| 意味 | 例文 |
surface oxidationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1670件
To provide an electron beam irradiation device capable of obtaining a condition without charging up an electrode surface of an electrostatic deflection apparatus and an electrostatic lens, maintaining highly precise exposure for a long time, and having an anti-oxidation function of the electrode surface for a long period of time.例文帳に追加
静電偏向器、静電レンズの電極表面をチャージアップすることが殆どない状態を実現し、高精度な露光を長時間維持することが可能で、且つ長期間に亘り電極表面の酸化防止機能を有する電子ビーム照射装置を提供する。 - 特許庁
A photocatalyst layer 9 carrying a dye 8 is formed through a transparent conductive membrane 7 on the surface of a main electrode base 2 and an oxidation-reduction catalyst layer 10 is formed through the transparent conductive membrane 7 on the surface of an opposing electrode base 3.例文帳に追加
主電極基部2の表面には、透明導電性膜7を介して色素8を担持した光触媒層9が形成され、対向電極基部3の表面には、透明導電性膜7を介して酸化還元触媒層10が形成されている。 - 特許庁
The aqueous oxidation-reduction image forming composition comprises an organic reducing agent and a dispersion material of silver (carboxylate-n-alkylthiolate) fine particules having a surface modifier on the surfaces, the surface modifier being a nonionic oligomer surfactant based on a vinyl polymer having an amide functional group.例文帳に追加
アミド官能基を有するビニルポリマーを基礎とした非イオン性オリゴマー界面活性剤である表面改質剤を表面に有する銀(カルボシキレート−n−アルキルチオレート)微粒子の分散体および有機還元剤を含んでなる水系酸化還元画像形成組成物。 - 特許庁
To provide a polishing device capable of preventing oxidation on a wafer surface after a polishing process and preventing the occurrence of a photoelectromotive force in a pn junction beneath the wafer surface to prevent the adsorption of different kinds of molecules or particles.例文帳に追加
研磨加工後のウエーハ表面の酸化を防止することが可能な研磨装置、並びにウエーハ表面下のpn接合部において光起電力の発生を防止して異種分子の吸着やパーティクル吸着を予防することが可能な研磨装置を提供する。 - 特許庁
Thereby, a partial oxidation reaction being the exothermic reaction is allowed to occur on the catalyst 20 supported on one surface of the partition wall 12 and the endothermic reaction such as steam-reforming reaction is allowed to occur on the catalyst 22 supported on the other surface of the partition wall 12.例文帳に追加
これにより、隔壁12の一方の面に担持された触媒20上では発熱反応である部分酸化反応を生じさせ、隔壁12の他方の面に担持された触媒22上では水蒸気改質反応等の吸熱反応を生じさせる。 - 特許庁
Since the alkaline earth metal oxidized film once generated has closeness and toughness, is not broken in such a degree as the variation of the molten metal surface during operating a die casting, and the molten metal surface is stably covered and shut off from the outer surrounding atmosphere, and the oxidation of the molten metal is prevented.例文帳に追加
一旦生成したアルカリ土類金属酸化皮膜は、緻密かつ強靭であるため、ダイカスト操業中の湯面変動程度では破砕されることがなく、安定して溶湯表面を被覆して外囲雰囲気から遮断して、溶湯の酸化を防止する。 - 特許庁
The method for heating the steel material, which reduces the damage due to high-temperature oxidation, includes forming a coating film on the surface of the steel material by applying an aqueous solution containing an aluminum metal salt and/or a lanthanoid metal salt to the surface, prior to the heating of the steel material.例文帳に追加
鋼材の加熱に先立ち、該鋼材表面にアルミニウム金属塩および/またはランタノイド金属塩を含む水溶液を塗布することによりコーティング膜を形成することを特徴とする、高温酸化による損傷を少なくする鋼材の加熱方法。 - 特許庁
This oxidation-resistant composite material is provided with a base 4, a dense glass layer 8 formed on the surface layer side of the base 4 and capable of suppressing diffusion of corrosive species, and a porous glass layer 10 constituting at least a part of the surface of the dense glass layer 8.例文帳に追加
基体4と、当該基体4の表層側に形成され腐食種の拡散を抑制可能な緻密質ガラス層8と、この緻密質ガラス層8の表面の少なくとも一部を構成する多孔質ガラス層10と、を備える、耐酸化性複合材料とする。 - 特許庁
The manufacturing method for a structure having thin holes comprises a process to prepare a base board 2 having recesses at the surface, a process to form a film 11 as work to be processed on the surface of the board, and a process to subject the film as work to be processed to a positive electrode oxidation.例文帳に追加
本発明の細孔を有する構造体の製造方法は、(1)表面に凹部を有する基板2を用意する工程と、(2)前記基板表面に被加工物膜11を配置する工程と、(3)前記被加工物膜を陽極酸化する工程とを有する。 - 特許庁
An organic dye is held in a film hole of an anodic oxidation film 3, and the surface of the aluminum-based member 2 is uniformly colored to form a first colored layer 42, and thereafter, a second organic dye is diagonally sprayed to color a part of the surface of the aluminum-based member 2.例文帳に追加
陽極酸化皮膜3の皮膜孔に有機染料を保持させ、アルミニウム系部材2の表面を均一に着色して第1の着色層42を形成した後、第2の有機染料を斜めに吹き付け、アルミニウム系部材2の表面の一部を着色する。 - 特許庁
The top of an aluminum substrate surface-treated with an acidic aqueous solution of ≤pH 5 at 10-70°C after surface roughening and anodic oxidation is coated with a silver halide-containing emulsion layer to obtain the objective silver salt diffusion transfer type planographic printing plate.例文帳に追加
粗面化処理及び陽極酸化処理に続き、その表面を10〜70℃でpH5以下の酸性の水溶液で処理されたアルミニウム支持体上に、ハロゲン化銀を含む乳剤層を塗布してなることを特徴とする銀塩拡散転写型平版印刷版。 - 特許庁
This intake duct 10 can largely secure the surface area for contacting the fuel vapor, the oxidation gas and the adsorbing substance filled in the intake duct 10 by sticking the adsorbing substance to a surface of the fiber of the nonwoven fabric 14a.例文帳に追加
この吸気ダクト10によれば、不織布14aの繊維の表面に吸着物質が付着していることによって吸気ダクト10内に充満した燃料蒸気および酸化ガスと吸着物質とが接触する表面積を大きく確保することができる。 - 特許庁
Alcohol oxidase (AOX) is immobilized to the surface of a hydrogen peroxide electrode, polymer coating is applied to the outermost surface, and the existence of the aldehyde compound or alcoholic compound can be detected and measured based on the oxidation current value of the hydrogen peroxide or its variation.例文帳に追加
過酸化水素電極の表面にアルコール酸化酵素(AOX)が固定され、最表面には高分子被覆が配設されて、過酸化水素の酸化電流値、またはその変化によりアルデヒド化合物もしくはアルコール化合物の存在を検出測定可能としている。 - 特許庁
To perform an ultra-high sensitivity analysis, when analyzing chemically the kinds and quantities of metallic impurities existent on the surface of a semiconductor substrate, by substituting for a conventional acid for decomposing a surface oxidation film an analysis suited acid accompanied by no entrapped contaminant.例文帳に追加
半導体基板表面上に存在する金属不純物の種類および量を化学分析する際に、表面酸化膜を分解するための酸を汚染の混入無く分析に適した酸に置換し、超高感度分析を行なうことを目的とする。 - 特許庁
To provide a nickel fine powder reduced in heat shrinkage when fired, improved in oxidation resistance and with the surface modified by perovskite-structure barium titanate, a nickel fine powder with the surface modified by a precursor for barium titanate and a method for manufacturing them.例文帳に追加
焼成時の熱収縮率が小さく、耐酸化性が向上している、ペロブスカイト型構造のチタン酸バリウムで表面修飾されたニッケル微粉、チタン酸バリウムの前駆体で表面修飾されたニッケル微粉、それらの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate plating apparatus which prevents detachment or oxidation of a black film formed on the surface even when an anode is formed of copper-containing phosphor, and fills a space between a surface of a substrate to be plated and the anode with the plating solution not leaving any air therebetween.例文帳に追加
アノードを含リン銅で構成しても、この表面に生成されるブラックフィルムの脱落や酸化を防止し、しかも基板の被めっき面とアノードとの間を空気が存在しない状態でめっき液で満たすことができるようにした基板のめっき装置を提供する。 - 特許庁
To provide a process for the production of a tin-plated steel sheet, by which the surface appearance or the close adhesion of a coating is inhibited from being deteriorated by the surface oxidation of the tin-plated layer and a chemical conversion treatment can be performed inexpensively; a tin-plated steel sheet; and a chemical conversion treatment fluid.例文帳に追加
Crを用いず、錫めっき表面の酸化に起因する外観の劣化や塗料密着性の低下を抑制でき、しかも安価に化成処理が可能な錫めっき鋼板の製造方法および錫めっき鋼板ならびに化成処理液を提供する。 - 特許庁
At first, a silicon nitride film 7 having a first thickness is formed on an entire surface of an element region, and next after the silicon nitride film is removed only from the region having a second thickness, again the silicon oxide is formed on the entire surface by the method combined oxidation with nitriding.例文帳に追加
最初に素子領域全面に第1の厚みを持つシリコン窒化膜7を形成し,次に第2の厚みを形成する領域のみシリコン窒化膜を除去した後、再び全面に酸化と窒化を組み合わせた方法によりシリコン酸化膜を形成する。 - 特許庁
The first coating layer 14 can be obtained by at least one means of a step of anodizing the surface 16 to be treated to give high corrosion resistance to the surface 16 to be treated, and a step of dipping the machanical component 12 treated by the anode oxidation in dichromate aqueous solution to close an arbitrary hole or a minute crack 20 which might be formed by the anode oxidation.例文帳に追加
第1コーティング層14は、前記被処理面16に高腐食耐性を与えるように前記被処理面16を陽極酸化させるステップと、前記陽極酸化において形成され得る任意の孔又は微小クラック20を閉じるように、前記陽極酸化で処理される前記機械部品12を重クロム酸塩水溶液に浸すステップとのうちの少なくとも1つの手段によって得ることができる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical waveguide substrate of high quality in which particles or recessed pits caused by an oxidation- induced lamination defect are few on a quartz film when the quartz film becoming an optical waveguide is formed on the surface by oxidizing the surface of a silicon substrate relatively thick.例文帳に追加
シリコン基板の表面を比較的厚く酸化して、表面に光導波路となる石英膜を形成させる際、酸化誘起積層欠陥を起因とするパーティクルまたは凹状ピットが石英膜上に少ない高品質な光導波路基板を製造する方法を提供する。 - 特許庁
An oxidation-resistant film is deposited on a surface of a titanium aluminum alloy by allowing particles of an iron alloy sucked and heated in air heated at 200 to 450°C to be collided against the surface of the titanium aluminum alloy at high speed of 200 to 350 m/sec.例文帳に追加
200℃以上であって450℃以下に加熱された空気中に吸引されて加熱された鉄合金の粒子を、チタンアルミ合金の表面に200m/sec以上であって350m/sec以下の高速度で衝突させることにより、前記表面に耐酸化性皮膜を形成すること。 - 特許庁
To obtain a substrate heater for semiconductor-manufacturing equipment, that can stably supply heat to a semiconductor substrate by avoiding the oxidation of a surface that directly makes contact with at least the semiconductor substrate or a susceptor within a heating plate surface, even if oxygen is used as the reaction gas.例文帳に追加
例え反応ガスとして酸素を使用しても、加熱板表面の内の、少なくとも半導体基板またはサセプタと直接接触する面の酸化を極力回避して、半導体基板に安定した熱供給を行えるようにした半導体製造装置用基板ヒータを提供する。 - 特許庁
Then, after a first metal oxide layer is formed on the surface of the first metal layer which is to be the bottom layer, the surface of base material containing at least one metal layer is subjected to any one of oxidation treatment, nitriding treatment, and oxynitriding treatment so that respective layers have a different element configuration.例文帳に追加
次いで、最下層となる第1金属層の表面に第1金属酸化物層を形成した後に、層間において構成元素が異なるように、一つ以上の金属層を含む下地の表面に対して酸化処理、窒化処理、及び酸窒化処理のいずれかの処理を施す。 - 特許庁
While a substrate surface 2 made of the magnesium or the magnesium alloy is immersed into an electrolyte 4 of 40 to 70°C containing alkali metal hydroxide and aluminate, the substrate surface is subjected, as one electrode, to the anodic oxidation treatment at current density 2 to 7 A/dm^2 without producing a spark discharge.例文帳に追加
マグネシウム製またはマグネシウム合金製の基材2を、アルカリ金属水酸化物およびアルミン酸塩を含む40〜70℃の電解液4に浸漬しつつ、当該基材を一方の電極として、2〜7A/dm^2の電流密度で火花放電を生じさせずに陽極酸化処理を行う。 - 特許庁
To obtain a beautiful weld zone by improving flowability while not only the surface of a melting part is protected from air oxidation by shutting off air in a weld zone with liquid flux and vaporization flux, and but also the surface of the melting part is protected by causing the flux components react with the melting part with welding heat.例文帳に追加
液体フラックスや気化フラックスで溶接部の空気を遮断して溶融部の表面を空気酸化から保護するだけでなく、フラックスの成分が溶接熱で溶融部と反応して溶融部表面を保護するとともに流動性を向上させて秀麗な溶接部を得る。 - 特許庁
The SOF having stickiness is attached to the surface of the soot, and when the exhaust gas flows through an oxidation catalyst, the soot is captured by the catalyst by the use of SOF on the surface, and the soot is left combusting at the same time as SOF combustion by the oxidating action (e in the figure attached).例文帳に追加
粘着性を有するSOFをスートの表面に付着させ、排ガスが酸化触媒を流通する際に、表面のSOFを利用してスートを触媒上に捕捉させ、酸化作用によりSOFが燃焼したときに同時にスートも燃焼させる(図中のe)。 - 特許庁
The surface layer of the semiconductor substrate 1 exposed from the gate electrode 3a and the TEOS sidewall 5 is subjected to preprocessing based on a surface gas etching reaction in which processing of supplying a hydrofluoric acid gas and an ammonia gas and thermal processing are executed, thereby removing a natural oxidation film 6.例文帳に追加
ゲート電極3aおよびTEOSサイドウォール5から露出された半導体基板1の表面層に対して、フッ酸ガスとアンモニアガスとを供給する処理とその後の熱処理とを行う表面ガスエッチング反応による前処理を行い、自然酸化膜6を除去する。 - 特許庁
The abundance ratio of a carboxy group to a hydroxy group at the surface layer part of the carbon fiber can be controlled by subjecting the carbon fiber after the electrolytic oxidation treatment to an alkali treatment in a step for preparing the carbon fiber surface-modified by the electrolysis treatment of the carbon fiber.例文帳に追加
炭素繊維を電解処理して表面改質される炭素繊維を調製する過程において、炭素繊維の電解酸化処理後にアルカリ処理を施すことにより、炭素繊維表層部のカルボキシル基とヒドロキシル基との存在比率を制御することが出来る。 - 特許庁
Thereby, an oxidation reaction is suppressed on the surface of the optical element 40, that is, on the optical surface, or the preparation of a carbon film is suppressed, therefore, the deterioration of reflection characteristic of the optical element is prevented and, moreover, the life of a projection exposing device may be prolonged.例文帳に追加
これにより、光学素子40の表面すなわち光学面において酸化反応が抑制され、或いはカーボン膜生成が抑制されているので、これら光学素子の反射特性が劣化するのを防ぎ、延いては投影露光装置の寿命を長くすることができる。 - 特許庁
An anode side gas passage forming body 21, equipped with a gas flow passage 21c for fuel gas supply, is laminated on a surface of an electrode catalyst layer 17, and a cathode-side gas passage forming body 22 equipped with the gas flow passage 22c for oxidation gas supply on the surface of the electrode catalyst layer 18.例文帳に追加
電極触媒層17の表面に燃料ガスの供給用のガス流路21cを備えたアノード側のガス流路形成体21を積層し、電極触媒層18の表面に酸化ガスの供給用のガス流路22cを備えたカソード側のガス流路形成体22を積層する。 - 特許庁
The surface layer part of the woody material is subjected to oxidation treatment such as ultraviolet irradiation treatment, peroxide treatment, ozone treatment, plasma treatment, radiation irradiation treatment or the like to forcibly produce the volatile organic substance from the wood component of the surface layer part for a short time before removing the same from the woody material.例文帳に追加
木質材料の表層部を、紫外線照射、過酸化物処理、オゾン処理、プラズマ処理、放射線照射処理などの酸化処理をすることにより、該表層部の木材成分から短時間、且つ強制的に揮発性有機物質を生成せしめ、これを木質材料から除去する。 - 特許庁
This grinding method for a silicon carbide body includes: a process of grinding the silicon carbide body, and supplying grinding solution having oxidation characteristic to the surface to be ground of the silicon carbide body to form an oxidized film on the surface to be ground; and a process of washing and removing oxidized film as an arbitrary process.例文帳に追加
炭化ケイ素体を研削すると共に酸化特性を有する研削液を炭化ケイ素体の研削面に供給してその研削面に酸化皮膜を設ける工程と、さらに任意の工程として酸化皮膜を洗浄除去する工程とを有する炭化ケイ素体の研削方法。 - 特許庁
An oxidation preventive film 43 to compensate for the wear of the base material 31 is formed on the molding surface of the cutting worked layer 32 and the worn side surface of the base material 31 to have a thickness to become D1 diameter before the wear as a regenerating coating film in the base material 31 on which the coating film is removed.例文帳に追加
コーティング膜を除去された母材31には、切削加工層32上の成形面と磨耗した母材31の側面に、母材31の磨耗を補って、酸化防止膜43が再生用コーティング膜として磨耗前の径D1となる厚さに成膜される。 - 特許庁
This primer material for oxidation prevention is used for a primer layer 2 formed between the surface of a refractory 1 and an anti- oxidizing layer 3 covering the surface of the refractory 1, and comprises a slurry composition containing alumina powder as a main component and bentonite in an amount of 0.1-5.0 pts.wt. per 100 pts.wt. of the alumina powder.例文帳に追加
耐火物1の表面とその表面を覆う酸化防止層3との間に形成される下地層2のために、アルミナ粉末を主体とし、そのアルミナ粉末100重量部に対して0.1〜5.0重量部の範囲で添加されたベントナイトを含むスラリー状組成物を用いる。 - 特許庁
To provide a method for producing a powder of a sulfide fluorescent substance by subjecting the sulfide fluorescent substance to wet milling while preventing the surface oxidation caused by the reaction of water with aluminum sulfide; and to provide the powder of the sulfide fluorescent substance having a protective film on the surface of a particle obtained by the method.例文帳に追加
硫化アルミニウムの水分との反応による表面酸化を防ぎながら、硫化物蛍光体を湿式粉砕して硫化物蛍光体粉末を製造する方法、及びその方法により得られる粒子表面に保護皮膜を有する硫化物蛍光体粉末を提供する。 - 特許庁
A thermal oxidation process is carried out in a dry atmosphere, whereby a silicon oxide film 161 of thickness 3 nm is formed on the surface of the first region 11a of the silicon board 11, and a silicon oxide film 171 of thickness 6 nm is formed on the surface of a second region 11b of the silicon board 11 where no nitrogen ions are implanted.例文帳に追加
乾燥雰囲気中で熱酸化を行い、第1の領域11aのシリコン基板11の表面には厚さ3nmのシリコン酸化膜16_1 が形成され、窒素イオンが注入されていない第2の領域11bには厚さ6nmのシリコン酸化膜17_1 が形成される。 - 特許庁
In a method for manufacturing semiconductor device, a gate insulating film 9 and an insulating film 10 are formed on the main surface of a semiconductor substrate 1 as oxide films by subjecting a channel layer 7 containing nitrogen to thermal oxidation, after the layer 7 is formed in a channel region 5 in the main surface of the substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1の主面の中のチャネル領域5に、窒素を含有するチャネル層7が形成された後に、熱酸化処理が施されることにより、半導体基板1の主面の上に、ゲート絶縁膜9および絶縁膜10が、酸化膜として形成される。 - 特許庁
In the surface-emitting semiconductor laser element formed on the normal substrate such as the facial azimuth (100) surface, anisotropic stress is impressed to the center of an active layer, and the polarization controllability of the element is improved by forming asymmetrical selective oxidation structure on an Al high concentration layer in a mesa.例文帳に追加
面方位(100)面等の通常基板上に作製した面発光型半導体レーザ素子において、メサ内部のAl高濃度層部分に非対称の選択酸化構造を形成することにより、活性層中心部に異方的な応力を印加し、素子の偏波制御性を高める。 - 特許庁
The electroless nickel substituted gold plating treatment method comprises forming the nickel plating layer of -560 mV or more in the oxidation reduction potential of its surface in the aqueous alkaline solution on a substrate to be plated, then subjecting the surface of the nickel plating layer to gold plating treatment.例文帳に追加
被めっき基板上に、表面の酸化還元電位がアルカリ水溶液中で−560mV以上であるニッケルめっき層を形成させ、次いでこのニッケルめっき層の表面に金めっき処理を施すことを特徴とする、無電解ニッケル置換金めっき処理方法。 - 特許庁
In the method for treating an ion exchange resin, ion exchange groups near the surface of the ion exchange resin are subjected to slight oxidative decomposition by carrying out oxidation treatment and surface charges are diminished by the decomposition to eliminate or prevent clamping phenomenon.例文帳に追加
酸化処理を行って、イオン交換樹脂表面近傍のイオン交換基を軽度に酸化分解して表面電荷を低減させることにより、クランピング現象を解消または防止することを特徴とする、イオン交換樹脂の処理方法、およびその処理を受けたイオン交換樹脂。 - 特許庁
In the structure, the surface of a heat resistant support is provided with an aluminum alloy having a purity of ≥99.7% at a thickness of 30 to 300 μm, the aluminum alloy has micropores by anode oxidation treatment on the surface, and the regularization degree of the arrangement of the micro pores is ≥20%.例文帳に追加
耐熱性支持体上に、純度が99.7%以上のアルミニウム合金を30μm〜300μmの厚さで有し、該アルミニウム合金がその表面に陽極酸化処理によるマイクロポアを有し、該マイクロポアの配列の規則化度が20%以上である構造体。 - 特許庁
A hydrogen-bondable group is formed on the surface of a resin by the oxidation treatment and polyvinyl alcohol is gelled by the freeze-thawing to be a polymeric gel 1 and a hydrogen bonding is formed between the polyvinyl alcohol and the surface of the base material 2, then generated polymeric gel 1 is fixed on the base material.例文帳に追加
酸化処理により樹脂表面には水素結合性官能基が形成され、凍結解凍によりポリビニルアルコールがゲル化して高分子ゲルになるととともに、ポリビニルアルコールと基材表面との間に水素結合が形成されて、生じた高分子ゲルが基材に固定される。 - 特許庁
In the method for manufacturing the planographic printing plate, after an aluminum plate subjected at least to surface roughening treatment and to anodic oxidation treatment is cleaned with water, a liquid containing physical developing nuclei is applied on the plate while the surface of the aluminum plate is in a wet state, and then a silver halide emulsion layer is applied thereon.例文帳に追加
少なくとも粗面化処理及び陽極酸化処理を施したアルミニウム板を水洗した後、アルミニウム板表面が湿潤状態で、物理現像核を含む液を塗布し、次いで、ハロゲン化銀乳剤層を塗布することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁
To provide a solid electrolytic capacitor and a method of manufacturing the same in which the surface of a terminal reinforcing material is prevented from being oxidized by forming an oxidation preventing coating layer surrounding the surface of the terminal reinforcing material on the lower side of a capacitor element, when the capacitor is manufactured in a high temperature chamber.例文帳に追加
コンデンサ素子の下側に端子補強材の表面を取り囲む酸化防止コーティング層を形成することによって、コンデンサが高温のチャンバ内で製造される時、該端子補強材の表面が酸化されることを防止する、固体電解コンデンサ及びその製造方法が提供する。 - 特許庁
The visible light reflection plate 10 is provided with a reflection layer 2 which is composed of a thin aluminum film having a main surface azimuth of (111) disposed on a substrate 1 and the protective film 3 which is disposed on the surface of the reflection layer 2 and is composed of an aluminum oxide film formed by plasma oxidation.例文帳に追加
可視光反射板10は、基板1上に設けられた(111)の主要面方位を備えたアルミニウム薄膜からなる反射層2と、前記反射層2の表面に設けられ、プラズマ酸化によって形成された酸化アルミニウム膜からなる保護層3とを備えている。 - 特許庁
To provide a film-covered member which can sufficiently exhibit an excellent high-temperature oxidation resistance of a thermally sprayed MCrAlX alloy film by forming a compact layer rich in adhesiveness, excellent in protective properties, and comprising Al_2O_3 alone on the surface of a thermally sprayed film of a high-temperature-oxidation-resistant alloy comprising an MCrAlX alloy; and its production method.例文帳に追加
MCrAlX合金からなる耐高温酸化性合金の溶射皮膜の表面に、緻密で密着性に富み、かつ保護性に優れたAl_2O_3のみからなる層を積極的に生成させることにより、MCrAlX合金溶射皮膜の優れた耐高温酸化性を十分に発揮できる皮膜被覆部材およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Exhaust gas of anode side and cathode side of a fuel cell 30 is supplied to an emission control device 40 equipped with honeycomb catalyst 42 having oxidation catalyst (CeO2/Al2O3) which oxidizes hydrocarbon fuel on a honeycomb carrier surface, and hydrocarbon in the exhaust gas of anode side is cleaned by oxidization with oxidation catalyst.例文帳に追加
ハニカム担体の表面に炭化水素系の燃料を酸化する酸化触媒(CeO_2/Al_2O_3など)を担持させてなるハニカム触媒42を備える排ガス浄化装置40に燃料電池30のアノード側の排ガスとカソード側の排ガスを供給してアノード側の排ガス中の炭化水素を酸化触媒によって酸化することにより浄化する。 - 特許庁
The fuel cell 1 includes: a container 11 for storing an electrolytic solution and a sugar fuel such as glucose; an oxidation electrode 13 arranged in the container 11 and fixing a noble metal on the surface; a reduction electrode 14 arranged in the container 11; and an electret 15 arranged by facing the oxidation electrode 13 and having negative charge.例文帳に追加
電解質溶液およびグルコース等の糖燃料を収容する容器11と、容器11内に配置され、表面に貴金属が固定された酸化電極13と、容器11内に配置された還元電極14と、酸化電極13に対向して配置され、負電荷を有するエレクトレット15とを備える燃料電池1を採用する。 - 特許庁
Urea water supplied from a urea water supply nozzle 111 and flowing in a urea water passage 112 formed in the urea water pipe 110, is hydrolyzed into ammonia and carbon dioxide by heat of the exhaust gas and heat of reaction of the oxidation catalyst 106, which are added in the exhaust gas from the end surface 106a on the downstream side of the oxidation catalyst 106.例文帳に追加
尿素水供給ノズル111から供給されて尿素水管110内に形成された尿素水通路112を流通する尿素水は、排気ガスの熱及び酸化触媒106の反応熱によってアンモニア及び二酸化炭素に加水分解され、酸化触媒106の下流側の端面106aから排気ガス中に添加される。 - 特許庁
To provide a process of producing steel member which hardly causes film thickness irregularity of an oxidation-preventive film depending on a portion of a steel member and, as a result, allows a nitrogen-containing compound layer obtained after high-frequency heating to evenly remain, as a method of preventing oxidation of a compound layer due to high-frequency hardening, the compound layer being formed on the surface of a steel material by nitriding.例文帳に追加
鉄鋼材料の表面に窒化処理によって形成された化合物層の高周波焼入れによる酸化を防止する方法であって、部位による酸化防止皮膜の膜厚ムラが生じにくく、その結果、高周波加熱後に得られる窒素含有化合物層が均一に残存することを可能とした製造方法の提供。 - 特許庁
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