「temperature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目)

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > temperature patternに関連した英語例文

>"temperature pattern"に完全一致する例文のみを検索する

セーフサーチ：オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

例文

temperature patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 996件

＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 19 20 次へ＞

例文

Since the semiconductor thick film 31 is already formed on the occasion of laminating and forming the read pattern, the read pattern can be laminated and formed without depending on temperature at the time of forming the semiconductor thick film 31.例文帳に追加

読み出しパターンの積層形成の際には、半導体厚膜３１が既に形成されているので、半導体厚膜３１の形成の際の温度に依存せずに読み出しパターンを積層形成することが可能になる。 - 特許庁

The sensor 102 constitutes a thermocouple by the coupling of the copper wiring pattern 100 and the nickel wiring pattern 101 to form a junction and measures a temperature by the use of a thermoelectromotive force generated at the junction.例文帳に追加

センサ部１０２は、銅配線パターン１００とニッケル配線パターン１０１とが結合し、接合点を形成することで熱電対を構成しており、この接合点で生じる熱起電力を利用して温度を測定する。 - 特許庁

A preset controlling means by which controlling code is calculated by performing preset calculation according to the corrected target winding temperature and this controlling code is converted into a header pattern and made into a preset command by a header pattern changing means.例文帳に追加

プリセット制御手段は、補正された目標巻取り温度にしたがってプリセット計算して制御コードを算出し、ヘッダーパターン変換手段で、この制御コードをヘッダーパターンに変換してプリセット指令とする。 - 特許庁

To record a patch pattern enabling patch measurement in which the effect of density fluctuations in the patch pattern caused by variation in the moving speed of a recording head and in the temperature of the recording head in calibration is precisely reduced.例文帳に追加

キャリブレーションにおいて、記録ヘッドの移動速度の変動と記録ヘッドの温度変動に起因した、パッチパターンにおける濃度のばらつきの影響が精度よく低減されたパッチ測定を可能とするパッチパターンを記録する。 - 特許庁

例文

To improve plating property for a conductive pattern by removing glass constituent lifted on a conductive pattern on the surface of a substrate accompanying the calcination of a low-temperature calcination ceramic substrate while avoiding damage on the substrate due to chemical treatment.例文帳に追加

化学処理による基板への損傷を回避しつつ、低温焼成セラミック基板の焼成に伴い基板表面の導体パターンに浮き出すガラス成分を除去し、該導体パターンへのめっき性を良好にする。 - 特許庁

例文

To obtain a combustion parameter for judging whether or not the pattern of a heat releasing rate is in a single stage combustion (whether or not a low temperature premixed combustion is maintained) without performing the calculation of the heat releasing rate or pattern recognition.例文帳に追加

熱発生率の演算やパターン認識を行わずに熱発生率のパターンが単段燃焼になっているかどうか（低温予混合燃焼が維持されているかどうか）を知るための燃焼パラメータを得る。 - 特許庁

The first or second control parts 51 or 52 is selected by a change-over switch 55 for changing over the shed temperature control between the pattern of emphasis on the cooling speed and the pattern of emphasis on preventing the drying the conserved objects.例文帳に追加

切替スイッチ５５により第１または第２制御部５１，５２を選択することにより、庫内温度の制御態様を、冷却スピードを重視したものと、保存物の乾燥防止を重視したものとに切り替えられる。 - 特許庁

The forming method is as follows: the print pattern of the conductive paste is formed on the print object by the intaglio offset printing method using the transfered body whose surface is formed of a silicone rubber, and the print pattern is baked at temperature ≥500 °C to form a conductive pattern.例文帳に追加

形成方法は、表面をシリコーンゴムにて形成した転写体を用いて、凹版オフセット印刷法により、被印刷物上に、上記導電性ペーストからなる印刷パターンを形成したのち、この印刷パターンを５００℃以上で焼成して導電性パターンを形成する。 - 特許庁

Since the pattern part 12b is formed into a pattern having a large width, and its heating value is set lower than that of the pattern part 12a to prevent occurrence of temperature irregularity, so that separation of the heating element 12 from the board 11 based on the difference of the thermal expansion rates can be prevented.例文帳に追加

湾曲パターン部１２ｂは幅広のパターンに形成され、直線状パターン部１２ａの発熱量よりも発熱量が小さくなり温度ムラも発生しにくいので熱膨張率の差に基づく抵抗発熱体１２の基板１１からの剥離を防止できる。 - 特許庁

例文

The disciplined recessed pattern 1c is provided on the outer surface of a sleeve 1 by treating the whole of the cylindrical sleeve at a high temperature, depositing ink into the prescribed pattern on the outer surface of the sleeve 1 to form a mask pattern 2 and etching.例文帳に追加

そこで、この目的を達成するために本発明は、円筒状のスリーブ全体を高温処理し、次にこのスリーブ１外表面に、インクを所定パターンで付着させてマスクパターン２を形成し、その後エッチングによって前記スリーブ１の外表面に規則性のある凹状パターン１ｃを設けるものである。 - 特許庁

例文

In the front surface side of a ceramic recording material 1 of a heating body A, PTC patterns (positive temperature coefficient characteristic patterns) 3A, 3B each having a length equal to that of a heating element pattern are formed on both sides of the heating element pattern 2A, and a current is carried to the heating element pattern 2A through the PTC patterns 3A, 3B.例文帳に追加

加熱体Ａのセラミック記録材１の表面側において、発熱体パターン２Ａの両側にこれと同じ長さのＰＴＣパターン（正温度係数特性パターン）３Ａ、３Ａを形成し、これらＰＴＣパターン３Ａ、３Ａを介して、発熱パターン２Ａに通電する。 - 特許庁

To provide a photoresist, and a metal pattern forming method and a metal wiring pattern forming method capable of forming a fine pattern of a metal oxide and a metal wiring by an additive method without necessitating operations such as a high-temperature treatment or an ultraviolet ray irradiation, and a wiring substrate formed with the metal wiring by employing the metal wiring pattern forming method.例文帳に追加

フォトレジスト、高温処理または紫外線照射などの操作を要さずに、アディティブ工法で金属酸化物・金属配線の微細パターンを形成することができる金属パターン形成方法、及び金属配線パターン形成方法、並びに該金属配線パターン形成方法を用いて金属配線が形成された配線基板を提供する。 - 特許庁

A pattern setting part 26 reads the control pattern of the air conditioning equipment, actually existing in the past, and a determination result in accordance with current operation environment, sets a new control pattern adequate to the current operation environment with reference thereto, and drives an air-conditioner 12 to condition air with the newly set control pattern during current temperature control of an air-conditioned space.例文帳に追加

パターン設定部２６は、現在の運転環境に基づいて、過去に実在した空調設備の制御パターン及び判定結果を読み出し、それを参考にして現在の運転環境に適した新たな制御パターンを設定し、空調空間の今回の温度調節時に新たに設定した制御パターンでエアコン１２を駆動し空調調整を行う。 - 特許庁

An electric load is applied to a circuit pattern by a step of irradiating an electron beam for a predetermined time period to a wafer including the circuit pattern in a semiconductor manufacturing process to charge the circuit pattern to a predetermined charge voltage (Step 99), and a step of controlling a region surrounding the circuit pattern to a predetermined temperature by laser irradiation or the like (Step 106).例文帳に追加

半導体製造工程途中の回路パターンを含むウエハに対して、電子線を所定の時間照射して、回路パターンを所定の帯電電圧に帯電させる工程（ステップ９９）と、レーザー照射等により回路パターン周りの領域を所定の温度に制御する工程（ステップ１０６）とにより、回路パターンに電気的負荷を印加する。 - 特許庁

The method has a step to form a conductive pattern 110 on a substrate 100, and a step that heats the substrate 100, on which the conductive pattern 110 is formed, up to the temperature softening the top surface of the substrate 100 and then presses a pressing member 120 on the conductive pattern 110 from above to press the conductive pattern 110 into the top surface of the substrate 100.例文帳に追加

基板１００上に導電性パターン１１０を形成する工程と、導電性パターン１１０が形成された基板１００を、基板１００の表面が軟化を生じる温度まで加熱し、上方から押圧部材１２０を導電性パターン１１０に押し付けて、導電性パターン１１０を基板１００の表面に押し込む工程と、を備える。 - 特許庁

The temperature correction value of each hot platen region of this hot platen is set with a calculation model created from the correlation with the linewidth of a resist pattern and a temperature correction value which are heat-treated and formed in the hot platen, and set.例文帳に追加

この熱板の各熱板領域の温度補正値は，熱板において熱処理されて形成されるレジストパターンの線幅と温度補正値との相関から作成された算出モデルにより算出されて設定される。 - 特許庁

When a moving means (a vehicle) 50 travels on a snow-covered road, an infrared camera 10 photographs the place distribution of snow surface temperature lowered by a snow melting agent, as a temperature pattern 70 and sends it to a discriminating device 20.例文帳に追加

移動手段（車輌）５０は、積雪の道路を走行すると、赤外線カメラ１０は、融雪剤により低下した雪面温度の場所による分布を温度パターン７０として撮影し、これを判別装置２０へ送る。 - 特許庁

Next, a batch processing sequence candidate preparing part 42 prepares one or more kinds of candidates to which a processing sequence about a batch processing number at each temperature is allocated according to a temperature pattern (=energy=cost) being a constraint condition.例文帳に追加

次に、バッチ処理順序候補作成部４２が、各温度でのバッチ処理数を、制約条件である温度パターン（＝エネルギー＝コスト）に従って処理順序を割振った候補を１または複数通り作成する。 - 特許庁

By controlling the electronic expansion valve 20 by the appropriate operation pattern selected corresponding to the indoor temperature T, the environment of the wide-range temperature zone is achieved even if the number of the electronic expansion valves 20 is one.例文帳に追加

室内温度Ｔに応じて選定された適切な動作パターンで電子膨張弁２０を制御することで、電子膨張弁２０が１個であっても、広範囲な温度域帯の環境を実現することができる - 特許庁

To provide a reheater boiler and a gas temperature control method of the reheater boiler, which reduce imbalance of a gas temperature of a combustion gas on an outlet side of a reheat furnace by changing the flow pattern of the gas of the reheat burner.例文帳に追加

再熱バーナのガスの流動パターンを変化させることにより、再熱炉の出口側での燃焼ガスのガス温度のアンバランスの低減を図る再熱ボイラ及び再熱ボイラのガス温度制御方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, a target exothermic temperature of the heating unit 11 corresponding to the suitable temperature of the hair treatment by the rod 3 can be set from the correlation between the calorific value of the resistance pattern material 33 and the heat release of the sheet 31.例文帳に追加

従って、抵抗パターン材３３の発熱量とシート３１の放熱量との相対関係からロッド３の頭髪処理に適した温度に応じた発熱体１１の目標発熱温度を設定することができる。 - 特許庁

In addition, the stepwise heating in the dewaxing step is preferably conducted at a temperature zone of ≤250°C, and, in the firing step, the resin pattern (a) is preferably burnt and extinguished at a temperature of 300°C-750°C.例文帳に追加

尚、脱ロウ工程での階段状加熱は、２５０℃以下の温度帯域で行われることが望ましく、また前記焼成工程では、３００℃〜７５０℃の温度にて樹脂模型（ａ）を燃焼消失させることが望ましい。 - 特許庁

The temperature of a sensitizer, which is spin-coated is made to increase until a temperature higher than 30 °C for coating the sensitizer, whereby a satisfactory pattern is formed even in an atmosphere, where a post- exposure heat treatment is delayed and high-concentration amine exists.例文帳に追加

スピン塗布される感光剤の温度を３０℃以上まで上昇させて塗布することにより、露光後熱処理が遅延されたり高濃度のアミンが存在する雰囲気においても良好なパターンを形成する。 - 特許庁

Then, each temperature correction value for each area of the heating plate that causes the factor of the polynominal function to approach zero is calculated, using a relational model J that is a function of a linewidth correction quantity for the resist pattern and a temperature correction value.例文帳に追加

次に、レジストパターンの線幅補正量と温度補正値との関数である関係モデルＪを用いて、前記多項式関数の係数が零に近づくような熱板の各領域の温度補正値を算出する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises processes for forming a resist pattern on a base layer; smoothing, at least the wall surfaces of the resist pattern by applying a resist pattern smoothing material to the surface of the resist pattern and by controlling at least either one of coating thickness and heating temperature, including heating and development; and patterning the base layer by etching, using the smoothed resist pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンの表面にレジストパターン平滑化材料を塗布した後、加熱し、現像することを含み、塗布の厚み及び加熱の温度の少なくともいずれかを調整することにより、レジストパターンにおける少なくとも壁面を平滑化させる工程と、平滑化されたレジストパターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an electronic circuit device of such a structure as a pattern formed on a substrate is not stripped due to expansion or contraction caused by temperature variation of mold resin.例文帳に追加