「surface oxidation」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The beta nickel oxyhydroxide is prepared by chemical oxidation, has almost a globular particle shape, and has a BET specific surface area of 3-50 m^2/g.例文帳に追加

そのベータ型オキシ水酸化ニッケルは、化学酸化により製作され、粒子形状が略球状を用い、そして、このベータ型オキシ水酸化ニッケルのＢＥＴ法による比表面積が３〜５０ｍ^２／ｇの範囲とされる。 - 特許庁

To provide a composite black oxide particle excellent in blackness, oxidation resistance, dispersibility at painting and the surface smoothness of a coated film and to provide its manufacturing method, a black paint and a black matrix.例文帳に追加

より黒色度、耐酸化性、塗料化時の分散性、該塗料を塗膜化した際の塗膜の表面平滑性に優れた複合黒色酸化物粒子、その製造方法、黒色塗料及びブラックマトリックスを提供する。 - 特許庁

Next, anodic oxidation is performed by using the data line as a feeder to form a thick second tantalum oxide film 7b constituting an oxide film 72 for the holding capacitor only on the surface side of the second tantalum pattern 6b.例文帳に追加

次に、データ線２を給電線として用いて、陽極酸化を行い、第２のタンタルパターン６ｂの表面側のみに、保持容量用酸化膜７２を構成する厚い第２のタンタル酸化膜７ｂを形成する。 - 特許庁

In this gas sensor, plural solid electrolyte coatings 6 equipped with a pair of electrodes are formed on a board equipped with a heating element through an insulating film, and porous oxidation catalysts 7 are provided on the surface of each one electrode 5.例文帳に追加

発熱体を備えた基板上に絶縁膜を介して一対の電極を備えた複数の固体電解質被膜６を形成し、それぞれの一方の電極５面に多孔性酸化触媒７を備えたガスセンサである。 - 特許庁

For this purpose, there is a need of controlling the oxidation of Sn in the surface of the stock, concretely of controlling the annealing atmosphere or the pickling method after annealing in the producing process to the proper one.例文帳に追加

そのためには、素材表面においてＳｎの酸化を抑制する必要があり、具体的には、製造工程における焼鈍雰囲気あるいは焼鈍後の酸洗方法を適正なものにする必要がある。 - 特許庁

The catalytic surface, with which the molybdenum compound liberated from the metal oxide catalyst comes into contact, of the vapor phase reaction apparatus is set to -0.2-2.8 V in the standard electrode potential of oxidation reaction in an aqueous solution system.例文帳に追加

金属酸化物触媒から遊離したモリブデン化合物が接触する気相反応装置の接触面を、水溶液系における酸化反応の標準電極電位が−０．２Ｖ以上、２．８Ｖ以下であるものとする。 - 特許庁

After the lower electrode 106a of the capacitor is formed, a thermal oxidation process is performed so that impurity ions implanted into the lower electrode 106a of the capacitor are isolated on the upper surface of the lower electrode of the capacitor.例文帳に追加

キャパシター下部電極１０６ａが形成された後、キャパシター下部電極１０６ａに注入された不純物イオンがキャパシター下部電極の上部表面に隔離させるために熱酸化工程を遂行する。 - 特許庁

The polymer oxidation product is suitable for a material added when dispersing a pigment to a master batch in manufacture of an aqueous dispersion, or surface modification of polyolefin or changing its polarity.例文帳に追加

前記ポリマー酸化生成物は、水性分散液を製造するために、マスターバッチに顔料を分散するときに添加される材料として、またはポリオレフィンの表面改質または極性変更のために非常に適している。 - 特許庁

Methanol and hydrogen peroxide solution are mixed on the surface of a reforming catalyst filled in the vessel 9 to cause a partial oxidation reaction, and thus a reformed gas including gaseous hydrogen is generated while being accompanied by exothermic heat.例文帳に追加

メタノールと過酸化水素水とは、反応容器９に充填された改質触媒の触媒表面で初めて混合して部分酸化反応を引き起し、発熱を伴って水素ガスを含む改質ガスが生成される。 - 特許庁

An oxidation preventing film comprising a mercapto compound having a benzene ring or a hetero-ring or a reducible compound having a bonding group with a metal constituting the metal film is formed so as to cover the surface of the metal film.例文帳に追加

ベンゼン環やヘテロ環を有するメルカプト化合物または金属膜を構成する金属との結合基を有する還元性化合物からなる酸化防止膜を、金属膜の表面を覆うように形成する。 - 特許庁

The heat treatment process removes a metal oxide produced by the selective oxidation process by a reducing a reaction or prevents the formation of whisker nuclei by making the metal oxide contain hydrogen atoms to suppress surface mobility.例文帳に追加

熱処理工程は選択的酸化工程による金属酸化物を還元反応によって除去したり、又は、金属酸化物の内部に水素原子を含ませて、ウィスカ核の形成を防止し、表面移動度を抑制する。 - 特許庁

The chemical polishing liquid comprises: an oxidizing agent of etching a metallic material; a film forming agent of forming a corrosion resistant film on the surface of the metal so as to prevent its oxidation caused by the oxidizing agent; and a dissolving agent.例文帳に追加

金属材料を腐食する酸化剤と、金属表面に耐食性被膜を生成させて酸化剤による酸化を防止する被膜形成剤と、溶解剤とを含有する化学研磨液を使用する。 - 特許庁

A deterioration preventing means 2 by optical oxidation is performed to the outside surface of an end part of a resin tube main body 1, and the deterioration preventing means 2 is formed of a material having 0 % of transmittance of the beam having 200-400 nm of wave length.例文帳に追加

光酸化による劣化防止手段２が樹脂管本体１の端部外表面に施され、劣化防止手段２は、波長２００〜４００ｎｍの光線透過率が０％である材質からなっている。 - 特許庁

The selective oxide films 3-1, 3-2,... for isolating element forming regions from each other are formed by forming an oxidation resistant sidewall 15 on the inner circumferential surface of a mask opening 14a and oxidizing it after shrinking.例文帳に追加

尚、マスク開口１４ａの内周面に耐酸化性サイドウォール１５を形成することによりシュリンクしたうえで選択酸化することにより素子形成領域間分離用選択酸化膜３−１、３−２、・・・を形成する。 - 特許庁

A surface of an aluminum alloy base material 11 is subjected to anodic oxidation to form a porous layer 12, and a coating layer 13 with a lower thermal conductivity than the base material 11 is disposed on the porous layer 12.例文帳に追加

アルミ合金製母材１１の表面に陽極酸化処理によるポーラス層１２を形成し、該ポーラス層１２の上に上記母材１１よりも熱伝導率が低い被覆層１３を設けた構造とする。 - 特許庁

In an oxidation process (S1) in which metal in an oxide film formed on a surface of a component composing a nuclear power plant is oxidized and dissolved with an oxidizing solution, an aqueous solution containing peroxydisulfuric acid is used as a solution.例文帳に追加

原子力プラントを構成する部品の表面に形成された酸化皮膜中の金属を、酸化性の溶液を用いて酸化溶解する酸化工程（Ｓ１）で、溶液として、ペルオキソ二硫酸を含む水溶液を用いる。 - 特許庁

(3) A magnetic recording medium wherein a magnetic layer is formed by applying a magnetic paint containing magnetic powder formed by subjecting the ferromagnetic powder consisting of the super fine particles coated with carbon to surface oxidation treatment, a dispersing agent and a bonding agent onto a substrate.例文帳に追加

（３）炭素被覆超微粒子強磁性粉末を表面酸化処理した磁性粉、分散剤および結合剤を含有する磁性塗料を支持体に塗布して磁性層を形成させた磁気記録媒体。 - 特許庁

To give a sufficient jointing strength to a soldered junction, and in addition, to surely prevent the surface oxidation of an Ni-P film in a circuit electrode installed to the package, etc., of an integrated circuit.例文帳に追加

本発明は集積回路のパッケージなどに設けられる回路電極に関し、半田接合部に十分な接合強度を付与し、かつ、Ｎｉ−Ｐ膜の表面酸化を確実に防止することを目的とする。 - 特許庁

The surface cleaning method of the boat for semiconductor heat treatment whose surface is formed of SiC 102 is provided with a process for oxidizing the surface of the heat treatment boat by thermal oxidation and a process for removing a part of the oxide film 104 formed in the oxidizing process.例文帳に追加

少なくとも表面がＳｉＣ１０２で形成される半導体熱処理用ボートの表面清浄化方法であって、熱酸化により熱処理用ボートの表面を酸化する工程と、酸化する工程で形成された酸化膜１０４の一部を除去する工程を有することを特徴とする半導体ウェーハ熱処理用ボートの表面清浄化方法。 - 特許庁

Since an outer surface of a transparent electrode 55 can be shut off from air and moisture by forming a coating film 102 made of transparent silicon resin over the whole upper surface of the transparent electrode 55 formed in an outer surface of a glass substrate 52a, the reduction and oxidation reactions caused by applying the high voltage can be prevented.例文帳に追加

ガラス基板５２ａの外面に形成された透明電極５５の上面の全面に亘って、透明なシリコン樹脂からなるコーティング膜１０２を形成することにより、空気および湿気から透明電極５５の外面を遮断できるので、高電圧を印可することによって起こる還元および酸化反応を防止することが可能となる。 - 特許庁

An electrode cap and a resistor assembly element are integrated to form a resistor, after a resistance value is adjusted and an insulating protective film is formed, flaws and dirt sticking to the electrode cap surface made of Sn/Sn alloy plating during a manufacturing process and an oxidized layer formed on the surface are removed by hydrochloric acid to cleans them, and an oxidation preventing film is formed on the cleansed surface.例文帳に追加

電極キャップと抵抗体を一体化して抵抗器を形成し、抵抗値調整、絶縁保護膜を形成した後に、Ｓｎ／Ｓｎ合金メッキからなる電極キャップ表面に製造工程で付いた傷や汚れや表面に形成された酸化層を塩酸系溶液で除去して清浄にし、清浄にした表面に酸化防止膜を形成する。 - 特許庁

This method/system is provided with a reduction-dissolving process S2 for bringing a surface of a radioactive chemical having a radioactive oxide skin on its surface into contact with a reducing decontaminant solution dissolved with a mono-carboxylic acid and a dicarboxylic acid, and an oxidation-dissolving process S6 for bringing the surface of the radioactive chemical into contact with an oxidizing decontaminant solution dissolved with an oxidant.例文帳に追加

表面に放射性の酸化皮膜を有する放射化部品の表面をモノカルボン酸とジカルボン酸が溶解した還元性の除染液に接触させる還元溶解工程Ｓ２と、前記放射化部品の表面を酸化剤が溶解した酸化性の除染液に接触させる酸化溶解工程Ｓ６とを備えている構成とする。 - 特許庁

Surface of a copper film 3 is changed to cuprous oxide (Cu_2O)5 insoluble to water by polishing the wafer surface by using a cleaning agent having pH adjusted to 7-12 immediately after a barrier metal film polishing process in the Cu-CMP process when copper interconnections are formed, and an antioxidation film 6 is formed by making an oxidation inhibitor adhere to the surface of Cu_2O5.例文帳に追加

銅配線形成時のＣｕ−ＣＭＰ工程におけるバリアメタル膜研磨工程直後に、ｐＨを７〜１２に調整した洗浄剤を用いてウエハ表面を研磨することで、銅膜３表面を水に不溶な酸化第一銅（Ｃｕ_２Ｏ）５に変化させると共に、Ｃｕ_２Ｏ５表面に酸化防止剤を付着させて酸化防止膜６を形成する。 - 特許庁

The thermopile 4 is formed on the upper surface of an Si substrate 2; a self-organizing film 6 is produced by combining an organic function of an organic silane compound and an insulation film 5a on the insulation film 5a on the surface of the hot junction of this thermopile 4; and oxidation catalyst particles 7, such as Pt are carried by the surface of this self-organizing film 6 by chemically bonding.例文帳に追加

Ｓｉ基板２の上面に、サーモパイル４が形成され、このサーモパイル４の温接点部表面の絶縁膜５ａ上に、有機シラン化合物の有機官能と絶縁膜５ａとの結合により自己組織化膜６を生成し、この自己組織化膜６の表面にＰｔ等の酸化触媒粒子７を化学結合により担持させてなる。 - 特許庁

In addition, a third insulator film 11 that is thinner and stable is formed as a result of thermal oxidation of a surface of the light receiving portion 5, a p-type impurity ion is injected in a surface portion of the light receiving portion 5 of an n-type semiconductor substrate 1 through this third insulator film 11 that is thin and stable, and a high-concentration surface p+ layer is formed.例文帳に追加

さらに、受光部５の表面を熱酸化して膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を成膜し、この膜厚が薄く安定した第３の絶縁膜１１を通してｎ型半導体基板１の受光部５の表面部にｐ型不純物イオンの注入が為されて高濃度表面ｐ＋層を形成する。 - 特許庁

After a plurality of steps 10a and a plurality of terraces 10b are formed on a silicon substrate 10 by re-arraying silicon atoms on the surface thereof, thermal oxidation is performed for the surface of the silicon substrate 10 while the surface is prevented from being contaminated, so that a crystalline silicon dioxide, that is, a crystalline oxide 11 is epitaxially grown on the step 10a.例文帳に追加

シリコン基板１０に、その表面のシリコン原子を再配列させることにより、複数のステップ１０ａと複数のテラス１０ｂとを形成した後、シリコン基板１０の表面が汚染されることを防止しつつ該表面に対して熱酸化を行なって、ステップ１０ａ上に結晶質二酸化シリコンつまり結晶質酸化物１１をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

The group III-V nitride semiconductor for use in a photocatalytic oxidation/reduction reaction is characterized by comprising a base layer and a surface layer overlaid thereon each having mutually different semiconductor characteristics forming an interface contacting the base layer and the surface layer, whereby at least the surface layer is made to have a function of accelerating carrier migration.例文帳に追加

III −Ｖ族窒化物半導体は、光触媒酸化還元反応用のIII −Ｖ族窒化物半導体であって、互いに半導体特性の異なる基層およびこの基層に積層された表層を有し、前記基層と前記表層とが接触する界面が形成されることにより、少なくとも表層がキャリア移動促進作用を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the method of forming a semiconductor gate insulating film which forms a silicon oxide film by oxidizing the silicon surface of a silicon substrate held at a temperature of 500°C or less by using oxygen radicals, hydrogen atoms terminating the surface of the silicon substrate are removed until the surface density of 1×10^14 atoms/cm^2 or less is attained before radical oxidation is carried out.例文帳に追加

５００℃以下の温度で保持されたシリコン基板に対し、酸素ラジカルを用いてシリコン表面を酸化し、シリコン酸化膜を形成する半導体ゲート絶縁膜の形成方法において、ラジカル酸化を行う前に、シリコン基板表面を終端している水素原子を１ｘ１０^１４原子／ｃｍ^２以下の面密度にまで除去することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and an apparatus for manufacturing the semiconductor device where the surface of a copper film is etched precisely, in a short time with few steps, while the surface roughness of the copper film is not progressed in the etching process of the surface of the copper film that includes oxidation of the copper film and removing the oxide thereof, with an acid or alkali.例文帳に追加

銅膜を酸化させその酸化物を酸もしくはアルカリなどで除去することにより銅膜の表面をエッチングする方法において、エッチング処理を行った後の銅膜表面が荒れてしまうことが少なく、少ない工程で短時間に精度良く行うことができる半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The aluminum alloy material includes an aluminum alloy base material with its surface being subjected to anode oxidation with the average thickness of 1-20 μm, an organic phosphonic acid primer coating formed on the surface of the aluminum alloy base material, and a fluorocarbon resin coating formed on the surface of the organic phosphonic acid primer coating and having an average thickness of 1 to 100 μm after drying.例文帳に追加

表面が１〜２０μｍの平均厚みで陽極酸化処理されたアルミニウム合金で成る母材と、アルミニウム合金で成る母材の表面に形成された有機ホスホン酸下地皮膜と、有機ホスホン酸下地皮膜の表面に形成された乾燥後の平均厚みが１〜１００μｍのフッ素樹脂塗料皮膜よりなる。 - 特許庁

The surface treatment method includes steps of producing the macro pores having the inner diameter with the level of several tens of μm by acid treatment of the surface; producing the micro pores having the inner diameter of 1-2 μm by blast treatment of the implant surface; and producing the nano discharge craters having an inner diameter with the level of several tens of nm by anodic oxidation treatment of the implant surface.例文帳に追加

その表面処理方法を、表面を酸処理することにより数十マイクロメートルレベル内径のマクロ孔を作製する行程、インプラント表面をブラスト処理することにより１〜２マイクロメートル内径のミクロ孔を作製する行程、インプラント表面を陽極酸化処理することにより数十ナノメートルレベル内径のナノ放電痕を作製する行程から成るインプラントの表面処理方法とする。 - 特許庁

This method for manufacturing a support for a lithographic printing plate applies treatments such as at least, mechanical surface roughing with the use of a rotary brush and a polishing agent, electrochemical surface roughing using alternating current in a water solution containing nitric acid, and electrochemical surface roughing and anodic oxidation using alternating current in a water solution containing hydrochloric acid in that order to an aluminum sheet with an uneven surface pattern.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有するアルミニウム板に、少なくとも、回転するブラシと研磨剤とを用いた機械的粗面化処理、硝酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理、塩酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理および陽極酸化処理をこの順に施す平版印刷版用支持体の製造方法。 - 特許庁

When fried cake is produced, cake is deep-fried and followed by coating the surface with an oil composition for coating to provide the fried cake having rapidly improved appearance, taste, food feeling and oxidation stability.例文帳に追加

揚げ菓子を製造する際に、油ちょうした揚げ菓子の表面に、続いてコーティング用油脂組成物を塗布することにより、食品の外観・風味・食感、さらに酸化安定性を飛躍的に向上する揚げ菓子類を得ることができる。 - 特許庁

To prevent the breakdown voltage between an emitter and a collector and a breakdown yield from lowering by forming a base region on the surface of a semiconductor substrate other than a selective oxidation silicon film formation region and forming a second-conductive type emitter region in the base region.例文帳に追加

超高速動作用の微細な構造とするために、選択酸化シリコン膜とエミッタ領域が接してもエミッタ−コレクタ間の耐圧や耐圧歩留りが劣化することがない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a surface oxide film 4,that is formed by natural oxidation is removed from the emitter opening 7, a non-doped amorphous silicon film 14 is deposited and turned into crystals large in grain diameter by a thermal treatment which is carried out at a low temperature.例文帳に追加

次にエミッタ開口部７上の自然酸化による表面酸化膜４を除去した後、ノンドープの非晶質シリコン膜１４を堆積し、低温の熱処理を加えることにより、結晶粒径の大きな多結晶状態にする。 - 特許庁

The surface treatment method for a metal base material comprises: a reduction treatment where an oxide film formed on a metal base material is subjected to reduction treatment; and an oxidation treatment stage where the oxide film subjected to the reduction treatment is oxidized.例文帳に追加

本発明の金属基材上の表面処理方法は、金属基材上に形成される酸化物皮膜を還元処理する還元処理工程と、前記還元処理された酸化物皮膜を酸化する酸化処理工程とを含む。 - 特許庁

In the manufacturing method of the copper damascine multilayer wiring in a semiconductor integrated circuit device, heating at 300-400°C is executed in a reductive gas atmosphere or plasma annealing is executed in a reductive gas plasma atmosphere after oxidation processing is executed on the surface of the copper.例文帳に追加

半導体集積回路装置における銅ダマシン多層配線の形成方法であって、銅表面の酸化処理を行った後に、還元性ガス雰囲気にて300〜400℃の加熱あるいは還元性ガスプラズマ雰囲気にてプラズマアニールを行う。 - 特許庁

The aluminum formed by subjecting aluminum having surface roughness Ra of 3-100 μm to an anodic oxidation film treatment and setting the sealing ratio to 40% or less, is directly integrated with the fluorine rubber vulcanization material without an adhesive.例文帳に追加

表面粗さＲａが３〜１００μｍのアルミニウムを陽性酸化皮膜処理しかつ封孔率を４０％以下としたアルミニウムに、接着剤を介さずにフッ素ゴム加硫物を直接一体化したアルミニウム一体型ガスケット。 - 特許庁

Since the upper surface of the first contact plug 108 is covered with the second insulating film 110 and the third insulating film 111 during heat treatment, oxidation and missing of the first contact plug 108 can be prevented.例文帳に追加

これにより、熱処理時に、第１のコンタクトプラグ１０８の上面が第２の絶縁膜１１０及び第３の絶縁膜１１１によって覆われているので、第１のコンタクトプラグ１０８の酸化及び消失を防止することができる。 - 特許庁

To accurately judge the repairing or replacing period of a gas turbine blade in a non-destructive manner by measuring a crack interval generated in the surface of a corrosion-resistant, oxidation-resistant and heat-resistant coating film in the gas turbine blade exposed to high temperature combustion gas.例文帳に追加

高温の燃焼ガスに曝されるガスタービン翼等における耐食、耐酸化、耐熱コーティング皮膜の表面に発生するき裂間隔を計測し、ガスタービン翼の補修または交換時期を非破壊的に的確に判定する。 - 特許庁

To provide a method of depositing film for precisely forming a tanta lum oxidation film having a small thickness that has very high in-plane uniform ity of the thickness, very small surface roughness, and moreover satisfactory electrical properties.例文帳に追加

低温でも、膜厚の面内均一性が非常に高くて表面粗さは非常に小さく、しかも電気的特性が良好な薄い膜厚のタンタル酸化膜を精度良く形成することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an Ni-Fe-P-based electroless-plated film which can form an oxidation prevention film of several nanometers on the surface side, by controlling the concentration of sodium potassium tartrate in particular, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

特に、酒石酸ナトリウムカリウムの濃度を調整して、表面側に数ｎｍの酸化防止膜を形成することが可能なＮｉＦｅＰ系無電解メッキ膜及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

(F2): In the first honeycomb filter, an oxidation catalyst containing at least one material selected from the group of platinum etc. is supported on a part or the whole parts of inner surface of the pores in the partition wall matrix.例文帳に追加

（Ｆ２）第１のハニカムフィルタは、隔壁母材の細孔の内表面の一部又は全部に、白金、パラジウム、セリア、及びアルミナからなる材料群から選ばれる少なくとも一種の材料を含有する酸化触媒が担持されている。 - 特許庁

To suppress degradation of food due to oxidation as much as possible when oil containing liquefied food such as mayonnaise, dressing and sauce using diglyceride is received in a squeezing container, and make it easy to stick a label and to print or the like on the external surface of the container.例文帳に追加

ジグリセリドを用いたマヨネーズ、ドレッシング、ソース等の油脂含有液状食品をスクイズ容器に収容するにあたり、食品の酸化劣化をできる限り押さえ、容器の外表面へのラベルの貼着や印刷等を容易とする。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is formed of a photosensitive layer on a conductive base and the electrophotographic photoreceptor is characterized in that the photosensitive layer contains polyolefin particles of ≤4 μm in mean particle size, having been subjected to surface oxidation processing.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層からなる電子写真感光体において、該感光層に表面酸化処理された平均粒径４μｍ以下のポリオレフィン粒子を含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁