の心配がなく、高温によるシリコーンの表面酸化劣化を考慮する必要がない、簡便なシリコーンゴムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The oxidation-proof protective layer containing B4C(boron carbide) as a main ingredient of protecting layer is formed on a surface of the carbon material by dispersing and suspending BN(boron nitride) fine particles in dispersion medium, the obtained suspension is applied to the surface of the carbon material and drying and baking it at a high temperature in an inert atmosphere.例文帳に追加

ＢＮ（窒化ほう素）粉体を分散媒中に分散、懸濁した後、得られた懸濁液を、炭素質材料の表面に塗布した後、乾燥し、不活性雰囲気下で、高温焼成することにより、炭素質材料の表面に、Ｂ_4Ｃ（炭化ほう素）を主成分とする耐酸化保護層を形成させる。 - 特許庁

The structure of the oxidation-resistant coating formed on the heat-resistant alloy comprises: an alloy film of the first layer for the purpose of preventing diffusion formed as needed on the surface of a substrate of the heat-resistant alloy; and a composite film of the second layer further formed on the surface, which consists of an alloy layer containing at least Al or Si and reinforced fibers dispersed therein.例文帳に追加

耐熱合金の基材表面に、必要に応じて拡散防止を目的とする第一層の合金皮膜が形成され、さらにその表面に少なくともＡｌ又はＳｉを含む合金層中に強化繊維が分散された第二相の複合皮膜が形成された耐熱合金の耐酸化被覆構造。 - 特許庁

It is presumed that the magnesium is brought into reaction with nickel oxide in the surface of the nickel powder and is present as multiple oxide, and the multiple oxide of the magnesium oxide and nickel oxide is made dense compared to the surface layer of the nickel oxide only to prevent the diffusion of oxygen into the nickel powder and to suppress the oxidation of the nickel powder.例文帳に追加

本マグネシウムは、ニッケル粉表面で酸化ニッケルと反応し複合酸化物として存在していると推測され、この酸化マグネシウムと酸化ニッケルの複合酸化物は、酸化ニッケル単独の表面層にくらべ緻密になり、酸素のニッケル粉中への拡散を防止し、ニッケル粉の酸化を抑制する。 - 特許庁

The coloring method for the magnesium material comprises an anodic oxidation step S13 providing a white oxide film on the surface of a substrate, by anodizing the surface of the substrate made of magnesium or the magnesium alloy, and coloring the anodic oxide film without coating it.例文帳に追加

マグネシウム材の着色方法において、マグネシウム製またはマグネシウム合金製の基材の表面を陽極酸化処理することによって、基材の表面に対して白色の陽極酸化膜を設ける陽極酸化工程Ｓ１３を含み、陽極酸化膜に対して無塗装着色を施すことを特徴とする。 - 特許庁

After introducing nitrogen ions 4 into the surface of a p-type SiC substrate 1, the nitrogen atoms present in an impurity-doped layer 6 are made to diffuse toward the rear surface of the SiC substrate 1, by increasing the number of the interstitial silicon atoms of the SiC substrate 1 by its thermal oxidation, so as to form an n-type impurity diffusion layer 7.例文帳に追加

ｐ型ＳｉＣ基板１の表面に窒素イオン４を導入した後、熱酸化によってＳｉＣ基板１の格子間シリコン原子の数を増加させることにより、不純物ドーピング層６の窒素をＳｉＣ基板１の裏面に向かって拡散させて、ｎ型不純物拡散層７を形成する。 - 特許庁

To provide a method of producing an epitaxial wafer, in which a particular device such as a oxidation furnace directly connected to an epitaxially growing reactor is not used and a particular treatment for cleaning or oxidizing the surface after epitaxially growing is not needed, thereby the production process is made simple, and by which an epitaxial wafer good in surface smoothness is produced.例文帳に追加

エピタキシャル成長反応炉に直結した酸化炉などの特別の装置を用いることなく、また、エピ成長後洗浄または表面酸化のための特別な処理が必要でなく、従来の製造工程を簡略化でき、かつ表面の平坦性が良好であるエピタキシャルウェーハの製造方法の提供。 - 特許庁

Since the second electrode part (cathode) causes energizing via the work (anode) and the electrolytic solution at the nozzle ejector, the position of the surface in the work to be subjected to anodic-oxidation is limited to the vicinity of the ejector of the nozzle having high current density, and a metal oxide coating can be formed on the objective surface part without using a masking material.例文帳に追加

第２電極部（陰極）は、被処理材（陽極）とノズル噴出口の電解液を介して通電されるので陽極酸化される被処理材の表面は電流密度の高いノズルの噴出口近くに限られ、マスキング材を使用することなく目的とする表面部分に金属酸化被膜を形成することができる。 - 特許庁

An anode foil having an oxide film layer formed on the surface and a cathode foil having a film of a metal nitride, a metal carbide, a metal carbonitride, carbon, indium tin oxide or an oxidation retardant conductive material formed previously on the surface are wound through a separator to form a capacitor element which is then subjected to restoration formation.例文帳に追加

表面に酸化皮膜層が形成された陽極箔と、予めその表面に金属窒化物、金属炭化物、金属炭窒化物、カーボン、インジウム酸化スズまたは酸化することの少ない導電性材料からなる皮膜を形成した陰極箔とを、セパレータを介して巻回してコンデンサ素子を形成し修復化成を施す。 - 特許庁

In a method of soldering a workpiece 1 by supplying a reduction gas into a heating zone 7 for soldering, the reduction gas supplied into the heating zone 7 is brought into contact with a heated tungsten heaters 9, 10 so as to reduce the surface of the workpiece 1 or prevent oxidation of the surface of the workpiece 1.例文帳に追加

はんだ付け用の加熱ゾーン７内に還元性ガスを供給し被処理物１をはんだ付けするはんだ付け方法であって、加熱ゾーン７内に供給された還元性ガスを、加熱されたタングステンヒータ９，１０に接触させ、被処理物１表面を還元し、もしくは被処理物１表面の酸化を防止している。 - 特許庁

To obtain a high slag-making promoting action with a refining agent by supplying gaseous oxygen onto molten iron surface and a high dephosphorizing reaction efficiency by restraining the formation of high temperature field by an oxidation reaction on the molten iron surface zone supplied with the gaseous oxygen, in a method for producing a low phosphorus molten iron by a molten iron pre-dephosphorizing treatment.例文帳に追加

溶銑予備脱燐処理による低燐溶銑の製造方法において、気体酸素の溶銑浴面への供給により精錬剤の高い滓化促進作用を得るとともに、気体酸素が供給される溶銑浴面領域での酸化反応による高温場の形成を抑制し、高い脱燐反応効率を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated wafer which suppresses BMD density from increasing and also can sufficiently flatten the surface of a thin film, when flattening the surface of the thin film of the laminated wafer and reducing the thickness of the thin film through a treatment combining an RTA treatment and a sacrificial oxidation treatment.例文帳に追加

ＲＴＡ処理と犠牲酸化処理を組み合わせて、貼り合わせウェーハの薄膜表面の平坦化と薄膜の減厚を行う際に、ＢＭＤ密度の増加を抑制し、かつ、薄膜表面を十分に平坦化することができる貼り合わせウェーハの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The grain-oriented electromagnetic steel sheet with extremely low core loss has a coating layer composed of mainly SiO_2 via an oxide film of mainly SiO_2 formed by interface oxidation reaction on the surface of the steel sheet with no final annealed film and further has the tension-imparting insulating film on the surface of the coating layer.例文帳に追加

仕上げ焼鈍皮膜の無い方向性電磁鋼板表面に、界面酸化反応により生成したＳｉＯ_2を主体とする酸化膜を介してＳｉＯ_2を主体とするコーティング層が存在し、さらにその表面に張力付与型の絶縁皮膜が存在する鉄損の極めて低い方向性電磁鋼板の製造方法。 - 特許庁

On the surface of a tungsten as a first metal for generating heat which becomes the bus-bar of filament wire materials, iridium as a second metal as a protective film for preventing oxidation is coated, and on the surface of the coating of the second metal, thorium oxide or yttrium metal oxide for emitting the thermal electrons is coated.例文帳に追加

フィラメント線材の母線となる発熱用の第１の金属としてのタングステンの表面に、酸化防止用の保護膜としての第２の金属としてのイリジウムをコーティングし、前記第２の金属の被膜の表面に熱電子出用のトリウム酸化物またはイットリウム金属酸化物をコーティングするようにする。 - 特許庁

In a form where the surface of flux-cored extrafine wire solder is coated with a nonionic surfactant, the oxidation of the surface in the solder wire can be prevented, and the quantity of the flux can be reduced accordingly, or weakly active flux can be used, thus the quantity of flux residue can be reduced, or the flux can be made into a non-electrolyte.例文帳に追加

フラックス入り極細線はんだの表面に非イオン系界面活性剤をコートした形態では、はんだ線表面の酸化を防止でき、それだけフラックス量を減少できる、または弱活性フラックスを使用できる結果、フラックス残渣量を減少できる、またはフラックスを非電解質化できる。 - 特許庁

An electrolytic Al plating layer is formed on the surface of an R-T-B rare earth magnet (R is at least a kind of rare earth elements containing Y, and T is Fe or Fe and Co) and an oxidation-resistant layer is formed on the outer layer.例文帳に追加

Ｒ−Ｔ−Ｂ系希土類磁石（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも１種であり、ＴはＦｅまたはＦｅ及びＣｏである。）の表面に電解Ａｌめっき層とその外層に耐酸化層を有することを特徴とする。 - 特許庁

By the action of Se, Sb, Zn and Ba, the concentration of easily oxidizable elements such as Si and Mn onto the surface of the steel sheet caused by selective oxidation upon annealing is suppressed, and the reduction of its plating properties and alloying treatability is prevented.例文帳に追加

鋼板表面に濃化しやすいＳｅ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｂａの作用により、Ｓｉ、Ｍｎなどの易酸化性元素の焼鈍時の選択酸化による鋼板表面への濃化が抑制され、めっき性や合金化処理性の低下が防止される。 - 特許庁

To provide a new external preparation effective for preventing the aging of the skin, keeping the skin to a healthy state and further exhibiting sufficient effect to ameliorate the drying of the skin and various skin diseases by lowering the oxidation potential of the skin surface.例文帳に追加

皮膚表面の酸化電位を軽減させることによって、皮膚の老化を防ぎ、肌を健やかに保つことに加え、皮膚の乾燥や各種皮膚疾患を緩和するのに十分な効果を発揮することができる、新たな外用剤を提供すること。 - 特許庁

The quartz glass material obviates the dust generation of the particles, is satisfactory in hydrofluoric acid durability and thermal oxidation resistance, has high corrosion resistivity to a gaseous halide and/or its plasma, and is excellent in surface characteristics of a member for a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

パーティクルの発塵がなく、フッ酸耐久性や熱酸化速度が良好であり、ハロゲン化物ガス及び／又はそのプラズマに対する耐食性が高く、半導体製造装置用部材など、表面特性に優れた石英ガラス材料として好適である。 - 特許庁

To provide an electrode structure which is free from heating, or oxidation of the surface thereby even when a large current flows, and free from any generation of sparks between a bar and a roller electrode caused by the deformation of the bar or the idling of the roller electrode.例文帳に追加

本発明は大電流を流しても加熱したり、それによって表面酸化したり、条材の変形やローラー電極の空転などで条材とローラー電極との間でスパークが発生しない電極構造の提供を課題とする。 - 特許庁

The micro mass sensor includes a substrate 3, a metal electrode film 4 deposited on the substrate 3, and a sensitive film 2 deposited over the electrode film 4, wherein the sensitive film 2 is formed with micro carbon fibers made hydrophilic by subjecting the fiber surface to an oxidation treatment.例文帳に追加

基板３と、該基板３上に成膜された金属の電極膜４と、該電極膜４上に成膜された感応膜２と、を備え、該感応膜２が、繊維表面を酸化処理して親水化した微細炭素繊維で形成されている。 - 特許庁

In the fuel cell in which power generation is carried out by reacting a fuel gas and an oxidation gas via the polymer electrolyte membrane 23, a water repellent layer 21c is installed at a surface of an oxygen electrode 21 contacting the polymer electrolyte membrane 23.例文帳に追加

燃料ガスと酸化ガスを高分子電解質膜２３を介して反応させることにより、発電を行なう燃料電池において、高分子電解質膜２３に接触する酸素極２１の表面に、撥水層２１ｃを設けている。 - 特許庁

To provide a film forming method for obtaining an extremely thin interface oxide film having high in-plane uniformity of film thickness and less defect by performing a low oxygen partial pressure oxidation while the surface of a silicon layer is protected by a chemical oxide film.例文帳に追加

シリコン層の表面をケミカル酸化膜で保護した状態で低酸素分圧酸化を行うことにより、膜厚の面内均一性が高くて且つ欠陥の少ない極めて薄い界面酸化膜を得ることが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical waveguide substrate which prevents the intrusion of impurities into an optical waveguide substrate to be manufactured by a steam oxidation method having high safety and can thickly oxidize the surface of silicon by suppressing the consumption of energy to a lower level.例文帳に追加

安全性の高いスチーム酸化法で、製造される光導波路基板に不純物が混入することのない、またエネルギーの消耗を少なく抑えてシリコンの表面を厚く酸化できる光導波路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To increase the degree of freedom of design about the surface area of a gas passage and the resistance of the passage, which affect the efficiency of oxidation reaction or steam reforming reaction of hydrocarbon base fuel, and to improve the reaction efficiency of the steam reforming reaction.例文帳に追加

炭化水素系燃料の酸化反応や水蒸気改質反応の反応効率に影響を及ぼすガスの流路の面積や流路の抵抗に対する設計の自由度を高めると共に水蒸気改質反応の反応効率を高める。 - 特許庁

Since the bonding regions are pressed and bonded with each other in the cleaned processing chamber, bonding of firm and high durability can be performed while preventing oxidation and degradation caused by pollution of the cleaned surface of the bonding regions.例文帳に追加

これにより、清浄化した同じ処理室内において接合部位どうしを圧接して接合するので、接合部位の清浄化された表面の酸化や汚染による劣化を防ぎつつ、強固で耐用性の高い接合を行うことができる。 - 特許庁

The anodic oxidation coating is thus provided on the surface of the implantation material backing 1, whereby when the magnesium alloy as the implantation material backing 1 is implanted in a living body, corrosion can be restrained to produce the effect of improving the corrosion resistance of the implantation material.例文帳に追加

移植材基材１表面に陽極酸化皮膜を有することで、移植材基材１であるマグネシウム合金を生体内に移植した際の腐食を抑制できるため、移植材の耐食性を向上させる効果を奏する。 - 特許庁

The resist film 303 on the first metal film 302 is removed, to form a second metal film 305 with a thickness of 200 nm on the exposed part of the first metal film 302, and the surface of the metal film 305 is fixed by an oxidation-reduction substance 306.例文帳に追加

第１の金属膜３０２上のレジスト膜３０３を除去し、第１の電極３０２が露出した部分に第２の金属膜３０５を２００ｎｍ成膜し、金属膜３０５の表面を酸化還元物質３０６によって固定化する。 - 特許庁

The surface on which the boric-acid concentration is degraded is thermally oxidized through a first oxidation process (S3) so as to form an elastic film 50, thus obtaining a silicon dioxide film 51, containing less or no boron as an elastic film 50.例文帳に追加

ホウ素濃度の低下した表面を第１酸化工程（Ｓ３）によって熱酸化し弾性膜５０を形成することにより、ホウ素の含有量の少ないあるいはホウ素を含まない二酸化シリコン膜５１が弾性膜５０として得ることができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing a substrate 10 for a magnetic recording medium by anodically oxidizing the surface of the substrate 1 mainly formed of aluminum to form alumite coating 2, the anodic oxidation is performed by direct-current pulse electrolysis in an oxalic acid bath.例文帳に追加

アルミニウムを主体とする基板１の表面に陽極酸化処理を施してアルマイト皮膜２を形成する磁気記録媒体用基板１０の製造方法において、前記陽極酸化処理をしゅう酸浴による直流パルス電解で行う。 - 特許庁

An aluminum oxide layer 14 is formed in at least one surface of an aluminum substrate 12 by an anode oxidation method, a solution wherein perhydropolysilazane is dissolved is applied on the aluminum oxide layer 14 and a silica glass layer 16 is formed by heating treatment.例文帳に追加

アルミニウム基板１２の少なくとも一方の面に、陽極酸化法により酸化アルミニウム層１４を形成し、酸化アルミニウム層１４上にパーヒドロポリシラザンが溶解した溶液を塗布し、加熱処理することによりシリカガラス層１６を形成する。 - 特許庁

An ONO film for a gate insulating film 25a of a memory transistor of a nonvolatile memory cell is formed, on which the gate electrode 20a of the memory transistor is formed, and the side surface of the gate electrode 20a is oxidized with quick thermal oxidation to form an insulating film 23.例文帳に追加

不揮発性メモリセルのメモリトランジスタのゲート絶縁膜２５ａ用のＯＮＯ膜を形成し、その上にメモリトランジスタのゲート電極２０ａを形成し、ゲート電極２０ａの側面を急速熱酸化により酸化して絶縁膜２３を形成する。 - 特許庁