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temperature patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 996件
To improve polymerization hardenability during exposure, and to form a pattern structure and a protective film at a low heating temperature or without heating processing.例文帳に追加
露光時の重合硬化性を向上し、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できるようにする。 - 特許庁
The calculation model calculates the temperature correction value from which the linewidth within the wafer surface becomes uniform based on the linewidth measurement value of the resist pattern.例文帳に追加
算出モデルは,レジストパターンの線幅測定値に基づいて,ウェハ面内の線幅が均一になるような温度補正値を算出する。 - 特許庁
Since the substrate whose temperature is controlled at a desired value is shifted to the following step, a variance of line width of the pattern after development can be eliminated.例文帳に追加
この基板温度が所望値に制御された基板が次工程に移行されるので、現像後のパターンの線幅のバラツキを抑制する。 - 特許庁
A calculating means 2701 of the holding time of intermediate temperature and a speed pattern changing means 2702 are provided and preset control by which the holding time of the intermediate temperature is satisfied is performed by dealing the observance of the holding time of the intermediate temperature as constraint conditions.例文帳に追加
また,中間温度保持時間算出手段2701と速度パターン変更手段2702を備え,中間温度保持時間遵守をプリセット制御の制約条件として扱うことで,中間温度保持時間を充足させたプリセット制御を行う。 - 特許庁
A floor heating controller 52 previously stores, in a memory, a matching map of a temperature difference between a detected room temperature set assuming the hot water supply at 60°C and a target floor heating temperature with an ON/OFF pattern in a predetermined control cycle of a thermomotive valve 15.例文帳に追加
床暖房コントローラ52は、60℃の温水供給を想定して設定された検出室温と目標床暖房温度との温度差と熱動弁15の所定制御周期におけるON/OFFパターンとの対応マップを予めメモリに記憶している。 - 特許庁
The method for forming a photoresist pattern includes steps of irradiating a photoresist structure 12 which includes an antireflection film 14 on a base 13 and a resist pattern 16 comprising a chemically amplified photoresist in contact with the antireflection film and on the antireflection film, with energy rays, and then heating the photoresist structure at a temperature equal to or higher than the glass transition temperature and lower than the melting point of the resist pattern.例文帳に追加
下地13上の反射防止膜14と、反射防止膜と接触し、かつ反射防止膜上の化学増幅フォトレジストからなるレジストパターン16とを含むフォトレジスト構造体12に、エネルギー線を照射し、その後、フォトレジスト構造体を、レジストパターンのガラス転移点以上かつ融点未満の加熱温度で加熱する - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加
従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて1回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁
While temperature of an emitter is gradually raised from liquid nitrogen temperature by stopping supply of liquid nitrogen in a state in which an emission pattern by ion source gas is observed, a draw-out voltage is decreased until the emission pattern by the ion source gas ceases to be observed and an emission pattern by residual water molecules begins to be observed.例文帳に追加
イオン源ガスによるエミッションパターンが観察される状態で、液体窒素供給を停止してエミッタの温度を液体窒素温度から徐々に上昇させながら、イオン源ガスによるエミッションパターンが観察されなくなり残留水分子によるエミッションパターンが観察できるようになるまで前記引き出し電圧を減少させる。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for measuring heat pattern in a sintering layer with which thermo-couples for measuring the variation of temperature (heat-pattern) in the sintering layer are not stuck to the sintering raw material at the time of measuring the temperature, and can be used for long term and the heat-pattern in the sintering layer can surely be measured and calculated.例文帳に追加
焼結層内の温度変化を測定するための熱電対が、温度測定の際に焼結原料に溶着せず、熱電対を長期間にわたり使用することができ、しかも、焼結層内の温度変化を、確実に測定、算出することができる焼結層内のヒートパターン測定方法と焼結層内のヒートパターン測定装置を提供する。 - 特許庁
Since a heat transmission transfer regulating pattern 9 having a narrow width and protruding to the PTC thermistor 1 is formed on the pattern 3, heat diffusion is reduced from the PTC thermistor 1 to the pattern 3, and thus, a temperature can positively be increased when an overcurrent is applied.例文帳に追加
そして、電源ベタパターン3にはPTCサーミスタ1側に突出した、幅の狭い伝熱規制パターン9が形成されているので、PTCサーミスタ1から電源ベタパターン3への熱の拡散を少なくし、過電流時に温度を確実に上昇させることができる。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition having excellent sensitivity, resolution and adhesiveness, and giving a pattern having excellent heat resistance, low water absorption and a good pattern shape even when used in a low-temperature curing process at ≤280°C, a method for producing a pattern, and electronic components.例文帳に追加
感度、解像度、接着性に優れ、さらに280℃以下で行なわれる低温硬化プロセスで用いても耐熱性に優れ、吸水率の低い、良好な形状のパターンが得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、電子部品を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming material which excels in resolution and tenting property, excels also in developability and suppresses edge fusion because a binder contained in a photosensitive layer has an I/O value and a glass transition temperature each in a given numeric range, and to provide an apparatus for forming a pattern with the pattern forming material and a method for forming the pattern using the pattern forming material.例文帳に追加
感光層に含まれるバインダーのI/O値及びガラス転移温度が、ともに一定の数値範囲内であることにより、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、かつエッジフュージョンの発生が抑制されるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
Consequently, even when the complicated printing misalignment occurs, the temperature of the pattern area of the printing plate PL is controlled to different temperature for each area to correct a total pitch and eliminate the printing misalignment.例文帳に追加
このため、複雑な印刷ずれが生じた場合であっても、印刷版PLのパターン領域をエリアごとに異なる温度に温調してトータルピッチを補正し、印刷ずれを解消することが可能となる。 - 特許庁
To eliminate dispersion in the temperature in the cooling surface of a stage by allowing a cooling water for controlling temperature of a pattern mask in an exposure stage to flow in a cooling water bath provided over the entire surface of a substrate placement surface which is to be exposed in the stage.例文帳に追加
液晶表示装置のカラーフィルタパターンの露光方法において、基板ステージ内でガラス基板の温度制御を行う際の面内温度のばらつきを低減する手段を提供すること。 - 特許庁
The setting temperature in the heating process and the cooling pattern in the painting process are set so that predetermined low temperature annealing processing is performed on the spring in the heating process and the painting process.例文帳に追加
そして、加熱工程における設定温度と塗装工程における冷却パターンが、加熱工程及び塗装工程においてばねに所定の低温焼鈍処理が行われるように設定されている。 - 特許庁
A room temperature developing liquid and a high temperature developing liquid to modify the surface layer of a resist pattern can be supplied by switching from for example a common nozzle to a substrate disposed on a mount table.例文帳に追加
載置台上の基板に対して例えば共通のノズルから常温現像液とレジストパターンの表層部を改質するための高温現像液とを切り替えて供給できるようにする。 - 特許庁
In the process for generating the control pulse, when the environmental temperature of a pattern formation device changes, a prescribed length of the signal outputted from the linear scale means is changed, corresponding to the temperature change.例文帳に追加
この制御用パルスを生成する過程で、パターン形成装置の環境温度が変化した場合、その温度変化に応じてリニアスケール手段から出力される信号の所定長が変化する。 - 特許庁
To obtain the accurate temperature distribution of an object to be picked up by eliminating a fixed pattern showing an inhomogeneous temperature distribution on a screen after calibration is performed in an infrared image pickup device.例文帳に追加
赤外線撮像装置において、キャリブレーション実施後に発生する画面上の不均一な温度分布を示す固定パターンを解消し、被撮像物の正確な温度分布を得ることを目的とする。 - 特許庁
To solve the problem of a conventional infrared camera that since the sensitivity correction data is fixed by the element temperature, the sensitivity characteristics are varied as the element temperature is varied to cause deviation in correction and fixed pattern noise becomes conspicuous in an image.例文帳に追加
従来の赤外線カメラはその感度補正データが素子温度により一定であるため、素子温度が変ると感度特性が変り、補正ずれが生じ、画像に固定パターン雑音が目立つ。 - 特許庁
The types of gas appliances and the gas leakage are discriminated based on a correlation between a flow rate and pressure, a correlation between the flow rate and a temperature, and a correlation between the pressure and the temperature, in addition to a flow pattern and range of gas.例文帳に追加
ガスの流量パターンおよび範囲に加えて、流量と圧力、流量と温度及び圧力と温度の相関に基づいて、ガス器具の種別及びガス漏れの判別を行う。 - 特許庁
The lithographic device is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, and includes an air shower and a temperature sensor positioned near the air shower for measuring the temperature of an air stream in the air shower.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するよう構成され、エアシャワーと、エアシャワーの近くに位置決めされ、エアシャワー内の気流の温度を測定する温度センサとを含む。 - 特許庁
The wax material is stirred by rotating the screw 42 and temperature-equalized with the heat transfer from the stirred temperature adjusting medium, and after weighing, the screw 42 is advanced and the wax material is injected into a wax pattern forming metallic mold from a nozzle part 48.例文帳に追加
ろう材はスクリュ42の回転により、攪拌され温度調節媒体からの熱伝達により均熱化され、計量後にスクリュ42を前進させてノズル部48から、ろう模型成形金型に射出する。 - 特許庁
Under a state where the temperature at at least a part of the circumferential edge part of the transparent substrate is sustained higher than the temperature in the central part of the transparent substrate, the light shading film is etched by a plasma etching method using the resist film pattern as an etching mask thus forming a light shading film pattern.例文帳に追加
前記透明基板の周縁部のうち少なくとも一部の温度を前記透明基板の中心部分の温度より高く維持する状態で、前記レジスト膜パターンをエッチングマスクとし、プラズマを利用するエッチング方法によって前記遮光膜をエッチングして遮光膜パターンを形成する。 - 特許庁
The junction temperature Tj measured before driving the DC motor and the threshold temperature Tset obtained for the corresponding drive pattern are compared, and when it is predicted to be Tj>Tset, replacement with the drive pattern capable of satisfying a condition Tj≤Tset is performed and the DC motor is driven.例文帳に追加
DCモータを駆動する前に測定されたジャンクション温度Tjと、対応する駆動パターンについて求められた閾値温度Tsetとを比較し、Tj>Tsetとなることが予測されると、条件Tj≦Tsetを満たすことが可能な駆動パターンに代替してDCモータを駆動する。 - 特許庁
To provide a mask for patterning with which a preliminarily determined pattern such as a grating or circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a film forming device using the mask.例文帳に追加
従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状や環状などの所定のパターンの形成を、単独のマスクを用いて1回の成膜で行うことができるパターン形成用マスク、及び該マスクを用いた成膜装置の提供。 - 特許庁
Next, the resist pattern 43 is used as a mask to etch the aluminum film 41 to expose the surface of the glass substrate 26, and a light-shielding film 27 is formed with a thickness greater than that of the aluminum film 41 at a temperature higher than the heat tolerance temperature of the resist 42 in a state where the resist pattern 43 remains on the aluminum film 41.例文帳に追加
次に、レジストパターン43をマスクとしてアルミ膜41をエッチングし、ガラス基板26の表面を露呈させ、アルミ膜41上にレジストパターン43を残したままの状態で、アルミ膜41よりも厚く、レジスト42の耐熱温度よりも高温で遮光膜27を成膜する。 - 特許庁
To correct variation pattern noise peculiar to a work affected by heating temperature for a work having small variation pattern noise peculiar to the work that the work itself has, especially a work having low emissivity, a work having a small temperature increase, or a work having a slight failure in heat radiation performance.例文帳に追加
ワーク自体が持つワーク固有の変動パターンノイズ、特に放射率が低いワーク、温度上昇の小さいワークあるいは放熱性能の異常が軽微であるワークについて、加熱温度の影響を受けるワーク固有の変動パターンノイズを補正することができるようにする。 - 特許庁
Accordingly, the line width can be controlled precisely and the predetermined resist pattern can be obtained by measuring the line width of the resist pattern after the development and then controlling the temperature of heat treatment, based on the result of the measurement, for example, by raising the temperature of heat treatment when the line width is smaller than a predetermined width.例文帳に追加
従って、例えば、現像後のレジストパターンの線幅を測定し、この測定結果に基づいて例えば線幅が所定より小さければ加熱温度を所定より上げる等の制御を行うことにより、精密に線幅を制御することができ、所望のレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁
In a process of heating a substrate where a resist pattern is formed, a heat-treatment temperature is set again according to a result T obtained by measuring the temperature of a heat-treating apparatus so that the quantity of variation in pattern size due to a heat treatment reaches a desired value in the middle of the heat treatment.例文帳に追加
レジストパターンを形成した基板を加熱処理する工程において、加熱処理装置18の温度測定した結果Tに基づいて、加熱処理の途中で、加熱処理によるパターン寸法の変化量が所望の値となるように、加熱処理温度を再設定する。 - 特許庁
In the method for forming the oriented polyester film, a mold having an uneven pattern which is heated at a temperature between the glass transition temperature and crystallization temperature of the polyester of the polyester film is pushed to at least one side of the polyester film and then peeled off to transfer the uneven pattern of the mold to the polyester, and the polyester film is stretched.例文帳に追加
ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステルフィルムのポリエステルのガラス転移温度以上結晶化温度以下の温度に加熱した凹凸パターンを有する型を押し当てその後に型を剥離することで型の凹凸パターンをポリエステルフィルムに転写し、ポリエステルフィルムを延伸することを特徴とする、延伸ポリエステルフィルムの製造方法。 - 特許庁
The apparatus comprises a DUT having means for self-heating according to an external control signal pattern, a sensor for directly monitoring the temperature of the DUT and means for generating the control signal pattern so that the temperature of the DUT coincides with an expected value, based on the output of the sensor, thus making the DUT temperature controllable.例文帳に追加
外部からの制御信号パターンに応じて自己発熱する発熱手段を備えたDUTと、このDUTの温度を直接監視するセンサと、このセンサの出力に基づき、前記DUTの温度が期待値に一致するような前記制御信号パターンを発生する手段を備え、DUTの温度が制御できるように構成する。 - 特許庁
An outside air temperature sensor and a solar radiation sensor are used to detect an outside air temperature and the quantity of solar radiation, so that a pattern corresponding to present external environment can be found and the position of dampers 112, 113 corresponding to the target blow temperature be found from the corresponding pattern for air blow from the air blow port 115 or 116 corresponding to external environment.例文帳に追加
外気温センサ21および日射センサ22により外気温や日射量を検出し、現時点での外部環境がどのパターンに当てはまるかを求め、対応するパターンから目標吹出し温度に対応するダンパ112,113の位置を求め、外部環境に応じた空気吹出口115または116から送風を行うようにする。 - 特許庁
A microcomputer 10 reads detected temperatures from an indoor temperature sensor 6, accumulates an operation time of each component by the detected temperatures, calculates the volume of temperature stress of each component from each detected temperature and the operation time by the detected temperature, corrects the volume of the temperature stress using temperature difference data in accordance with an operation pattern and writes it in an indoor storage component 11 during an air conditioning mode.例文帳に追加
マイコン10は、空調運転モード中、室内温度センサ6からの検出温度を読み込んで、検出温度毎に各構成部品の動作時間をそれぞれ積算し、各検出温度とその検出温度毎の動作時間とからそれぞれ構成部品の温度ストレス量を算出し、かつ運転パターンに応じた温度差データを用いてその温度ストレス量を補正し、室内記憶部11に書き込む。 - 特許庁
A plurality of model control points pa, pb, pc are set in a two-dimensional diagram pattern formed of a temperature deviation En between a target after-evaporator temperature TEO and after-evaporator temperature Te and of the deviation change rate Edot of the temperature deviation En, so that an actual control coordinate point px in a present input value is specified.例文帳に追加
目標蒸発器後温度TEOと蒸発器後温度Teとの温度偏差Enと、その温度偏差Enの偏差変化率Edotとで形成された二次元線図パターンに多数のモデル制御点pa、pb、pcを設定し、現入力値における実制御座標点pxを特定する。 - 特許庁
To provide an exposure method and an exposure apparatus for preventing pattern distortion of wafer resulting from temperature change during evacuation with higher accuracy.例文帳に追加
真空引き時の温度変化に起因するウエハのパターン歪みを高い精度で防止することのできる露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁
To prevent a failure due to temperature from occurring when a marking pattern is formed at an element to be printed, such as a photosensitive material etc. by using a laser beam.例文帳に追加
レーザー光を用いて感光材料などの被印字体にマーキングパターンを形成するときに、温度による性能故障の発生を防止する。 - 特許庁
Either one of the lead patterns 6 connected to both ends of the temperature measuring resistor 5 is connected to the dummy pattern 7 in the vicinity of the electrode 8.例文帳に追加
また、測温抵抗5の両端に接続されたリードパターン6は、いずれか一方が、電極8付近でダミーパターン7に接続される。 - 特許庁
To provide a planar heater equipped with a carbon wire heating element having an arrangement pattern capable of setting a heating surface as a nearly uniform heating temperature surface.例文帳に追加
加熱面を略均一な加熱温度面になすことができる配置パターンを有するカーボンワイヤー発熱体を備えた面状ヒータを提供する。 - 特許庁
Subsequently, wiring 34 for connecting the electrode 14 and the wiring pattern 22 electrically at a temperature lower than the melting point of the solder material is formed.例文帳に追加
ろう材の融点よりも低い温度で、電極14と配線パターン22とを電気的に接続する配線34を形成すること、を含む。 - 特許庁
A wiring pattern 54 of a circuit including transistors T1, T2 also serves as heat conduction passages to the temperature sensor 17 from the transistors T1, T2.例文帳に追加
トランジスタT1,T2を含む回路の配線パターン54が、トランジスタT1,T2から温度センサ17への熱伝導経路に兼用されている。 - 特許庁
On the other hand, each wiring pattern 83a connected to each temperature detector 83 is pulled out to another edge 33c of the opposite side, respectively.例文帳に追加
また、各温度検出体83に接続された各配線パターン83aは、それぞれ反対側の他の端縁33cに引き出されている。 - 特許庁
After that, a postbaking step is conducted by heating the substrate having the photoresist pattern at a second temperature of from about 90°C to about 110°C.例文帳に追加
その後、後熱処理工程がフォトレジストパターンを有する基板を約90℃から約110℃の第2温度で加熱することにより実施される。 - 特許庁
The electromagnetic wave shield has a shield pattern formed on a transparent substrate by an intaglio offset printing method using the high-temperature calcination type silver paste.例文帳に追加
電磁波シールドは、透明基板上に、前記高温焼成型銀ペーストを用いて、凹版オフセット印刷法によってシールドパターンを形成した。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a transparent conductive film having high temperature resistance, capable of suppressing the occurrence of damage on a circuit pattern portion.例文帳に追加
回路パターン部の損傷の発生を抑制でき、耐熱性の高い透明導電性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
A signal processing section 26 multiplies the gain with the fixed pattern noise at the standard temperature and subtracts the product from an output signal of the CCD 22.例文帳に追加
信号処理部26は、標準温度の固定パタンノイズに対してゲイン値を乗算し、この積をCCD22の出力信号から引き算する。 - 特許庁
To provide a conductor temperature estimation method which can highly precisely and easily estimate a conductor temperature at an arbitrary time or a peak value of a conductor temperature when a load current having a daily load pattern is applied to an installed power cable line.例文帳に追加
布設された電力ケーブル線路において日負荷パターンを有する負荷電流が繰り返し流れる場合の任意の時刻における導体温度あるいは導体温度のピーク値を精度良く、しかも簡便に推定できる導体温度推定方法を提供する。 - 特許庁
When the temperature of a cooling chamber 12 is slightly high due to an individual difference of the refrigerator, or the temperature of the cooling chamber 12 is shifted slightly lower than a general set range by a user's demands, the temperature is minutely controlled by cutting the substrate pattern 8a.例文帳に追加
冷蔵庫の個体差により冷蔵室12の温度が若干高めになった場合や、ユーザーの要望により冷蔵室12の温度を通常の設定範囲より低めにシフトさせたい場合は、この基板パターン8aを切断することで温度の微調整を行う。 - 特許庁
Additionally, periodic boundary conditions are set for the cut surfaces of the tread pattern models with respect to one pitch so that the temperature of a pneumatic tire is calculated when the tread pattern models with respect to one pitch are formed all over in the peripheral direction.例文帳に追加
更に、1ピッチ分のトレッドパターンモデルの切断面に周期境界条件を設定し、1ピッチ分のトレッドパターンモデルが周方向の全体に亘って作成される場合の空気入りタイヤの温度が算出される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist.例文帳に追加
パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A flexible printed board 46 for electrically connecting the wiring pattern 41 extended from the temperature sensors 40 and a circuit pattern of a control circuit with each other is mounted between the element substrate 31 and a circuit board 32.例文帳に追加
素子基板31と回路基板32との間には、温度センサ40から延設された配線パターン41と制御回路の回路パターンとを電気的に接続するフレキシブルプリント基板46が取り付けられている。 - 特許庁
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