「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

In this case, since fine irregularities are formed on the surface for the cassette, when feeding the cassette into the processing liquid and when puling it up from the processing liquid, the vibration of a liquid surface accompanying the movement of the surface of the cassette is suppressed.例文帳に追加

ここで、本発明のカセットは、その表面に細かな凹凸が形成されているので、カセットを処理液中に投入する際、及び、処理液中から引き上げる際に、カセットの表面の移動に伴って液面が振動することが抑制される。 - 特許庁

The removal processing of a conductive wiring material of a substrate surface is performed by an electrolytic processing using an ion exchanger 48d or 48e, and thereafter the removal processing of a barrier layer of the substrate surface is performed by an electrolytic processing using an ion exchanger 48f which is different from an ion exchanger 48d or 48e or by an electrolytic processing using an electrolyte.例文帳に追加

イオン交換体４８ｄまたは４８ｅを用いた電解加工で基板表面の導電性配線材料の除去加工を行い、しかる後、イオン交換体４８ｄまたは４８ｅとは異なるイオン交換体４８ｆを用いた電解加工、または電解液を用いた電解加工で基板表面のバリア層の除去加工を行う。 - 特許庁

To provide a processing tank of an apparatus for processing a photosensitive material capable of preventing contamination caused by mixing a processing solution, which flows up by capillary phenomena and surface tension along swirl marks on the surface of the partitioning walls of the processing tank made of a synthetic resin and formed by molding, together with the neighboring processing solution without using a harmful solvent dangerous in handling.例文帳に追加

有害で取扱いの危険な溶剤を使用することなく、成型加工された合成樹脂製処理槽の仕切壁表面のスワールマークに沿って現像処理液が毛細管現象及び表面張力によって遡り隣接する処理液と混ざりあうコンタミネーションを阻止した感光材料処理装置の処理タンクを提供する。 - 特許庁

The surface processing method for the wiring board having insulating layers and a copper wiring formed on at least one principal surface of the insulating layer includes (I) a processing step of dissolving the insulating layer surface of the wiring board and (II) a processing step of forming unevenness on the copper wiring surface, parts of the step (I) and step (II) being carried out under the same processing conditions.例文帳に追加

絶縁層と、該絶縁層の少なくとも一方の主面上に形成された銅配線とを備える配線基板の表面処理方法であって、（Ｉ）前記配線基板における絶縁層表面を溶解する処理工程と、（ＩＩ）前記銅配線表面に凹凸を形成する処理工程とを含み、前記工程（Ｉ）と前記工程（ＩＩ）の一部を同一処理条件下で同時に行うことを特徴とする。 - 特許庁

To suitably perform recording processing or reproducing processing of data to an optical disk by dissolving a trouble caused by surface wobbling of the optical disk.例文帳に追加

光ディスクの面振れに起因する不具合を解消し、光ディスクへのデータの記録処理あるいは再生処理を適切に行うことができるようにする。 - 特許庁

Therefore, the processing solution containing chemicals are hardly condensed on the lower surface of the cover 9, so that the substrate can be prevented from being contaminated by the processing solution condensed on the cover 9.例文帳に追加

したがって、薬液を含む処理液がカバー９の下面に結露することはなく、カバー９への結露に起因して基板が汚染されるのを防止できる。 - 特許庁

To enhance quality in processing, by safely and surely recovering the liquiddrop or mist scattering from a processing liquid discharge nozzle or the surface of processed substrate opposed to it.例文帳に追加

処理液吐出ノズルやそれに対向する被処理基板表面から飛散する液滴やミストを安全確実に回収して、処理品質を向上させる - 特許庁

The substituting liquid used for the replacing stage has less surface tension than the processing liquid and has the same density as the processing liquid.例文帳に追加

置換する工程に用いられる置換液は、処理液の表面張力よりも小さい表面張力を有し、かつ、処理液の密度と同一の密度を有する。 - 特許庁

A projection unit coupled to the at least one processing stage receives the image data from the at least one processing stage and presents the three-dimensional sports scene, including the simulation, on the display surface.例文帳に追加

該処理ステージと連結した投影ユニットは、該処理ステージから画像データを受信し、ディスプレイ面にシミュレーションを含む３次元スポーツシーンを映し出す。 - 特許庁

Since the processing liquid for cooling/lubrication can be fed to the bottom surface and/or the outer periphery, a processing efficiency is enhanced and a tool life is lengthened.例文帳に追加

冷却・潤滑用の加工液を底面部及び／又は外周部に供給できるので、加工能率が向上するとともに工具寿命が延びる。 - 特許庁

The bonding unit 10b for substrate formation is used in a preprocess of the bonding processing, and surface processing by application of an ultrasonic wave is carried out on the members to be bonded.例文帳に追加

ボンディング加工の前工程として、下地形成用のボンディングユニット１０ｂを用い、超音波の印加による表面処理を被接合部材に施す。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for implanting impurities into a substrate from a surface layer containing the impurities, which is excellent in practical utility, and a method of processing the substrate.例文帳に追加

不純物を含む表層から基板に不純物を注入するための、実用性に優れるプラズマ処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The object shape recognizing apparatus includes: an input unit; a virtual surface arrangement processing unit; and a feature point detection processing unit.例文帳に追加

本実施形態によれば、物体形状認識装置は、入力ユニットと、仮想面配置処理ユニットと、特徴点検出処理ユニットとを備えた構成である。 - 特許庁

To provide a laser processing method and laser processing apparatus inspecting position of a hole and a hole diameter for a surface layer of copper foil while processed.例文帳に追加

本発明は、加工時に、表層の銅箔の穴位置と穴径を検査するレーザ加工方法およびレーザ加工装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To decrease the risk of damaging the surface of a vibration-side processing member by reducing vibration transmission loss when the processing member is clamped in a vibration welding apparatus.例文帳に追加

振動溶着装置の加工材保持において、振動伝達ロスを少なくして、振動側加工材の表面に傷が付くのを少なくすること。 - 特許庁

To provide a cylindrical object high speed image processing inspection capable of processing an image at a high speed on a curved surface part of a cylindrical object such as a specimen.例文帳に追加

検体等の円筒状物体の曲面部分を高速で画像処理を可能とする、円筒状物体高速画像処理検査を提供する。 - 特許庁

To provide a sample processing folder for performing the cutting processing of the surface of a sample, wherein a hard film such as an inorganic film is formed on a soft substrate such as a film, or the like.例文帳に追加

フィルム等の軟質な基板の上に、無機膜等の硬質な膜が形成されている試料表面を切削加工するための試料加工フォルダー。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an exhaust gas processing apparatus constituted of holding seal materials for an exhaust gas processing body with identification information imparted on a surface thereof.例文帳に追加

表面に識別情報を付与した排気ガス処理体用の保持シール材から構成される排気ガス処理装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus wherein deposition of contamination along with implementation of plasma processing can be minimized on the inner surface of a cylindrical vacuum container.例文帳に追加

筒状をなす真空容器の内表面において、プラズマ処理の実施に伴う付着物の堆積を抑制可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing container easily exchanging a protecting member for protecting the inner surface of the processing container in a plasma treating apparatus, and also suppressing component costs.例文帳に追加

プラズマ処理装置において処理容器の内面を保護する保護部材の交換作業が容易で、部品コストも抑制できる処理容器を提供する。 - 特許庁

The sprocket 11 has chucking long holes 15 for being clamped at the time of lateral tooth shape processing for cutting a side surface of a tooth part 12, shaft hole processing or the like.例文帳に追加

スプロケット１１は、歯部１２の側面を切削する横歯形加工時、軸穴加工時等に把持されるためのチャッキング用の長穴１５を有する。 - 特許庁

An image conversion processing means 32 gives interpolating processing such as the correction of a magnification, the conversion of pixel density to each focal surface picture to adjust the position of pixels.例文帳に追加

画像変換処理手段３２が、各焦点面画像に対して拡大率補正や画素密度変換等の補間処理を施して画素位置を合わせる。 - 特許庁

The processing liquid container 76 has a waste liquid line 107 at the bottom and a spray nozzle 109 on a wall surface which cleans the inside of the processing liquid container.例文帳に追加

前記処理液体格納容器７６は、底部に廃液ライン１０７、壁面に前記処理液体格納容器内を洗浄するスプレーノズル１０９を有する。 - 特許庁

To provide a foreign substance removing device which fully removes foreign substances on the surface of a substrate, substrate processing equipment having the device and a substrate processing method.例文帳に追加

基板の表面の異物を十分に除去することが可能な異物除去装置、それを備えた基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The emission intensity of a processing gas correlated with the surface temperature of inner wall of the vacuum processing chamber is measured to control the intermittent generation of plasma 402.例文帳に追加

また、真空処理室の内壁表面温度と相関のある処理ガスの発光強度を測定して間欠的なプラズマ生成４０２を制御する。 - 特許庁

To save the power, and to speed up the processing by automating the processing for obtaining the data related to the water surface condition from the obtained image data.例文帳に追加

取得した画像データから水面の状態に関するデータを得るための処理を自動化し、これにより省力化および処理の高速化を図る。 - 特許庁

To obtain a high processing rate from the start of polishing and to reduce processing time when a main surface of a mirror glass plate is polished with fine fixed abrasive grains.例文帳に追加

鏡面板ガラスの主表面を微細な固定砥粒で研磨する際に、研磨開始時から高加工レートを実現でき、加工時間を短縮すること。 - 特許庁

To reduce a load of recovering a processing gas composition from discharged gas during normal operation of a surface processing apparatus, and secure safety when abnormality occurs.例文帳に追加

表面処理装置の通常運転時には排出ガスから処理ガス成分を回収する負荷を軽減し、異常発生時には安全性を確保する。 - 特許庁

After the processing chamber 4 is moved to expose the second principal surface S2 of the semiconductor wafer 1 to the external side of the processing chamber 4, the pure water W is dried up.例文帳に追加

そして、半導体ウェハ１の第２主面Ｓ２が処理室４の外側に露出するように処理室４を移動させた後、純水Ｗを乾燥する。 - 特許庁

Nozzle holes on the nozzle plate are formed by a processing step including at least press processing from a surface where the flow channel forming member is jointed on the nozzle plate.例文帳に追加

ノズル板のノズル孔が、ノズル板における流路形成部材を接合させる面からのプレス加工を少なくとも含む加工工程により形成される。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing system that control a predetermined condition based upon a surface structure of a workpiece evaluated by a scatterometry method.例文帳に追加

スキャトロメトリ法により評価した被処理体の表面構造に基づいて所定条件を制御する処理方法及び処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of processing a tire molding mold by which arrangement man-hour is reduced, pattern dislocation on a divided design surface is prevented and excellent processing accuracy is exhibited.例文帳に追加

段取り工数を少なくし、かつ、分割される意匠面においてパターンずれがなく、加工精度の良いタイヤ成型金型の加工方法を提供する。 - 特許庁

The mask holder section 16 curves and holds the mask 20 for applying the mask processing in order to hold the mask in tight contact with the mask processing surface of the glass substrate 26.例文帳に追加

マスクホルダ部１６は、マスク処理を施すためのマスク２０を、ガラス基板２６のマスク処理面に密接して保持するために湾曲して保持する。 - 特許庁

Normalization processing is performed from both of these pieces of data (processing part 13), and by comparing the normalized value with a predetermined threshold, the dry/wet state of the road surface is determined.例文帳に追加

この両データから正規化処理して（処理部１３）、正規化値を所定のしきい値と比較することにより、路面の乾湿状態が判定される。 - 特許庁

To provide a substrate periphery processing apparatus and method, capable of correctly controlling a processing width of a periphery of the surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面の周縁部の処理幅を正確に制御することができる基板周縁処理装置および基板周縁処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus, which can excellently dry a substrate surface while suppressing the quantity of consumption of an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤の消費量を抑制しつつ、基板表面を良好に乾燥させることができる基板処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

Or, the cooling means may be a means cooling the processing vessel wall by distributing cooling medium inside or on the surface of the processing vessel wall.例文帳に追加

或いは、冷却手段は、処理槽壁の内部又は表面に冷却媒体を流通させることで、処理槽壁の冷却を図る手段でもよい。 - 特許庁

To enable a processing liquid or preferably a (continuous) plurality of processing liquids to be uniformly distributed along the direction in parallel with the rotation axis of a print surface to be processed.例文帳に追加

１つまたは好ましくは（連続する）複数の処理液の均一な分配を、処理されるべき印刷表面の回転軸と平行な方向で可能にする。 - 特許庁

To provide a plug processing method for a resin mold for processing the surface of a plug by wet etching to form a large number of sharp recessed embossed bottomes.例文帳に追加

ウェットエッチングにより詰め栓の表面に底がシャープな凹形状の多数個のエンボスを加工可能とした樹脂成形型用詰め栓加工方法を提供する。 - 特許庁

In a filler reduction processing, the silica filler 57 is reduced which is exposed on the surface of the resin insulating layer 25 by performing a high-pressure water processing.例文帳に追加

フィラー減少工程において、高圧水洗処理を行い樹脂絶縁層２５の表面にて露出しているシリカフィラー５７を減少させる。 - 特許庁

To provide a substrate processor for conducting processes on the front surface of a substrate using a processing liquid without splash of the processing liquid to the periphery of substrate.例文帳に追加

基板の周囲に処理液を飛散させることなく、基板の表面に処理液による処理を施すことができる、基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In this image processing system, a lane mark candidate is recognized by a first processing means 110 based on the luminance of each pixel of a road surface image.例文帳に追加

本発明の画像処理システムによれば、路面画像の各画素の輝度に基づき、第１処理手段１１０によってレーンマーク候補が認識される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which reduces variations in processing in a substrate surface and between substrates and improves product performance and production yield.例文帳に追加

基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which a piping structure is simple and a sufficient processing is realized on a surface and a backside of a substrate.例文帳に追加

配管構成が単純であり、かつ、基板の表面および裏面に対して良好な処理を達成できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method which are capable of effectively cleaning the surface of a substrate without generating variety in drying.例文帳に追加

乾燥むらを発生させることなく基板の表面を効果的に洗浄することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁