「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical fiber gyroscope is equipped with a Sagnac interferometer 3, having a sensing coil of optical fiber, a temperature sensor 1 installed on the sensing coil, and a correction processing unit 21 correcting angular velocity data Bo, obtained from outputs of the Sagnac interferometer 3 through the following function A, based on the detected temperatures T from a temperature sensor 1.例文帳に追加

光ファイバジャイロは、光ファイバのセンシングコイルを有するサニャック干渉計３、センシングコイルに取り付けられた温度センサ１、温度センサの検出温度Ｔに基づき、サニャック干渉計３の出力から求まる角速度データＢｏを下記関数Ａにより補正する補正処理部２１を備える。 - 特許庁

An aging unit (DAC) 21 for processing a wafer W, where the coating film is formed, is provided with a setting plate 61, a temperature- circulating device 66 for adjusting the temperature of a setting plate 61, a chamber 62, a gas supply mechanism 70 to supply ammonium gas which includes vapor to the chamber 62 and a controller 60.例文帳に追加

塗布膜の形成されたウエハＷを処理するエージングユニット（ＤＡＣ）２１は、載置プレート６１と、載置プレート６１の温度を調節する温調循環装置６６と、チャンバ６２と、チャンバ６２に水蒸気を含むアンモニアガスを供給するガス供給機構７０と、制御装置６０を具備する。 - 特許庁

The substrate 6 is heated up to a temperature equal to or higher than the boiling temperature of chloride of a group III element (Ga) contained in the substrate 6, and at the same time, the radical generated in plasma of a plasma generator (electrode section 81) is brought into contact with the surface of the substrate 6, thereby processing its surface.例文帳に追加

上記基板６を、その基板６に含まれるIII族元素(Ｇa)の塩化物の沸点以上の温度に加熱し、同時に、プラズマ生成部(電極部８１)のプラズマ中で生成されたラジカルを基板６の表面に接触させることにより、基板６の表面を加工する。 - 特許庁

The electric control device 100 limits the drive amount of the water pump 20, and performs the processing of securing a circulating volume of the lubricant supplied to the bearing of the turbocharger 11 when it is predicted that the temperature of the bearing portion of the turbocharger 11 reaches a reference temperature or higher.例文帳に追加

電子制御装置１００は、ウォーターポンプ２０の駆動量を制限しており、ターボチャージャ１１の軸受け部分の温度が基準温度以上になることが予測されるときに、ターボチャージャ１１の軸受け部分に供給される潤滑油の循環量を確保する処理を実行する。 - 特許庁

The metal film is formed on the surface of the substrate by contacting the surface of the substrate, preferably cooled to a prescribed temperature of ≤15°C, to the processing liquid whose temperature is adjusted to ≤15°C to activate the surface, and then contacting the activated surface of the substrate to a plating solution.例文帳に追加

液温を１５℃以下に調整した処理液に、好ましくは１５℃以下の所定の温度に冷却した基板の表面を接触させて該表面を活性化させ、この活性化させた基板の表面をめっき液に接触させて該表面に金属膜を形成する。 - 特許庁

When the detected temperature of the temperature sensor 13 is higher than a specified value, processing for successively transmitting the image data to the display part 21 is quit so as to display image data currently obtained by a solid-state imaging element 11 at the display part 21 of the information processor 2.例文帳に追加

その際、温度センサー１３の検知温度が所定値以上である場合に、情報処理装置２の表示部２１に固体撮像素子１１より現在得られている画像データを表示させるために該表示部２１に対して画像データを連続して送信する処理を中止する。 - 特許庁

The pile fabric provided with a color pattern on the pile surface is obtained by sewing a pile using a dyed acrylic fiber and by using the color change of a pile part dyed at a low temperature by operations of heating temperature conditions and a heating method of pile processing such as a tenter process and a polishing process of pile sewing.例文帳に追加

アクリル系繊維を、染色した繊維を用いてパイルを縫製し、パイル縫製のテンター工程やポリッシング工程等のパイル加工の加熱温度の条件及び加熱方法の操作にて、低温で染色したパイル部が色変化する事を用いて、パイル表面に色模様を付与したパイル布帛。 - 特許庁

The control part 50 calculates an operation amount within a range of 0 to 1 by performing feedback control so that temperature of processing liquid may be maintained at preset prescribed temperature, and calculates a period of a heating period by dividing the heating on time by the operation amount.例文帳に追加

この制御部５０は、処理液の温度が予め設定された所定の温度に維持されるようフィードバック制御を行うことにより０〜１の範囲内にある操作量を算出し、加熱器オン時間を操作量で割り算することにより加熱周期の期間を算出する。 - 特許庁

To accurately measure the processing temperature of a silicon wafer without metal contamination contacting the silicon wafer by providing a temperature measuring function in a push-up pin for easily transferring by pushing up the silicon wafer held by an electrostatic chuck or the like.例文帳に追加

静電チャック等に保持されたシリコンウェハを突き上げて搬送し易くするための突き上げピンに温度測定機能を具備させることで、シリコンウェハに接触しても金属汚染することなく、精度よくシリコンウェハの処理温度を測定できる温度測定機能付き突き上げピンを提供する。 - 特許庁

This method for processing the purple sweet potatoes comprises a preliminary treatment for soaking the purple sweet potatoes in an ascorbic acid treating solution at a temperature at the vicinity of the gelatinization temperature of starch contained in the purple sweet potatoes, a steaming process for steaming the purple sweet potatoes after going through the preliminary treatment, and a dry process for drying the steamed purple sweet potatoes.例文帳に追加

紫いもに含まれる澱粉の糊化温度近傍で、紫いもをアスコルビン酸処理液に浸漬処理する前処理行程を行った後、前処理行程を経た紫いもを、蒸煮する蒸煮工程を行い、その蒸煮された紫いもを乾燥する乾燥工程を行う。 - 特許庁

The sense current optimizing processing of a magnetic disk device includes steps for measuring the environmental temperature (S101, S102); and steps for searching a sense current Is which indicates the most excellent error rate (BER) at the temperature by defining a sense current value set from the viewpoint of reliability in the magnetic head 23 as an upper limit (S103-S108).例文帳に追加

磁気ディスク装置のセンス電流最適化処理は、環境温度を測定する段階(S101,S102)と、磁気ヘッド２３の信頼性の観点から設定されたセンス電流値を上限として、その温度にて最も良好なエラーレート(BER)を示すセンス電流Isを探索する段階(S103〜S108)とを含む。 - 特許庁

To provide a temperature sensor and thermocouple, where an element is not broken even if an extra-fine thermocouple element wire is used for the temperature sensor of the processing unit of a semiconductor, and also raveling of an end part of a fiber insulator of a thermocouple element wire.例文帳に追加

半導体処理装置の温度センサーに極細熱電対素線を用いても素線が折損しない温度センサー及び熱電対を提供すること、及び熱電対素線の繊維質絶縁体の端部のほつれが発生しない温度センサー及び熱電対を提供する。 - 特許庁

To reuse a carbon material and a cured resin by providing a method of processing, which is excellent in safety and sanitation and in cost efficiency, and with which a carbon material/acid anhydride cured epoxy resin composite material is efficiently processed at a temperature equal to or lower than the temperature usually required for pyrolysis.例文帳に追加

安全衛生上および経済性に優れ、なおかつ通常熱分解に必要とされる温度以下で効率的に炭素材料／酸無水物硬化エポキシ樹脂複合材料を処理することのできる処理方法を提供することで、炭素材料と樹脂硬化物を再利用する。 - 特許庁

When detected temperature by a temperature sensor 36 is equal to or under a specified reference value (YES in the step S3), the warm-up operation is started by the control part 326 (step S4) and also processing for the color slurring correction is performed again by a color slurring correction control part 327.例文帳に追加

そして、温度センサ３６の検出温度が上記所定の基準値以下のとき（ステップＳ３でＹＥＳ）には、ウォームアップ制御部３２６によりウォームアップが開始される（ステップＳ４）とともに、色ずれ補正制御部３２７により色ずれ補正処理が再実行されるようにした。 - 特許庁

The cooker includes a heating part 11 for heating the cooked object, and a control part 10 for executing a cooking mode to make the heating part 11 continue a low-temperature heating processing for heating the cooked object at heating temperature in the range of 100-130 °C for at least one hour.例文帳に追加

被調理物を加熱する加熱部１１と、加熱部１１に対して、摂氏１００度〜摂氏１３０度の範囲内の加熱温度で被調理物を加熱させる低温加熱処理を少なくとも１時間継続させる調理モードを実行する制御部１０と、を備える。 - 特許庁

This PM burning system is provided with a PM combustion catalyst 10, a CPU 20 as an example of an arithmetic processing means, a temperature sensor 30, a temperature varying means 40, an oxygen concentration sensor 50, and an oxygen concentration varying means 60, and is mounted in an exhaust gas channel of an internal combustion engine (not shown in drawings).例文帳に追加

ＰＭ燃焼システムは、ＰＭ燃焼触媒１０と、演算処理手段の一例であるＣＰＵ２０と、温度センサ３０と、温度可変手段４０と、酸素濃度センサ５０と、酸素濃度可変手段６０とを備えており、図示しない内燃機関の排気流路に装着されている。 - 特許庁

The tractor is also characterized by automatically shifting to the recommended travel shift stage 158a and the recommended PTO shift stage 158b suitable for the automatic regeneration processing of the DPF 163 when the exhaust gas temperature detected by the exhaust gas sensor 157 is the predetermined temperature or less.例文帳に追加

また、排気ガスセンサ１５７で検出する排気ガス温度が所定温度以下では、自動的にＤＰＦ１６３の自動再生処理に適した推奨走行変速段１５８ａと推奨ＰＴＯ変速段１５８ｂに変速すべくしたことを特徴とするトラクタとする。 - 特許庁

An infrared signal is input and analyzed in the infrared image signal processing part 22 to find a temperature distribution of the inspection object 20, and the presence of the defect in the inspection object 20 and a size thereof are detected based on the temperature distribution.例文帳に追加

さらにこの赤外線映像信号処理部２２において赤外線の信号を入力して解析することにより検査対象物２０の温度分布を求め、この温度分布に基づいて検査対象物２０の欠陥の有無並びに大きさを検出するように構成される。 - 特許庁

This vapor processing system is constituted of a water discharging plug 2 for hot water of high temperatures installed on a sink 1; a ventilation fan 7 for discharging out of a house the vapor generated from the hot water of high temperature discharged from the water plug 2; and a controller 9 for starting the ventilation fan 7 when the water plug 2 discharges the hot water of high temperature.例文帳に追加

流し１に設ける高温水の吐水用水栓２と、この水栓２が吐水する高温水から発生する蒸気を屋外に排気させる換気扇７と、この換気扇７を上記の水栓２が高温水を吐水すると始動させるコントローラ９とを備えて形成する。 - 特許庁

The heat transferred from the processing container 1 is reflected by an aluminum layer 33 toward the processing container 1 and when the heat of the processing container 1 cannot be fully reflected and the temperature of the aluminum layer 33 is raised, the dissipation of heat to the outside can be suppressed by laminating the aluminum layer 33 and a resin layer 34 in a heat insulation block 30 from the processing container 1 side in this order.例文帳に追加

また、断熱ブロック３０の内部にアルミニウム層３３と樹脂層３４とを処理容器１側からこの順番で積層することによって、アルミニウム層３３により処理容器１から伝熱される熱を当該処理容器１に向けて反射すると共に、処理容器１の熱を反射しきれずにアルミニウム層３３が昇温した場合には樹脂層３４により外部への放熱を抑えることができる。 - 特許庁

In this removal method for removing a silicon oxide film formed on a surface of a processing object W in a processing vessel 4 capable of being vacuumed, a removal process of removing the silicon oxide film by using HF gas and NH_3 gas and setting a set range of processing temperature to 150-200°C is executed.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器４内にて、被処理体Ｗの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、ＨＦガスとＮＨ_３ ガスとを用いると共に、処理温度の設定範囲として１５０〜２００℃の範囲内に設定することによりシリコン酸化膜を除去する除去工程を行うようにした。 - 特許庁

To provide a liquid processing agent composition having such satisfactory solubility as to cause no turbidity or precipitation during storage of the processing agent, such vessel coloration resistance as not to stain a vessel even in the case of a concentrated liquid formulation and such suitability to rapid development that color balance is not lost even when high temperature rapid development is carried out and to provide a development processing method using the composition.例文帳に追加

処理剤の保管中に濁りや沈殿が生じない十分な溶解度、濃厚な液剤であっても容器が汚れない容器着色耐性、高温・迅速現像を行なってもカラーバランスがくずれない迅速現像適性を併せ有する液体処理剤組成物、及びその組成物を用いた現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an air conditioner for tea-manufacturing factory that can simply exhaust the high-temperature and high-humidity air drifting near the tea-processing machine and causes no noise toward the inhabitants in the vicinity of the tea-manufacturing factory in order to improve the health and hygiene of the tea-processing workers and to increase the tea-processing efficiency and improve the quality of the processed tea leaves.例文帳に追加

本発明は、製茶加工作業者の健康と衛生、及び製茶加工能率と製品茶葉の品質向上の為、構造が簡単で、低価格で、製茶加工装置の近くに漂った高温多湿の空気を簡単に排気出来き、製茶工場の周りの住民の騒音とならない製茶工場空調装置を提供する事を課題としている。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus which can reduce the installation floor area thereof, can heat chemical substances and processing substances under optimum temperature conditions, respectively, even when the processing substance is batch-processed by using the chemical substance having toxicity, and is superior in maintenance and safety for increasing the manufacturing yield of the processing substance.例文帳に追加

装置の設置床面積を小さくすることができるとともに、毒性を有する化学物質を用いて被処理物をバッチ処理する場合でもそれらの化学物質及び被処理物をそれぞれに最適な温度条件で加熱することができ、かつ被処理物の歩留まりを高めることができるメンテナンス性及び安全性に優れた熱処理装置を提供する。 - 特許庁

In this facility for processing exhaust gas of the ash melting furnace, the exhaust gas exhausted from the ash melting furnace 2 is introduced into a temperature reducing tower 3 having a tower wall heat-exchanged by cooling water, is cooled and simultaneously volume-reduced by a radiation cooling means, and the gas is performed with combustion processing by a combustion means 34 after dust removal processing.例文帳に追加

灰溶融炉の排ガスを処理する設備において、その灰溶融炉２から排出される排ガスを、冷却水により熱交換される塔壁を備える減温塔３内に導入して輻射冷却手段によって冷却すると同時に減容して、除じん処理後に、燃焼手段３４によりガスを燃焼処理する。 - 特許庁

A device for detecting failure of a thermostat is provided with a radiator water temperature sensor provided in a radiator side in relation to the thermostat and a control unit executing thermostat failure detection processing for detecting failure of the thermostat according to whether temperature detected by the radiator water temperature sensor changes by a predetermined amount or more when the engine reaches a predetermined warm up condition.例文帳に追加

サーモスタットの故障を検出する装置は、サーモスタットに対してラジエータ側に設けられたラジエータ水温センサと、エンジンが所定の暖機状態に達したならば、ラジエータ水温センサによって検出される温度が所定量以上変化したかどうかどうかに従ってサーモスタットの故障を検出するサーモスタット故障検出処理を実施する制御ユニットを備える。 - 特許庁

In an imaging apparatus including an imaging device, a video signal processing circuit, a means for detecting a flesh color, a means for varying a color tone of the detected flesh color and a means for detecting a color temperature of incident light, when incident light of a color temperature lower than an optical color temperature set to the imaging apparatus is detected, the detected flesh color is corrected into blue.例文帳に追加

撮像素子と映像信号処理回路と肌色を検出する手段と検出した前記肌色の色調を可変する手段と入射光の色温度を検出する手段とを有する撮像装置において、撮像装置に設定された光学色温度より低い色温度の入射光を検出した場合は、検出した前記肌色を青く補正する。 - 特許庁

This monitoring system includes: a thermography camera 41; a processing part 42 for calculating at least the area of a prescribed temperature region from temperature distribution image data generated by the thermography camera 41; and a determination part 43 for determining the presence/absence of a person to be monitored in a monitoring object region by the thermography camera 41 based on the area of the prescribed temperature region.例文帳に追加

本発明による監視システムは、サーモグラフィカメラ４１と、サーモグラフィカメラ４１により生成される温度分布画像データから少なくとも所定温度領域の面積を求める処理部４２と、この所定温度領域の面積を基にサーモグラフィカメラ４１による監視対象領域内の被監視者の有無を判定する判定部４３とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A video processing apparatus includes an external light detection unit 1 which detects the ambient light, an illuminance calculation unit 2 which calculates the illuminance E from the output of the external light detection unit 1, an environmental color temperature calculation unit 3 which calculates the environmental color temperature, a video brightness detection unit 4 which detects the brightness information L of video, and a video color temperature correction unit 8.例文帳に追加

本発明に係る映像処理装置は、周囲光を検出する外光検出部１と、外光検出部１の出力から照度Ｅを算出する照度算出部２と、環境色温度を算出する環境色温度算出部３と、映像の明るさ情報Ｌを検出する映像明るさ検出部４と、映像色温度補正部８を有する。 - 特許庁

A CPU 301 obtains temperature information related to the desired cured state of an outer surface of ink in a step S320, and in the arithmetic processing of dose adjusting% in a step S700, dose of ultraviolet ray is determined for obtaining the desired cured state at the temperature corresponding to the acquired temperature information, based on the correlation.例文帳に追加

そして、ＣＰＵ３０１が、ステップＳ３２０において、インクの外表面の所望の硬化状態に関連した温度情報を取得し、ステップＳ７００の照射量調整％演算処理において、上記相関に基づき、当該取得した温度情報に対応した温度において上記所望の硬化状態を得るための、紫外線の照射量を決定する。 - 特許庁

A temperature sensitive ink layer 3 is formed on at least part of a design of a protrusion and recess processed part E executed by a stereoscopic expression by protrusion and recess processing tuned with the design, and the layer 3 is reversibly changed to have a density concealing a rough sketch at the ambient temperature or to be colorless and transparent at a body temperature or reversibly changed to different colors at the ambient and body temperatures.例文帳に追加

絵柄に同調した凹凸加工により立体的表現が施された凹凸加工部Ｅの前記絵柄の少なくとも一部に感温インキ層３を形成し、前記感温インキ層３を、常温では下絵を隠蔽する濃度を有するが、体温では、無色透明に可逆的に変化させるか、また常温と体温とでそれぞれ異なる色に可逆的に変化させる。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus that successively performs plasma processing on substrates while transporting many setters carrying the substrates by arranging the setters in a row, can relieve the effect of another gas flow exerted upon the blown-off flow of a process gas and, at the same time, can prevent the temperature drop of a substrate caused by intruded outside air.例文帳に追加

多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、処理ガスの吹出し流が、他のガス流の影響を受けるのを緩和するとともに外気進入により基材温度が低下するのを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a joint structure having no crack on the surface even if there is no variation in a joint width, a joint processing material used for executing work to the joint structure and a joint processing method capable of facilitating construction work, getting along with few construction manhour and allowing expansion and contraction of an exterior wall board by the difference of temperature.例文帳に追加

施工し易く、施工工数が少なくてすみ、しかも、寒暖の差によって外壁ボードが膨張収縮し、目地幅が変化しても、表面にクラックの入らない目地構造と、この目地構造に施工するために使用する目地処理材や目地処理方法を提供すること。 - 特許庁

In a high speed rotation chuck system of the present invention, a processing liquid supply passage 8 is formed by a through-hole 2 of a spindle 1, and a rotor 15 attached to the spindle 1 and a bearing 13 for rotating and supporting the spindle 1 are cooled by the processing liquid passing through the spindle 1, whereby a temperature increase of the motor and the bearing is prevented.例文帳に追加

この高速回転チャックシステムは，スピンドル１の貫通孔２で加工液供給通路８を形成し，スピンドル１に取り付けたロータ１５，スピンドル１を回転支持する軸受１３をスピンドル１を通る加工液で冷却し，モータや軸受の温度上昇を防止する。 - 特許庁

To obtain a spinning oil composition for a synthetic fiber, which has fiber and metal abrasion resistance and fiber and fiber abrasion resistance, a high yarn bundling property and proper heat resistance to deal with a rise in yarn processing temperature in a spinning and a drawing and processing processes and the prolonged cleaning period of a hot plate heater.例文帳に追加

耐糸−金属摩耗性、耐糸−糸摩耗性、高度の糸条集束性を有し、製糸および延伸加工工程における糸加工温度の上昇、熱板ヒーターの清掃周期の長期化に対応できる適度な耐熱性を有する合成繊維用紡糸油剤組成物提供する。 - 特許庁

A cup CP is revolved, and a resist application processing is carried out through a production line method, so that a resist nozzle 36, a pump used for feeding resist to the resist nozzle 36, a temperature controller, and piping are provided in singles to deal with processing substrates, the number of necessary parts can be diminished, and the substrate can be processed at a lower cost.例文帳に追加

カップＣＰを公転させ、流れ作業でレジスト塗布処理等を行っているので、レジストノズル３６及びこのノズル３６へレジストを供給するためのポンプや温調装置、配管等がそれぞれ１つだけで足り、必要なパーツを削減することができ、コストを削減できる。 - 特許庁

Accordingly, the preparation processing for temperature control in the auxiliary unit has been completed by the time when a phosphoric acid is used in the chemical processor 19b, and thus, schedule delay due to standby of preparation processing of the chemical processor 23b can be prevented as an auxiliary unit, and the operation rate of the apparatus can be improved.例文帳に追加

したがって、薬液処理部１９ｂにおいて燐酸を使用する際には、予備ユニットにおける温調の準備処理が終わっており、予備ユニットである薬液処理部２３ｂの準備処理待ちによるスケジュールの遅れを防止することができ、装置の稼働率を向上できる。 - 特許庁

To provide a single-part color developing concentrated composition improved in generation of a tarry deposition in a kit even when stored at high temperature and improved also in uneven development even when used in processing of a photosensitive material, and to provide a processing method using the same.例文帳に追加

高温で保存された場合でもキット内でのタール状析出の発生が改良され、かつ感光材料の処理に使用した場合にも現像ムラの発生が改良される、シングルパートの発色現像濃縮組成物及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.例文帳に追加

第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁

The manufacturing method and the manufacturing apparatus of a semiconductor device are provided, wherein for forming a silicon oxide film uniform and conformal at a low processing temperature of ≤500°C triethoxysilane and active oxygen such as ozone are alternately supplied into a processing chamber to form the silicon oxide film on the substrate.例文帳に追加

500℃以下の低温の処理温度で均質かつコンフォーマルなシリコン酸化膜を形成するために、トリエトキシシランと、オゾンなどの活性な酸素を交互に処理室に供給して、基板にシリコン酸化膜を成膜する半導体装置の製造方法と製造装置を提供する。 - 特許庁

In a vehicle stop condition immediately after the processing for stopping the electric pump 34, processing for operating the electric pump 34 is performed so that the cooling water in the intercooler 18 is replaced by low-temperature cooling water prepared in the LT radiator 32 during the stop period of the electric pump 34.例文帳に追加

そして、電動ポンプ３４を停止させる処理の直後の停車状態において、電動ポンプ３４が停止される期間にＬＴラジエータ３２内に準備された低温の冷却水によってインタークーラ１８内の冷却水を入れ替えるべく電動ポンプ３４を操作する処理を行う。 - 特許庁

When engine oil is in a high temperature state (T1 or higher) and a high gear is set (a shift position is the third gear or higher), the ignition delay processing and the decrease processing of a fuel injection quantity are performed to reduce engine speed to be lower than N1.例文帳に追加

エンジンオイルの油温が高い（Ｔ１以上）状態であり、かつ、高いギアがセットされている（シフトポジションが３速以上）状態であるときには、点火遅角処理及び燃料噴射量を減量する処理を行うことによりエンジンの回転数をＮ１未満に低減させる。 - 特許庁

To relieve incurring of an energy loss due to cooling by a refrigerating machine and heating by a heater by providing an individual chamber, where a precision measuring apparatus or a precision processing machine, etc., is installed, in a room air-conditioned in a specified temperature range when precise measurement or precision processing is carried out.例文帳に追加

精密測定あるいは精密加工などをおこなう際、一定の温度範囲内に空調された部屋の中に、精密測定器あるいは精密加工機などを設置する個別の部屋（チャンバ）を設け、冷凍機で冷却し、ヒータで加熱することで生ずるエネルギーロスを軽減する。 - 特許庁

Since processing temperature is relatively low (about 150°C or less), even if a substrate K composed of plastics is used, the substrate K is not deformed or broken during processing and the micromachine 100 can be easily formed on a surface of the substrate K.例文帳に追加

処理温度が比較的低くなるため（約１５０°Ｃ以下）、プラスチックにより構成された基板Ｋを用いた場合においても、処理時における基板Ｋの変形や破損等の不具合の発生を招くことなく、基板Ｋの表面にマイクロマシン１００を容易に形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a laminate type filter material capable of easily performing heat lamination processing of a fine porous membrane made of a fluororesin excellent in a fusion property and reducing processing cost in the filter material for filtering dust contained in an exhaust gas of high temperature at a high capturing efficiency, and a production method therefor.例文帳に追加

高温の排ガス中に含まれるダストを高い捕集効率にて濾過するためのフィルター材において、融着性に優れたフッ素樹脂製微多孔膜の熱ラミネート加工が容易で、その加工コストが低減できるラミネート型フィルター材およびその製造方法の提供。 - 特許庁