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temperature patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 996件
The initial topography of the printed pattern is measured over the entire length of the pattern printed along a predetermined direction, the thin film is fired at a measurement temperature Tm during a predetermined creep time t_flu, and the topography as a result of the creep pattern is measured.例文帳に追加
印刷パターンの初期トポグラフィが所定方向に沿ったパターンの全長にわたって測定され、膜は、所定のクリープ時間t_fluの間測定温度Tmで焼成され、クリープパターンの結果のトポグラフィが測定される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a pattern formation body, capable of obtaining the pattern formation body with a high-definition pattern formed on a plastic substrate whose dimension is easily changeable due to a change in temperature/humidity.例文帳に追加
本発明は、温湿度の変化によって寸法が変化しやすいプラスチック基板上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁
Glass frit components existing in the metal pattern 4 or on the boundary surface of the metal pattern 4 and the ceramic substrate 2 can be prevented from flowing to the boundary surface of the metal pattern 4 and the metal coating 8 by high temperature high humidity test.例文帳に追加
金属パターン4の内部又は金属パターン4とセラミック基板2界面に存在していたガラスフリット成分が高温高湿試験によって金属パターン4と金属被膜8界面に流動することを防ぐことができる。 - 特許庁
According to the temperature detected by a temperature sensor 2 fitted to the robot, an operation pattern of the operating speed and acceleration of the robot is automatically varied to change the background color of a display 6 step by step corresponding to the magnitude of correction amount of the operation pattern.例文帳に追加
ロボットに取り付けた温度センサ2で検出した温度により、ロボットの動作速度や加速度の動作パターンを自動的に変化させ、動作パターンの補正量の大きさに応じてディスプレイ6の背景色を段階的に変化させる。 - 特許庁
The connection between the pair of electrodes of the temperature sensor and the first pattern part 11 or between the pair of conductive wires 16 and 17 and the second pattern part 12 is made with the use of Dotite or solder.例文帳に追加
温度センサにおける一対の電極と第1パターン部11と、あるいは、一対の導線16,17と第2パターン部12とは、ドータイトにより接続されるか、半田付けされる。 - 特許庁
An iron plate 13' having a pattern is pressed against a polycrystalline diamond substrate 12 and heated at a high temperature to transfer the pattern to the surface of the polycrystalline diamond substrate 12.例文帳に追加
パターンの形成された鉄板13’を多結晶ダイヤモンド基板12に押し付け、これを高温で加熱することにより、多結晶ダイヤモンド基板12表面に当該パターンを転写する。 - 特許庁
Lens pattern parts Q_1 to Q_4 are formed by transferring a lens pattern made of concave spherical resist to a glassy (amorphous) carbon substrate 10 of ≥2,000°C in heat resistance temperature by etching.例文帳に追加
耐熱温度が2000℃以上であるグラッシー(アモルファス状)カーボン基板10に凹球面状のレジストからなるレンズパターンをエッチングにより転写してレンズ型部Q_1〜Q_4を形成する。 - 特許庁
To provide a lost foam pattern casting method capable of filling a high temperature melt into an entire pattern without increasing the number of gates and of effectively suppressing scum defects.例文帳に追加
ゲートの数を多くすることなく高温の溶湯を模型全域に充填することができ、残渣欠陥を効果的に抑制することができる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁
Continuously, the dimension of the mask pattern is measured, and the measurement result is applied to the relation to decide an optimum heat treatment temperature for thickening the resist pattern into a desired dimension.例文帳に追加
続いて、マスクパターンの寸法を計測し、その計測結果を上記の関係に適用して、レジストパターンを所望の寸法に厚肉化するための最適な熱処理温度を決定する。 - 特許庁
To inexpensively obtain a dimming body rich in variety such that color tone, letter and/or pattern at the time when it is transparent and color tone, letter and/or pattern at the time when light is shielded, are changed depending on the temperature change.例文帳に追加
温度変化により、透明時の色調、文字及び/又は模様と遮光時の色調、文字及び/又は模様とが変化するバラエティーに富んだ調光体を安価に得ること。 - 特許庁
To provide a pattern forming material excellent not only in resolution and tenting property but in developability and resist strippability because a binder contained in a photosensitive layer has an I/O value and a glass transition temperature each within a given numeric range, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
感光層に含まれるバインダーのI/O値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつレジスト剥離性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
When the defroster mode is selected just after starting at a low temperature, according to a warm-up pattern P1 of the defroster mode, a blower is stopped when a cooling water temperature is below a first set temperature T1, and cold air is prevented from being blown out.例文帳に追加
低温時の始動直後にデフロスタモードが選択された場合において、デフロスタモードのウォームアップパターンP1に従い、冷却水温が第1の設定温度T1より低い時は送風機を停止し、冷風を吹き出さない。 - 特許庁
To provide a heating element circuit pattern capable of uniformalizing a temperature distribution of a susceptor, a hot plate, or the like, not only in a steady status under predetermined temperature, but also in a transitional status with temperature dropping or rising.例文帳に追加
所定温度での定常状態は勿論のこと、温度が降下あるいは上昇していく過渡的な状態においても、サセプタやホットプレートなどの温度分布を均一にすることのできる発熱体回路パターンを提供する。 - 特許庁
To provide a circuit board fault correcting method for correcting a disconnection of high density and fine pattern with a low temperature process.例文帳に追加
高密度で微細なパターンの断線を低温プロセスによって修正可能な回路基板の欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
The controller 30 has an uneven temperature determining section 36b, a pattern set determining section 36f, and a second operation processing section 36g as functional sections.例文帳に追加
コントローラ30は機能部として、温度ムラ判定部36b、パターンセット決定部36f、第2運転処理部36gを有する。 - 特許庁
To uniformly perform a development process using a low-temperature developer to appropriately form a predetermined pattern on a substrate.例文帳に追加
低温の現像液を用いた現像処理を基板面内で均一に行い、基板上に所定のパターンを適切に形成する。 - 特許庁
To provide a missed convergence measurement device that can securely measure a missed convergence amount at a high-speed with high accuracy even when a color temperature of a display pattern is changed.例文帳に追加
表示パターンの色温度が変化した場合にも安定かつ高精度でしかも高速にミスコンバージェンス量を測定する。 - 特許庁
To provide a circuit module which prevents the separation between a resin sealing body and a circuit pattern part, even if an external temperature changes.例文帳に追加
外部の温度が変化しても樹脂封止体と回路パターン部とが剥がれることを防止できる回路モジュールを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of electron emission element which uses a non-heat-resistant glass substrate without heating the substrate in high temperature, forms fine emitter pattern.例文帳に追加
基板を高温に加熱せず、非耐熱ガラス基板を用いることを可能し、微細なエミッタパターンの形成を可能にすること。 - 特許庁
The joining temperature of a joining material for electrically joining a wiring pattern and an optical module is set in the range of 70 to 120°C.例文帳に追加
配線パターンと光モジュールとを電気的に接続するための接合材料の接合温度を70〜120℃の範囲とする。 - 特許庁
To pattern a comparatively thick ITO thin film, which was formed by room temperature film formation on a flexible board, through etching without causing residue or side etch.例文帳に追加
フレキシブル基板上に室温成膜した比較的厚いITO薄膜をエッチングにより残渣やサイドエッチなくパターニングすること。 - 特許庁
Based on an estimation result of the pattern, a corrected value of heating temperature in a PEB device is calculated from second correlation (a step S3).例文帳に追加
パターンの推定結果に基づいて、第2の相関からPEB装置における加熱温度の補正値を算出する(ステップS3)。 - 特許庁
Since WSiN is a heat-resistive metal, a high-temperature processing (step S20) is allowed in the condition of forming the dummy pattern.例文帳に追加
WSiNは耐熱性金属なので、ダミーパターンを形成した状態で高温熱処理(工程S20)を行なうことができる。 - 特許庁
To provide a low-temperature process for forming a metal line by laser writing and for directly writing a three-dimensional pattern.例文帳に追加
レーザー描画により金属ラインを形成するための、および三次元パターンを直接描画するための低温プロセスを提供する。 - 特許庁
Based on the target dimension of the resist pattern, the set temperature of the POST device is calculated from the calculated correlation (step S6).例文帳に追加
レジストパターンの目標寸法に基づいて、算出された相関から、POST装置の設定温度を算出する(ステップS6)。 - 特許庁
Photolithographic processing including PEB processing of the corrected heating temperature is performed to form a resist pattern on the wafer (a step S5).例文帳に追加
補正された加熱温度のPEB処理を含むフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上にレジストパターンを形成する(ステップS5)。 - 特許庁
A mold 30 constituted of a resin layer 31 including a recess 31a corresponding to a predetermined pattern is used to confront metal glass 50 with the recess 31a, and the metal glass 50 is heated at a temperature higher than a glass transition temperature Tg into a temperature lower than a thermo-resistant temperature of the resin layer 31.例文帳に追加
所定のパターンに対応した凹部31aを有する樹脂層31からなる成形型30を用いて、凹部31aに金属ガラス50を対向させ、金属ガラス50をそのガラス遷移温度Tgより高い温度でかつ樹脂層31の耐熱温度より低い温度に加熱する。 - 特許庁
Further, the difference between the shrinkage factor from the calcination starting temperature of the green sheet to 480°C and the shrinkage factor of the conductor pattern from the starting temperature of calcination to 480°C is set so as not to be higher than 3.5%.例文帳に追加
更に、グリーンシートの焼成開始から480℃までの収縮率と、導体パターンの焼成開始から480℃までの収縮率との差が3.5%以下となるように設定する。 - 特許庁
The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin has a glass transition temperature not over a preapplication bake temperature in the formation of a resist pattern.例文帳に追加
樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、且つ、前記樹脂のガラス転移温度が、レジストパターンを形成する際のプレアプリケーションベーク温度以下である。 - 特許庁
The infrared ray therapy apparatus includes a heater drive control circuit part 7 for rapidly raising the temperature of the planar pattern heater 1 and controlling the temperature at a prescribed time interval, and a battery part 6 for supplying power.例文帳に追加
該面状パターンヒータ1を急速温度上昇させ所定の時間間隔で温度制御が可能なヒータ駆動制御回路部7と電力供給する電池部6を備えている。 - 特許庁
To provide a thermoelectric transducer wherein temperature of cold junctions of a thermoelectric pattern can be detected accurately in the case that temperature distribution exists, and yield in the case of manufacturing and deterioration of reliability can be improved.例文帳に追加
温度分布がある場合でも熱電パターンの冷接点の温度を正確に検知でき、製造時の歩留まりと信頼性の劣化も改善できる熱電変換素子を提供する。 - 特許庁
The image forming apparatus includes a temperature detecting means 5, a microcontroller 9 which discriminates whether the temperature discriminated by the temperature detecting means 5 is lower than set temperature, and a means of suspending or skipping the execution of calibration wherein a toner pattern for density detection or color registration detection is formed when discriminating that the temperature is lower than the set temperature.例文帳に追加
温度検出手段5と、前記温度検出手段5により検出された温度が設定された温度以下であるか否かを判別するマイクロコントローラ9と、前記マイクロコントローラ9が前記設定された温度以下であることを判別したときには、濃度検知または色レジスト検知用のトナーパターンを形成するキャリブレーションの実行を保留またはスキップする手段とを備える。 - 特許庁
In step S212, the temperature of the retaining section holding a biological tissue is estimated on the basis of the temperature of the resistance pattern obtained in the step S210, the power applied to the present resistance pattern obtained in step S211 and the correction coefficient calculated in the step S208.例文帳に追加
ステップS212において、ステップS210で求めた抵抗パターンの温度と、ステップS211で求めた現在の抵抗パターンへの投入電力と、ステップS208で算出した補正係数とに基づいて、生体組織を把持している保持部の温度を推定する。 - 特許庁
The method of forming the conductive baked material pattern is the method of forming the conductive baked material pattern by forming a pattern of the resin composition containing the base metal on a base material and by baking the pattern in the atmosphere, and a temperature elevation speed at baking is 10 °C/min. or more.例文帳に追加
本発明にかかる導電性焼成物パターンの形成方法は、基材上に卑金属を含む樹脂組成物のパターンを形成し、そのパターンを大気中で焼成して導電性焼成物パターンを形成する方法であって、焼成時の昇温速度が10℃/分以上であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide an underlay film forming material that is suitably used for selectively forming a metal oxide film having high etching durability on a pattern surface at a low temperature in a pattern forming method, in which an etching is performed by using a pattern formed on a substrate as a mask, and to provide a layered body and a pattern forming method.例文帳に追加
基板上に形成されたパターンをマスクとしてエッチングを行うパターン形成方法において、パターン表面に、低温で、耐エッチング性が高い金属酸化物膜を、パターン表面に選択的に形成するために好適に用いられる下層膜形成用材料、積層体およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The resultant resist pattern 34 is heat-treated at a temperature at which the resist is deformed to form a resist pattern 35 having a mushroom cross section.例文帳に追加
次に、レジストパターン34を現像し、続いて、レジストの断面がマッシュルーム形状となるようにレジストが変形する温度で熱処理を行うことによって、断面がマッシュルーム形状のレジストパターン35が得られる。 - 特許庁
A set pattern combining the conduction state and the open state is created for each region, and local temperature of the 2m regions can be raised, lowered or held by changing the set pattern temporally.例文帳に追加
各領域の通電状態とオープン状態にした設定パターンを作り、その設定パターンを時間的に変化させることにより、2m領域の局所温度の昇温・降温・保持を可能にする。 - 特許庁
To propose a magnetic pattern detection apparatus in which reduction in detection accuracy of a magnetic pattern can be avoided even if an output level of a sensor output signal of a magnetic sensor device varies due to an individual difference or a temperature.例文帳に追加
個体差や温度に起因して磁気センサ装置のセンサ出力信号の出力レベルが変化しても磁気パターンの検出精度の低下を回避できる磁気パターン検出装置を提案すること。 - 特許庁
To provide a pattern forming device, which suppresses a temperature increase of a functional fluid in a liquid droplet discharging head and stabilizes a discharge rate of the liquid droplet to form a high-precision pattern, and to provide a circuit substrate.例文帳に追加
液滴吐出ヘッド内の機能液の温度上昇を抑制し、液滴の吐出量を安定させ、精度の高いパターンを形成するパターン形成装置及び回路基板を提供する。 - 特許庁
The pattern (c) of the temporary seal and the pattern C of the holding may increase the resistance of air flow flowing out of the bag, so that pressure reducing speed is regulated, thereby preventing a liquid-like substance at a middle to high temperature from spilling out.例文帳に追加
仮シールのパターンcと把持のパターンCにより、袋から流出する空気の流動抵抗が大きくなり、減圧速度が調整されて、中〜高温の液状物の吹きこぼれが防止される。 - 特許庁
Heat is given to pattern of the formed electrode 12 with power supply means 15 or temperature keeping means, and faults of the electrode pattern is inspected by detecting emission rate distribution of the electrode at that time.例文帳に追加
形成した電極12のパターンに電力供給手段15または温度維持手段によって熱を与え、そのときの電極の放射率分布を検出して電極パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁
The heat source panel 10 has an electrode pattern 12 formed on a resin film 11 of a heat resistant material, and a PTC characteristics ink layer having a self-temperature control function is formed on the electrode pattern 12.例文帳に追加
熱源パネル10は,耐熱性素材の樹脂フィルム11上に形成された電極パターン12を有し,電極パターン12上に自己温度制御機能を有するPTC特性インク層を設けている。 - 特許庁
A through hole 7 extending to the metal pattern 6 on the rear surface is provided on the substrate surface, and the heater and a wire (pin) from the temperature sensor go through the through hole 7 and are soldered to the metal pattern 6.例文帳に追加
基板表面には、裏面の金属パターン6まで貫通穴7が設けられており、ヒータ、温度センサからの配線(ピン)はこの貫通穴7を通して金属パターン6にはんだ付けされる。 - 特許庁
To provide an exposure method and an aligner, capable of preventing the pattern distortion of a wafer caused by a temperature change in evacuation.例文帳に追加
真空引き時の温度変化に起因するウェハのパターン歪みを防止することのできる露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a stripe pattern from occurring on a printed image due to a temperature difference between the guiding ribs of a paper guide and space between the respective guiding ribs.例文帳に追加
用紙ガイドの案内リブと各案内リブ間の空間との温度差によって印刷画像に縞模様が発生するのを防止する。 - 特許庁
To suppress variations in the heat processing temperature between substrates and uniformize the line width of a wiring pattern between the substrates and within a surface of the substrate.例文帳に追加
基板間での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板間並びに基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。 - 特許庁
To provide a luminescent device and a lighting apparatus capable of suppressing increase in temperature of a light-emitting device by effectively using a wiring pattern layer.例文帳に追加
配線パターン層を有効に利用して、発光素子の温度上昇を抑制できる発光装置及び照明器具を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an electronic circuit component having a penetrating conductor pattern and less problem due to high- temperature annealing.例文帳に追加
貫通導体パターンを有し、高温アニールによって問題を生じることの少ない電子回路部品の作製方法を提供する。 - 特許庁
First, the relation between a dimension changing with thickening of the resist pattern and a temperature of heat treatment in a process of thickening is previously found.例文帳に追加
先ず、レジストパターンの厚肉化により変化する寸法と、厚肉化の工程における熱処理の温度との関係を予め求めておく。 - 特許庁
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