「磨希」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

容器１２に、希土類合金ワーク７０と、ボールメディア８０と、液状媒体と、液状媒体に対する体積分率で０．１％〜１０％のスペーサ粒子とを投入し、容器１２を振動させることによって、希土類合金ワーク７０を研磨する。例文帳に追加

The rare earth alloy work 70, a ball media 80, the liquid medium, and spacer particles of 0.1-10 vol.% to the liquid medium are charged into a vessel 12, and the vessel 12 is vibrated to polish the rare earth alloy work 70. - 特許庁

回転バレル容器１内に希土類合金ワークとメディアと液状媒体とを投入し、該バレル容器を回転させることにより希土類合金ワークを研磨する方法において、上記バレル容器の中心軸を回転軸に対して所定角度傾斜させ、この傾斜角度を維持した状態でバレル容器を回転させることを特徴とする希土類合金の面取り方法。例文帳に追加

This method is characterized by inclining a center shaft of a rotary barrel container 1 by a prescribed angle in relation to a rotary shaft and rotating the barrel container 1 in a state of maintaining the inclined angle, in a method for polishing the rare earth alloy workpiece by feeding the workpiece, media and a liquid medium into the rotary barrel container 1 and rotating the barrel container 1. - 特許庁

化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等から排出されるガリウム含有研磨屑懸濁水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウム含有研磨屑を、高濃度で効率的に回収することを可能にするガリウム含有研磨屑懸濁水の処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide treatment equipment of gallium-contained polishing chip suspension water wherein the gallium-contained polishing chip suspension water which is discharged from a manufacturing factory of wafers of compound semiconductor, a manufacturing factory of devices, etc. is treated and gallium-contained polishing chip which is especially rare and valuable metal can be collected effectively by high concentration. - 特許庁

化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等から排出されるガリウム研磨廃水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウム研磨屑を、数重量％ないし数１０重量％の高濃度で効率的に回収することを可能にするガリウム研磨廃水の処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for treating waste gallium-polishing water by which polished scraps of gallium being a particularly rare and valuable metal can be recovered efficiently as a high-concentration solution of several wt.% to several tens wt.% gallium by treating the waste gallium-polishing water discharged from a factory for manufacturing a wafer of a compound semiconductor, a device manufacturing factory or the like. - 特許庁

保護膜形成剤と、エステル、エーテル、多糖類、アミノ酸塩、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸塩、ビニルポリマ、スルホン酸、スルホン酸塩及びアミドから選択されるいずれか一つ以上と、を含有してなる金属用研磨液材料であり、該金属用研磨液材料は、少なくとも酸化剤及び水を含む構成要素と、希釈剤と混合されて使用される金属用研磨液材料。例文帳に追加

The material for a metal polishing liquid comprises: a protection film forming agent; and one ore more selected from an ester, an ether, a polysaccharide, amino acid salts, a polycarboxylic acid, polycarboxylic acid salts, vinyl polymers, sulfonic acid, sulfonic acid salts, and an amide, and the material for a metal polishing liquid is used as a mixture of constituents containing at least an oxidizer and water, with a diluent. - 特許庁

表面が研磨された高配向性ダイヤモンド膜に対して、負のバイアス電圧を印加しながら、水素ガスで希釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理する。例文帳に追加

This method comprises treating a surface-polished highly oriented diamond film with microwave plasma in a gas containing carbon atoms diluted by a hydrogen gas while applying a negative bias voltage. - 特許庁

クリエータ的なセンスを磨きたいと希望するユーザニーズを発掘し、新たなネットビジネスに結び付けることができる著作物利用システムを提供する。例文帳に追加

To provide a literary work utilization system for discovering needs of a user who desires to polish a sense like a creator and connecting the needs with a new net business. - 特許庁

第１の工程ではセリア系スラリーを、第２の工程では希釈したセリア系スラリーやシリカ系スラリーを用いることで、ウェハごとのばらつきを低減し、且つ研磨時間の短縮を図ることができる。例文帳に追加

As a ceria series slurry in the first step, the diluted ceria series slurry or a silica series slurry is used in the second step, so that variations in wafers are decreased, and a polishing time is reduced. - 特許庁

調節ブラシを用いて研磨パッドを処理するときに、イオンの取り除いた水がこれらの孔を介してダイヤモンド粒の周囲に流れてくることによって、酸性又は塩基性のスラリーは希釈され更には洗い流される。例文帳に追加

When processing a polishing pad by using the adjusting brush, ion removed water flows to the periphery of the diamond grains via these holes, and the acid or basic slurry is diluted and washed away. - 特許庁

高保磁力、優れたコンパウンド流動性を維持しながら、着磁特性、金型等磨耗性が改善された鉄基希土類系ナノコンポジット磁石を提供する。例文帳に追加

To provide an iron-based rare-earth nanocomposite magnet that has improved magnetization characteristics and improved wear resistance of a die, or the like, while maintaining high coercive force and superior compound flowability. - 特許庁

コア１１は、ＷＣ、ＴｉＣ、アルミ、チタンまたは希土類金属（イットリウムを含む）の少なくとも一種の材質からなり、研磨用メディア１０の比重は４以下とされている。例文帳に追加

The core 11 is composed of at least one kind of construction material of WC, TiC, aluminum, titanium or rare earth metal (including yttrium), and a specific gravity of the polishing media 10 is set to 4 or less. - 特許庁

この組成物を希釈剤で液状化し、噴射剤と共に定量バルブ２を備えた容器１に充填して定量噴射型のエアゾール研磨剤製品とする。例文帳に追加

The aerosol abrasive product is obtained by liquidizing the composition with a diluent and then charging the diluted liquid together with a propellant into a container 1 equipped with a constant rate valve 2. - 特許庁

半導体研磨工程で使用され、チタン成分を含む金属成分を含有し洗浄水で希釈された排スラリーから金属成分を除去する排スラリー中の有用固形成分を回収する。例文帳に追加

To provide a method for recovering a useful solid component in waste slurry that removes a metal component from waste slurry used in a semiconductor polishing process, containing a metal component including a titanium component, and diluted by washing water. - 特許庁

薄膜でも非常に優れた耐食性を発揮するとともに、摺動性や耐磨耗性などにも優れる被膜を磁石表面に有する耐食性希土類系永久磁石およびその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a corrosive resistant rare-earth group permanent magnet, where a thin film for exhibiting very excellent corrosive resistant and having excellent slidability and wearproof performance or the like is provided on the surface, and to provide a manufacturing method thereof. - 特許庁

プランジャがプランジャ規制部材に軸方向の移動を規制されている時、プランジャの回転を抑えることにより、耐環境性に影響されることなく、希望通りの磨耗軽減効果を得ることができるようにする。例文帳に追加

To obtain desired abrasion reducing effect without being affected by environment resistance, by restraining the rotation of a plunger when a movement in an axial direction of the plunger is restricted by a plunger restricting member. - 特許庁

ウエハのままでも、その任意の観察希望箇所を特定して、研磨し、開層することができる半導体素子の局所領域での開層方法及びその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a layer opening method/device in the local region of a semiconductor element, which specify an arbitrary observation desired part, polish it, and open a layer even if a wafer is as it is. - 特許庁

さらに、加工用工具として、タングステン等を含んだ超硬工具が使用され、希土類（レアアース）の一種であるセリウムが液晶用ガラスの研磨剤、ジルコニウム等が電子材料に使用されている。例文帳に追加

Carbide tools, which include tungsten and other minerals, are used in processing, cerium, a rare earth, is used as an LCD glass grinding material, and zirconium is used as in electronic materials. - 経済産業省

研磨粒子を含む研磨液を用いて化学エッチング処理１１を施したウェーハの表面を研磨する研磨工程１２と、ウェーハの表面を過酸化水素と水酸化アンモニウムを含む第１洗浄液により洗浄する第１洗浄工程１７と、ウェーハの表面を過酸化水素と希塩酸を含む第２洗浄液により洗浄する第２洗浄工程１８とを含むシリコンウェーハの処理方法である。例文帳に追加

This treatment method of silicon wafers includes a polishing process 12 for polishing the surface of a wafer where chemical etching treatment 11 is performed by polishing liquid containing a polishing particle, a first washing process 17 for washing the surface of the wafer by first washing liquid containing hydrogen peroxide and ammonium hydroxide, and a second washing process 18 for washing the surface of the wafer by second washing liquid containing the hydrogen peroxide and diluted hydrochloric water acid. - 特許庁

この鏡面欠陥は半導体結晶ウェハ表面の研磨液が純水に交換された後、貼付けプレートの中心部に残留した、十分に希釈されていない研磨液が遠心力によって半導体結晶ウェハ表面に載った後、外側に移動してライン状にエッチングされることにより発生する。例文帳に追加

The semiconductor crystal wafer has this mirror surface defect by moving outward and linearly etched, after polishing liquid which is left at the center part of a sticking plate and not sufficiently diluted is mounted on the semiconductor crystal wafer surface with a centrifugal force, after the polishing liquid on the semiconductor crystal wafer surface is exchanged with pure water. - 特許庁

本発明の研磨用スラリーは、クロム、ランタン及び元素番号５９〜７１の希土類金属、マンガン、モリブデン、ニオブ、オスミウム、レニウム、ルテニウム、チタン、タングステン、バナジウム、イットリウム並びにジルコニウムより成る群から選択される金属から形成された金属オキシ酸促進剤０．１〜５０重量％と、酸化セリウム研磨性粒子約０．５〜５０重量％と、残余量の水とを含む。例文帳に追加

The polishing slurry contains 0.1 to 50 wt.% of a metal oxyacid accelerator formed from a metal selected from a group comprising chromium, rare earth metals of lanthanum and element numbers 59 to 71, manganese, molybdenum, niobium, osmium, rhenium, ruthenium, titanium, tungsten, vanadium, yttrium and zirconium7 about 0.5 to 50 wt.% of cerium oxide abrasive grains, and the remaining percentage of water. - 特許庁

また、製造貯留槽１内における使用研磨スラリーの液面の上下変位を検出する液面変位検出手段３０を備え、液面変位検出手段３０の検出結果に基づいて、製造貯留槽１に対する高濃度研磨スラリーと使用済希釈スラリーとの供給状態を制御するように構成する。例文帳に追加

The equipment is provided with a liquid face displacement detection means 30 for detecting the vertical movement of the surface of the using abrasive slurry in the manufacturing storage tank 1, and the supply condition of the high-concentration abrasive slurry and the used diluted slurry to the manufacturing storage tank 1 is controlled in accordance with the detection results of the liquid surface displacement detection means 30. - 特許庁

化合物半導体のウエハー製造工場、デバイス製造工場等の研磨工程等から排出されるガリウム含有廃水、あるいは、研磨工程の廃水が貯槽で混合されるガリウム含有廃水を処理して、特に希少かつ有価金属であるガリウムを水酸化物として高濃縮された状態で余すことなく効率的に回収し得るガリウム含有廃水の処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide equipment for the treatment of waste water containing gallium which treats waste water containing gallium discharged from the polishing process or the like in manufacturing factories of compound semiconductor wafers, manufacturing factories of devices or the like or waste water containing gallium in which waste water from a polishing process is mixed in a reservoir and with which gallium being a rate and valuable metal can be completely and efficiently collected as hydroxides in a highly concentrated state. - 特許庁

金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、２５℃での水に対する溶解度が５重量％未満の保護膜形成剤、２５℃での水に対する溶解度が５重量％以上の保護膜形成剤及び水を含有する金属用研磨液を使用する際に水または水溶液を加え希釈して使用する金属用研磨液。例文帳に追加

A metal polishing liquid comprising a metal oxidant, metal oxide solubilizer, a protective film formation agent with a solubility to water at 25°C being less than 5 wt.%, a protective film formation agent with a solubility to water at 25°C and 5 wt.% or above, and water is diluted by adding water or water-solution when used. - 特許庁

本発明の塩素製造用触媒は、流動層反応器内で、塩化水素を酸素により酸化して塩素を製造するための触媒であって、 銅元素、アルカリ金属元素、および希土類金属元素を含む球状粒子からなり、 粒子磨耗速度が０．２０重量％／時間以下であることを特徴としている。例文帳に追加

The catalyst for production of chlorine is used to produce chlorine by oxidizing hydrogen chloride with oxygen in a fluidized-bed reactor, includes spherical particles containing copper, alkali metal and rare earth metal elements and has a particle abrasion rate of 0.20 wt.%/h or lower. - 特許庁

酸窒化珪素、または酸窒化珪素と二酸化珪素および窒化珪素のうちのいずれかとの混合相を主構成相とし、希土類元素酸化物を副構成相としてなり、鏡面研磨面における気孔数が１０個／mm^２以下の酸窒化珪素焼結体。例文帳に追加

The objective sintered silicon oxynitride comprises the main constitution phase selected from silicon oxynitride, a mixture of silicon oxynitride with silicon dioxide and silicon nitride and the subconstitution phase of a rare-earth metal oxide and has a pore number of ≤10/mm2 on the mirror- polished surface. - 特許庁

又は、表面が研磨された高配向性ダイヤモンド膜に対して、負のバイアス電圧を印加せずに、水素ガス中若しくは水素ガスで希釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理した後、負のバイアス電圧を印加しながら、水素ガスで希釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理し、更に、負のバイアス電圧を印加せずに、水素ガス中若しくは水素ガスで希釈された炭素原子を含むガス中でマイクロ波プラズマ処理する。例文帳に追加

Alternatively, the method comprises treating the above untreated diamond film with microwave plasma in a hydrogen gas or the gas containing carbon atoms diluted by hydrogen gas without applying the negative bias voltage, treating the resultant film with microwave plasma in the gas containing carbon atoms diluted by hydrogen gas while applying the negative bias voltage, and further treating with microwave plasma in the above hydrogen or carbon atoms-containing gas without applying the negative bias voltage. - 特許庁

この目的を達成するために、チタン酸バリウムに、副成分としてＭｇＯ、希土類酸化物を２ｍｏｌ％以下添加したセラミック誘電体と有機物とを混合する際に、焼結助剤となる媒体を用いた媒体撹拌ミルを使用し、焼結助剤成分を磨耗粉として０．１ｍｏｌ％以上０．３ｍｏｌ％以下添加する。例文帳に追加

When a ceramic dielectric to which 2 mol% or lower than of MgO and a rear earth oxide are added as subsidiary ingredients, and an organic matter are admixed to barium titanate, a medium stirrer employing a medium which is to become a sintering auxiliary agent is used and 0.1-0.3 mol% of sintering auxiliary agent component is added as abrasive powder. - 特許庁

自分の能力に見合わない一時的な職を転々とするのではなく、希望を持って、意欲的に自分の能力を磨きつつ、能力に見合った報酬が得られる職に就き、家庭を築き、次の世代をしっかり育てていけるようにする。このため、ハローワークの情報や業務を思い切って民間人材ビジネスに開放し、民間が有するノウハウを活用する形で、スキルアップ研修、ふさわしい職とのマッチングなどを支援する。例文帳に追加

Rather than having to move from one temporary job to another that does not match the skills of individuals, the new policy will give hope to people that they will be able to brush up their skills with enthusiasm, find jobs which offer incomes that are commensurate with their abilities, raise a family and nurture the next generation. To accomplish this, public employment security office “Hello Work” information and services will be boldly opened up to private employment and recruitment agencies. By making use of the private sector’s know-how, the Government will support for skills enhancement training and suitable job matching, among other services.  - 経済産業省