「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

To lower heat treatment temperature for conducting the predetermined heat treatment such as a film forming process to form a film to a substrate by supplying the treatment gas into a reaction vessel and heating the processing atmosphere.例文帳に追加

反応容器内に処理ガスを供給すると共に処理雰囲気を加熱して基板に対して成膜処理などの所定の熱処理を行うにあたり、熱処理の温度を低くする。 - 特許庁

To provide a temperature control method unaffected by an aging variation of impedance in an A/F sensor which has stabilized output characteristics by performing energization processing by high-voltage application.例文帳に追加

高電圧印加による通電処理を行って出力特性を安定化させたＡ／Ｆセンサにおいて、インピーダンスの経時変化に影響されることのない温度制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lubricative medical instrument provided with favorable lubricity on the surface after processing at ordinary temperature without using a crosslinking agent, a catalyst, and the like, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

架橋剤や触媒などを使用することなく、常温における処理により、表面に良好な潤滑性が付与された潤滑性医療用器具及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor capable of performing processing that reduces stress given to a user when a deterioration in responsiveness due to a temperature factor occurs in a storing part of image data.例文帳に追加

画像データの記憶部に温度要因による応答性の低下が発生した場合にユーザに与えるストレスを軽減した処理を行うことができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

The ceramic sintered compact is kept to 0 to 5°C until the drying processing is performed after the ceramic sintered compact and water are supplied to the barrel and the wet barrel polishing is performed at the water temperature of 20°C or less.例文帳に追加

また、バレルにセラミック焼結体と水を投入し、水温２０℃以下で湿式バレル研磨を行った後、乾燥処理を行うまで、セラミック焼結体を０〜５℃に保持する。 - 特許庁

To provide a waveguide type filter which has a simple configuration and has a lower temperature-dependency of a center wavelength than conventional one by easy processing, and to provide a semiconductor laser element using the same.例文帳に追加

簡単な構成かつ容易な加工によって中心波長の温度依存性が従来よりも小さい導波路型フィルタおよびそれを用いた半導体レーザ素子を提供すること。 - 特許庁

In the post-printing processing liquid containing at least polymer fine particles, the polymer fine particles having a glass transfer temperature of 50°C or higher and an average particle diameter of 200 nm or more are used.例文帳に追加

少なくともポリマー微粒子を含有する印刷後処理液において、該ポリマー微粒子として、ガラス転移温度５０℃以上且つ平均粒子径２００ｎｍ以上のものを使用する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which gives an image having a low fog level and ensures high sensitivity characteristics, without requiring long-time aging at a high temperature in production and to provide a processing method for the sensitive material.例文帳に追加

製造時、高温で長時間の熟成を必要とせず、画像に低カブリで高感度特性が得られるハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a polyurethane-urea elastic fiber retaining its own characteristics even in a high-temperature dyeing processing step, and hardly causing its own yarn breakage even with a low fineness, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

高温での染色加工工程でポリウレタンウレア弾性繊維の特性を失わず、かつ低い繊度の糸でも糸切れしにくいポリウレタンウレア弾性繊維及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a card issuing method and card issuing device for preventing the deterioration of picture quality by suppressing occurrence of a temperature difference in a card under write processing of information in an IC chip.例文帳に追加

ＩＣチップへの情報書き込み処理中におけるカード内の温度差発生を抑制し、画質劣化を防止したカード発行方法およびカード発行装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-shrinkable film excellent in shrink properties, small in a change of a shrinkage factor caused by processing temperature, excellent in trancparency, printability, heat sealability, solvent-bonding properties, and drawing properties.例文帳に追加

収縮性に優れ、処理温度による収縮率変化が小さく、透明性、印刷性、ヒートシール性、溶剤接着性、延伸性に優れる熱収縮性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of making the temperature of a wafer on a susceptor uniform even in the case of applying precoat on the susceptor supporting the wafer, and provide the susceptor used for the same.例文帳に追加

ウエハを支持するサセプタにプリコートを施した場合でも、その上のウエハの温度を均一にすることができる基板処理装置およびそれに用いられるサセプタを提供する。 - 特許庁

Thereby, even if the image formation state of the optical system which is a hardware changes due to the temperature change, the deterioration of the image quality can be suppressed by compensating by software processing.例文帳に追加

これによって、ハードウェアである光学系が温度変化により、その結像状態が変化しても、ソフトウェア処理によって補償することで、画質の劣化を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a method for recovering iodine by which iodine can be recovered from a gas containing a volatile organic iodine compound with low energy and without the need for the thermal processing at a high temperature.例文帳に追加

高温での熱処理を必要とせず、揮発性有機ヨウ素化合物を含む気体中から低エネルギーでヨウ素を回収することができるヨウ素の回収方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the HfAlOx film 10 is densed by conducting the first PDA under the condition that temperature is 1,050°C, the nitrogen atmosphere includes the partial pressure of oxygen of 0.02%, and the processing time is one second.例文帳に追加

その後、温度が１０５０℃、酸素分圧が０．０２％の窒素雰囲気、処理時間が１秒の条件で１回目のＰＤＡを行うことにより、ＨｆＡｌＯｘ膜１０を緻密化する。 - 特許庁

Next, the inside of the processing tank 21 is set at a specified high pressure, thereby supplying a steam that is adjusted at a high boiling temperature corresponding to the specified pressure for reflow soldering.例文帳に追加

次に、処理槽２１内を所定の高圧とすることにより、その圧力に対応する高い沸点温度に調整された蒸気が供給されてリフロー半田付けが行われる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metal thin layer such as a thin membrane and an electric wiring circuit with a low volume resistance value on a substrate by inexpensive heating processing at a low temperature.例文帳に追加

安価に、かつ、低温での加熱処理によって、基材の上に体積抵抗値が低い、薄膜、電気配線回路等の金属薄層を製造する方法を提供することである。 - 特許庁

Baking processing is performed at a temperature higher than the melting point of solder 13a, the resin for sealing is cured in the melting state of the solder 13a, and a sealing resin section 5a is formed.例文帳に追加

半田１３ａの融点よりも高い温度でベーク処理を行って、半田１３ａが溶融した状態で封止用樹脂を硬化させて封止樹脂部５ａを形成する。 - 特許庁

To provide an "audio apparatus" whereby a user can listen to an audio signal without causing a sense of incongruity in the listening sense to the user even when protection processing is applied to a temperature rise.例文帳に追加

温度上昇に対する保護処理を行う場合であっても、ユーザに聴感上の違和感を与えることなくオーディオ信号を聴取可能にした「オーディオ装置」を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of forming strong induction electromagnetic field in a vacuum container and preventing sputtering, temperature rise, and generation of particles of an antenna conductor.例文帳に追加

真空容器内に強い誘導電磁界を形成することができ、且つ、アンテナ導体のスパッタリングや温度上昇及びパーティクルの発生を防ぐことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To obtain both an amorphous polyester resin which can be subjected to calender processing, has a hardness to be freely adjusted by the amount of additive added and an excellent elongation at a low temperature and a resin sheet using the same.例文帳に追加

カレンダー加工ができ、硬さを添加剤の添加量で自由に調整できると共に、低温での伸びがよい非晶性ポリエステル樹脂及びそれを用いた樹脂シートを提供する。 - 特許庁

To increase the nitriding rate of an oxide film while holding the inside of a processing chamber at a temperature of ≤800°C, and to suppress localization of nitrogen atoms nearby an interface between the oxide film and a substrate.例文帳に追加

処理室内の温度を８００℃以下に保持しつつ酸化膜の窒化速度を向上させると共に、酸化膜と基板との界面付近における窒素原子の局在を抑制する。 - 特許庁

Hydrogen ions are implanted previously in the major surface of an Si substrate 10, and the Si substrate 10 and the supporting substrate 20 are stuck in the temperature range of 100-400 °C after surface activation processing.例文帳に追加

予めＳｉ基板１０の主面に水素イオン注入し、表面活性化処理の後にＳｉ基板１０と支持基板２０を１００〜４００℃の温度範囲で貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a material for multilayer processing, capable of forming a film having a high etching selective ratio to a film formed from an organic material, at a low temperature.例文帳に追加

低温で、有機材料から形成される膜に対して高いエッチング選択比を有する膜を形成可能な多層プロセス用材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for easily producing fine particles with nanometer size consisting of alloy of a platinum group element and a nonmetallic element under lower temperature condition than that of the conventional heating, combustion processing.例文帳に追加

従来の加熱・燃焼処理よりも低温条件下で白金族元素と非金属元素との合金からなるナノメートルサイズの微粒子を容易に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To perform control so as to perform the temperature drift correction processing of a thermal-infrared camera in timing of not hindering a target object detecting function utilizing the imaging of the thermal-infrared camera.例文帳に追加

熱赤外線カメラの温度ドリフト補正処理が、該熱赤外線カメラの撮像を利用した目的対象の検出機能に支障が生じないタイミングで行われるように制御する。 - 特許庁

To provide a showcase for smoothly defrosting an evaporator while minimizing the temperature change in a display chamber, and smoothly performing drainage evaporating processing.例文帳に追加

陳列室内の温度変化を極力最小限としつつ、円滑に蒸発器の除霜を行うことができると共に、円滑なドレン蒸発処理を実現できるショーケースを提供する。 - 特許庁

The control section 15 can make the audio output processing section 14 eliminate signals at frequencies equal to or below a low cut-off frequency corresponding to the prescribed temperature or reduce the level of the signals.例文帳に追加

制御部１５は、オーディオ出力処理部１４に対し、所定の温度に応じた低域カットオフ周波数以下の信号を除去させても良いし、該信号のレベルを低減させても良い。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature.例文帳に追加

処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing a urethane foam, which can inject a medicine accurately when the urethane foam is reacted with the medicine under high temperature and high pressure for monomerization.例文帳に追加

発泡ウレタンを高温高圧下で薬剤と反応させてモノマー化する際に、薬剤の注入を的確に行うことができる発泡ウレタンの処理方法及びその処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that reduces heat load to a metal gate electrode as well as performing heat-processing onto a high-dielectric gate insulating film at high temperature.例文帳に追加

金属ゲート電極への熱負荷を低減可能であるとともに、高誘電率ゲート絶縁膜に対する高温での熱処理が可能である半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a flexible, nonflammable decorative plate which is excellent in impact resistance and strength and can be used in curved surface applications at room temperature without being subjected to special treatment such as water-beating or thermal processing.例文帳に追加

耐衝撃性、強度に優れる上、フレキシビリティであり、水打ちや熱加工等の特殊な処理無しでかつ常温において曲面用途に用いることができる不燃化粧板を得る。 - 特許庁

To reduce the processing cost required for adjustment operation for suppressing individual differences and variation in temperature of output signals of a current sensor device; to shorten the adjustment time; and to raise yields.例文帳に追加

電流センサ装置の出力信号の個体差及び温度変動を抑制するための調整作業にかかる加工費を低減し、調整時間の短縮、歩留まり向上を図る。 - 特許庁

To lessen the frequency of heat treatment at high temperatures (≥600°C) and to realize lower temperature processing (600°C or lower), process simplification, and throughput improvement.例文帳に追加

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, which achieves uniformity of cooling gas pressure around a through-hole of a sample stage, and which prevents the generation of a temperature difference between a pusher pin and the sample stage.例文帳に追加

試料台の貫通孔周辺の冷却ガス圧力の均一化を図ると共に、プッシャピンと試料台との温度差の発生を防止したプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Cutting heat accumulated on the oil pan installing surface side K is radiated by the heat conductive members 9 after intermediate finishing processing so that temperature distribution near the inside of the cylinder bore is made uniform.例文帳に追加

中仕上げ加工後にオイルパン取り付け面側Ｋに蓄熱された切削熱を熱伝導性部材９によって放熱させ、シリンダボア内付近の温度分布を均一なものとする。 - 特許庁

To provide a structure protecting connecting parts between cables and easily implementing the clearing works of sensor in a mounting structure of temperature sensors to processing tanks, such as vacuum cooling apparatus and steam coolers.例文帳に追加

真空冷却機や蒸煮冷却機などの処理槽への温度センサの取付構造において、ケーブル間の接続部を保護し、センサの交換作業も容易な構造を提供する。 - 特許庁

To provide the heat-developable photosensitive material small in dependence on heat-development temperature and stabilized in performance, even in the case of fluctuated heat-development processing conditions and high in contrast.例文帳に追加

熱現像温度依存性が小さく、熱現像処理条件が変動しても安定した性能を与え、また高い硬調性を有する熱現像写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

To prevent the durability of a heater and a circuit board from being deteriorated by the peeling of an electrode, oxidization, deposition of crystals which are caused in a high-temperature and oxidizing atmosphere such as in a photographic processing device.例文帳に追加

写真処理装置内のような、高温、且つ酸化性雰囲気中で発生する電極の剥離、酸化、結晶の付着等によるヒータや回路基板の耐久性の低下を防止する。 - 特許庁

To provide a potting method of high temperature molten slug for restraining melting damage of a slag pot, facilitating recycling of the potted slag, and restraining reduction in molten slag processing efficiency.例文帳に追加

溶さい鍋の溶損を抑制することに加え、受鍋したスラグのリサイクルを容易し、且つ溶融スラグ処理効率の低下を抑制するための高温溶融スラグの受鍋方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing liquid cooling device which cools processing tanks to a desired temperature without depending upon continuous supply of water and is capable of extension when a photograph printing and developing device is installed in a warm district or an installation environment no equipped with an air conditioning system.例文帳に追加

写真焼付現像装置が温帯地方あるいは空調設備が備わっていない設置環境に設置される場合において、水の連続供給に頼らずに処理槽を所望温度に冷却でき、かつ増設可能となる処理液冷却装置の提供。 - 特許庁

This compressed solid preparation is improved in preventing the trouble of the adhesion to a processing machine by formulating plural components causing the lowering of melting point in a group division condition or by formulating plural components causing the lowering of melting point as pelletized grains at a processing temperature not fusing the components themselves.例文帳に追加

融点降下を生じる複数成分を各々群分け配合するか、あるいは、融点降下を生じる複数成分を、それらが融解しない品温で造粒した粒を配合することにより、成形装置への付着が改善された固形圧縮製剤。 - 特許庁

The film forming method comprises placing a substrate W inside a processing vessel 1, adjusting the temperature of the substrate W to 160-300°C, feeding Co_2(CO)_8 gas to the processing vessel 1, and thermally cracking Co_2(CO)_8 on the substrate W, thereby depositing the Co film on the substrate W.例文帳に追加

処理容器１内に基板Ｗを配置し、基板Ｗの温度を１６０〜３００℃とし、処理容器１内に気体状のＣｏ_２（ＣＯ）_８を供給し、基板Ｗ上でＣｏ_２（ＣＯ）_８を熱分解させて基板Ｗ上にＣｏ膜を成膜する。 - 特許庁

When a coating film is formed on the stabilizer bar 11 by a high temperature painting processing at a painting step, the rubber bush is strongly adhered and fixed to the stabilizer bar 11 at a low cost by simultaneously curing the thermosetting adhesive utilizing a heat at the time of painting processing.例文帳に追加

スタビライザーバーに対して、塗装工程において高温塗装処理により被膜が形成される際に、塗装処理の熱を利用して同時に熱硬化性接着剤が硬化することにより、ゴムブッシュがスタビライザーバーに強固かつ安価に接着固定される。 - 特許庁

The information processing apparatus, which includes electronic components such as a CPU and an LSI for performing various processing and an airflow generating portion such as a fan and a blower for generating an airflow for cooling electronic components, obtains temperature and humidity as environmental information around the apparatus.例文帳に追加

情報処理装置は、各種処理を実行するＣＰＵやＬＳＩなどの電子部品と、電子部品を冷却するための空気流を発生させるファンやブロアなどの空気流発生部とを有し、装置周囲の環境情報として、温度や湿度を取得する。 - 特許庁