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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 粗さ測定法に関連した英語例文

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粗さ測定法の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 77



例文

路面さの測定例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD FOR ROAD SURFACE ROUGHNESS - 特許庁

表面さ/形状測定装置及び表面さ/形状測定例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND SHAPE - 特許庁

表面さの測定、表面測定装置及び加工装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND PROCESSING DEVICE - 特許庁

皮膚のキメさの測定およびキメさ評価用キット例文帳に追加

INSTRUMENT FOR MEASURING COARSENESS OF SKIN TEXTURE AND SKIN TEXTURE EVALUATION KIT - 特許庁

例文

測定およびその装置例文帳に追加

MEASUREMENT TECHNIQUE OF SURFACE ROUGHNESS AND DEVICE THEREOF - 特許庁


例文

超音波表面測定と装置例文帳に追加

ULTRASONIC APPARATUS FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS AND METHOD THEREFOR - 特許庁

磁気ディスク基板の表面測定および測定装置並びに磁気ディスクの製造方例文帳に追加

MEASURING METHOD AND MEASURING DEVICE FOR SURFACE ROUGHNESS OF MAGNETIC DISK SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK - 特許庁

水性分散体と水性分散体中の大粒子の測定例文帳に追加

WATER BASED DISPERSION AND MEASURING METHOD OF COARSE PARTICLE IN WATER BASED DISPERSION - 特許庁

レーザ反射光による表面測定及びその装置例文帳に追加

SURFACE ROUGHNESS MEASURING METHOD BY LASER REFLECTED LIGHT AND ITS DEVICE - 特許庁

例文

本発明は、カットオフ値が指示されていないワークの表面さを正確に測定することができる測定及び測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for measuring a roughness; whereby the surface roughness of a work without a cut-off value indicated can be correctly measured. - 特許庁

例文

測定物の表面さの程度によらず、その測定対象寸を正確に測定できる寸測定装置及び寸測定を提供する。例文帳に追加

To provide a dimension measuring device and dimension measuring method capable of accurately measuring the measuring object dimension of an object to be measured regardless of the surface roughness thereof. - 特許庁

本発明は、さの異なる加工面が形成されたワークにおいて、加工面のさを効率よく得ることができる測定及び測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a roughness-measuring method and a roughness-measuring device capable of efficiently obtaining the roughness of a machining surface, in a work for forming the machining surface different in roughness. - 特許庁

銅テープの表面さの測定及びその測定を用いた銅被覆アルミニウム線の製造方例文帳に追加

METHOD OF MEASURING SURFACE ROUGHNESS OF COPPER TAPE AND METHOD OF MANUFACTURING COPPER-CLAD ALUMINUM WIRE USING THE SAME METHOD OF MEASURING - 特許庁

回転体の表面さの測定、砥石における砥粒の突き出し量の測定、及び研削盤例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING SURFACE ROUGHNESS OF ROTOR, METHOD FOR MEASURING PROJECTION AMOUNT OF ABRASIVE GRAIN IN GRINDING WHEEL, AND GRINDING MACHINE - 特許庁

船舶プロペラの水中での測定を、小さな測定面及び曲面でも簡単に計測可能な方を提供する。例文帳に追加

To provide a method capable of facilitating measurement of the degree of roughness of an underwater ship propeller, even with a small measurement surface and a curved surface. - 特許庁

熱電対接触式の表面測定及びワークの表面状態検出装置例文帳に追加

THERMOCOUPLE CONTACT TYPE SURFACE ROUGHNESS MEASURING METHOD AND DETECTION DEVICE OF SURFACE STATE OF WORKPIECE - 特許庁

、形状、角度、表面さ等を測定する接触式測定用部品において、該測定用部品の少なくとも被測定物に接触する部分を硬脆材料分散超硬合金で形成する。例文帳に追加

In the part for contact type measurement for measuring a dimension, a shape, an angle or surface roughness, at least the portion coming into contact of an object to be measured of the part is formed of a hard fragile material dispersed carbide alloy. - 特許庁

平均さが1.5nm以下の磁気記録媒体に対して、精度が高く、簡便で、測定時間が短い表面さの検査方例文帳に追加

To provide a precise and simple method of inspecting a surface roughness reduced in a measuring time for a magnetic recording medium having 1.5 nm or less of average roughness. - 特許庁

簡単な構造で小型であり、可搬性に優れ、短時間で正確な表面さの測定が可能な超音波表面測定と装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ultrasonic apparatus for measuring a surface roughness, which includes a simple and compact structure, is excellent in portability and accurately measures the surface roughness for a short time, and to proved a method therefor. - 特許庁

電子写真感光体用基体等の画像形成装置用部品の表面さの測定において、測定対象面の局所的な変化や変異を感度良くかつ正確に把握可能にすること表面さ評価方を提供する。例文帳に追加

To provide a surface roughness evaluating method for sensitively and accurately comprehending a local change or variation of a surface to be measured, in surface roughness measurement of a component for an image forming device such as a base substance for an electrophotography photoreceptor. - 特許庁

測定対象物の表面で各地点の微細な高さ変化(段差)や突出、凹入、表面損傷、表面さなどの表面状態を正確に測定できる光学式表面測定装置及び方を提供する。例文帳に追加

To provide an optical surface measuring device and method for measuring surface conditions, such as detailed height variation (bump), concavity and convexity, surface damage, and surface roughness at each site on a surface of an object to be measured. - 特許庁

パターン付きウェハ上に存在する表面さを測定可能な領域を検索し、前記測定可能な領域を測定する方及び手段を有する装置である。例文帳に追加

The wafer surface inspection device has a method and a means for searching an area capable of measuring the surface roughness existing on the wafer with the pattern, and for measuring the measurable area. - 特許庁

健常者と被験者の骨髄内細胞におけるId4遺伝子の発現量を測定し、測定値に基づき骨鬆症、特に老人性骨鬆症を将来的に発症する可能性を判断する骨鬆症の予測分析方である。例文帳に追加

The method for prognosing and analyzing osteoporosis comprises measuring expression amounts of Id4 gene in cells in bone marrow of healthy person and examinee and deciding the possibility of future crisis of osteoporosis, especially senile osteoporosis, based on the measured values. - 特許庁

測定物を貫通していない極めて微小な止まり穴であっても、高精度にその微小穴の内側部分の直径、溝の幅、真円度や表面さ等を測定することが可能な測定装置およびこれを用いた測定を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring device and a measuring method using it which can accurately measure the diameter of the inside part of a small hole even with a very small blind hole not penetrating an object being measured, groove width, roundness, surface roughness, etc. - 特許庁

基板に形成されたパターンに関する設計情報を得る第1のステップと、前記設計情報を用いて、前記基板の表面さを得ることができる表面測定領域を得る第2のステップとを有する基板のさを得る方、及び基板のさを得るための装置である。例文帳に追加

The method for obtaining the roughness of the substrate and the device for obtaining the roughness of the substrate include: a first step of obtaining design information on the patterns formed on the substrate; and a second step of obtaining a surface roughness measurement region where the surface roughness of the substrate can be obtained by using the design information. - 特許庁

化合物半導体基板は、上記化合物半導体基板の検査方により測定される表面さRmsが0.2nm以下である。例文帳に追加

The compound semiconductor substrate has the surface roughness Rms of 0.2 nm or less measured by the method for inspecting the compound semiconductor substrate. - 特許庁

圧延機と仕上圧延機の間に配置された加熱装置により、圧延後の温度推定値または温度測定値に基づき、加熱装置の応答遅れおよび加熱装置内の圧延材の通過時間の少なくとも1つを用いて、圧延材を加熱制御する方例文帳に追加

There is provided the heat controlling process for the roughly rolled sheet using at least either a time lay of the response of the heating device or the passing time of the roughly rolled sheet in the heating device based on the estimated or measured temperature value after the rough rolling, by the heating device arranged between the rough rolling machine and the finish rolling machine. - 特許庁

コンクリートから骨材を分離して得たモルタルの流下時間を、特定寸の先細形状の筒からなる装置により測定する。例文帳に追加

The flow-down time of mortar obtained by separating coarse aggregate from concrete is measured by an apparatus comprising a tapered cylinder having a specific dimension. - 特許庁

この測定は、探針25で試料12を走査して試料表面に関する物理的量を測定する測定部を有し、かつ探針を微動させるXY微動機構24と試料を動させるXYステージ51を備えるように構成された走査型プローブ顕微鏡に適用される。例文帳に追加

This method is applied for a scanning type probe microscope having a measuring part for scanning a sample 12 by a probe 25 to measure a physical quantity about the sample surface, and constituted to be provided with an XY fine moving mechanism 24 for moving the probe finely, and an XY stage 51 for moving the sample roughly. - 特許庁

粘弾性特性を有する動Z軸ステージを備えた走査型プローブ顕微鏡による測定で、スループットを下げることなく、クリープに起因する計測誤差を低減できる走査型プローブ顕微鏡、その測定順序決定方、およびその測定を提供する。例文帳に追加

To provide a scanning probe microscope capable of reducing a measurement error caused by a creep without lowering a throughput in measurement by the scanning probe microscope equipped with a coarse movement Z-axis stage having a visco-elastic characteristic, its measuring order determination method, and its measuring method. - 特許庁

走査型プローブ顕微鏡での測定位置の探針位置決めで、Z動部の動動作に起因する位置ズレを解消し、高精度でかつ高速な位置決めを行うことができる走査型プローブ顕微鏡の測定位置の位置決め方を提供する。例文帳に追加

To provide a positioning method of the measuring position of a scanning probe microscope, capable of performing positioning at a high speed with high precision, by eliminating the positional shift caused by the coarse operation of a Z-coarse adjustment part, at positioning of the probe at the measuring position in the scanning probe microscope. - 特許庁

UVスペクトルの測定波長300〜330nmの領域での無水酢酸の吸光度を0.12以上とした後、該無水酢酸を蒸留して精製無水酢酸を分離回収することを特徴とする無水酢酸の精製方例文帳に追加

The method for purifying acetic anhydride includes adjusting absorbance of crude acetic anhydride to ≥0.12 by UV spectrum at a measurement wavelength in a region of 300-330 nm, distilling the crude acetic anhydride and separating and recovering purified acetic anhydride. - 特許庁

表面のさ曲面の算術平均面に対して、算術平均さ(Ra)の2倍以上の高さの凸部分の、ナノインデンテーション測定した硬さが2GPa以上であることを特徴とする錫めっき鋼板。例文帳に追加

In the tin-plated steel sheet, a projecting part having height ≥2 times of arithmetic average roughness (Ra) on the arithmetic average surface of the rough curved surface has ≥2 GPa hardness measured by a nanoindentation method. - 特許庁

界面においてクーロンの則が成り立たず、摩擦係数が理想面と面との相対速度に依存するような試料の真の摩擦係数を測定できる摩擦係数測定機を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a friction coefficient measuring instrument for measuring a true friction coefficient of a specimen wherein the Coulomb's law does not hold in an interface and a friction coefficient depends on a relative speed between an ideal surface and a rough surface. - 特許庁

ナイフエッジ形状の触針を使用した場合に、正確かつ精度よく円柱等の母線等の輪郭測定、多角形等の稜線上の真直度、測定または長さ測定のできる差動変圧型検出装置、検出方及び校正ゲージを提供する。例文帳に追加

To obtain differential variable pressure type detecting apparatus, detection method and a calibration gage whereby a profile such as a generator or the like of a column or the like can be correctly and accurately measured, and a straightness on a ridge of a polygon or the like, a roughness or a length can be measured when a knife edge-shaped probe is used. - 特許庁

水分量測定の誤差が小さく、かつコンクリートの密の変化による測定値のばらつきが小さく、かつコンクリート内部の水分量を簡易な構成で測定可能なコンクリート評価装置およびコンクリート評価方を提供する。例文帳に追加

To provide a concrete evaluation device which is reduced in measurement errors of the moisture content and the dispersion in the measured values, caused by a change in the density of concrete and capable of measuring the amount of moisture in concrete by a simple constitution, and to provide a concrete evaluation method. - 特許庁

また、前記測定可能な領域に、ウェハ上のスクライブ領域に存在するTEG(Test Element Group;テストエレメントグループ)を用いて、表面さを測定する方及び装置である。例文帳に追加

The wafer surface inspection method/device measures the surface roughness, using a TEG (Test Element Group) existing in a scribe area on the wafer, in the measurable area. - 特許庁

内周面の表面さが、JIS B0651に準ずる方測定される中心線平均さ(Ra)で0.1〜10μmであるガラス状炭素製のCVD装置用インナーチューブ。例文帳に追加

In the inner tube for the glassy carbon CVD device, the inner surface has a surface roughness of 0.1 to 10 μm relative to a center line average roughness (Ra) measured by a method conforming to JIS B0651. - 特許庁

本発明の方では、仕上圧延前の圧延材を加熱してその幅方向の輝度分布を連続的に測定し、この測定結果に基づいて欠陥検査を行う。例文帳に追加

By this method, the rough rolled stock before finish rolling is heated and brightness distribution in the width direction of a rough rolled stock is continuously measured and, based on this measured result, defect test is performed. - 特許庁

各配管(Pk)について、誤差を含む流量(Qk)を得、得られた流量(Qk)からデータリコンシリエーションによって各配管についての流量推算値(Q'k)を推算することで、各配管についての流量を精密に測定する。例文帳に追加

The flow rate in each pipe is accurately measured by obtaining a rough flow rate QK including an error of each pipe PK and by estimating a flow rate estimation value Q'K for each pipe from the obtained rough flow rate QK by a data conciliation method. - 特許庁

基板のさを得る方、及び基板のさを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。例文帳に追加

To improve an yield due to variations in film thicknesses and film qualities among wafers by enabling measurement of surface roughness of the wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, in a method for obtaining roughness of a substrate and a device for obtaining the roughness of the substrate. - 特許庁

ALCパネルは、そのパネルを製造する際のワイヤによる切断面であるパネル表面にワイヤ跡が無く、かつ上記パネル表面の任意の基準長さを前記切断に用いたワイヤと垂直方向に取り、十点平均さを用いた表面測定により測定した場合に、その測定値が0.4mm以下となるようにしたことを特徴とする。例文帳に追加

This ALC panel has no wire trace on a panel surface which is a cutting surface by a wire at the time of manufacturing the panel, takes optional standard length of the panel surface in a vertical direction of the wire used to cut the panel and makes its measuring value less than 0.4 mm in the case of measuring it under a surface roughness measuring method using 10 point average roughness. - 特許庁

仕上砥石車により工作物を所定寸に仕上研削し、工作物の外径を寸測定装置で測定しながら前記仕上研削された仕上面の表面さを示す断面曲線の底部が油溜りとして残る程度に該仕上面を超仕上砥石車により超仕上研削する。例文帳に追加

A workpiece is applied with finish grinding to a predetermined size by the finishing grinding wheel, and the finished face is applied with superfinish grinding by the superfinishing grinding wheel to the degree leaving the bottoms of the profile curve showing the surface roughness of the finished face applied with finish grinding as the oil retaining parts while measuring an outer diameter of the workpiece by a size measuring device. - 特許庁

上部円筒形下部円錐形の形状を有する充填ノズルを用いて粉体を容器に充填する方において、少なくとも前記充填ノズルの粉体と接触する部分の表面さが、JIS B0601−1994に基づく測定により下記測定結果を満たすものにする。例文帳に追加

There is provided a method in which powder is filled in a container under an application of a filling nozzle having a cylindrical upper segment and a conical lower segment, wherein a surface roughness of at least a portion of the filling nozzle satisfies an equation of Ra (arithmetic mean roughness)≤2.0μmRz(10-point mean roughness)≤10.0μmRy - 特許庁

少なくとも一方の面の表面さRzが5.0μm以下である紙基材の少なくとも前記表面さを有する面上に、熱可塑性樹脂からなる1以上の層が積層され、かつJIS K-7150に準じた測定による写像性が50%以上である積層シート。例文帳に追加

The laminated sheet is made by laminating one or more thermoplastic resin layers on at least one surface of a paper substrate having a surface roughness Rz of 5.0 μm or lower, and has image clarity of 50 % or higher measured according to JIS K-7150. - 特許庁

画像性能に関わる重要な特性である現像ローラの表面さや抵抗値について実際に測定することなく、製造条件等をコントロールするにより、表面さ、抵抗値について安定した現像ローラの製造方を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a development roller that realizes stable surface roughness and resistance values by controlling manufacturing conditions and the like without actually measuring the surface roughness and resistance values of the development roller which are important properties concerned with image performance. - 特許庁

請求項に係る発明のフィルムと引用文献に記載されたフィルムとでは測定された表面さの評価方が相違しているためこれを直接比較することができない。例文帳に追加

Since the claimed method for evaluation of measured surface roughness is different from the one described in the cited document, it is impossible to compare them directly.  - 特許庁

JIS A1125に規定された方により測定される表面水率が0.5〜5重量%である骨材に、セメント粉体を付着させたセメント系舗装材料。例文帳に追加

This cement-base pavement material is formed by adhering cement powder to the coarse aggregate of 0.5 to 5 wt.% in the surface moisture measured by a method stipulated in JIS A 1125. - 特許庁

皮膚のエストロゲン応答性を測定する方、及び、皮膚のシワ・タルミの形成、又はキメがくなるという皮膚老化の進行状態を予測する皮膚検査方を提供する。例文帳に追加

To provide a method for simply measuring the estrogen response which is caused after the estrogen is bonded with the receptor thereof from the skin, and a method for predicting the progress of skin aging by making a factor which can measure the estrogen response as an indicator. - 特許庁

例文

皮膚のエストロゲン応答性を測定する方、及び、シワ・タルミの形成、又はキメがくなるという皮膚老化の進行状態を予測する皮膚検査方例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING ESTROGEN RESPONSE OF SKIN, AND METHOD OF EXAMINING SKIN TO PREDICT PROGRESS OF SKIN AGING SUCH AS DEVELOPMENT OF WRINKLE AND SLACK, OR ROUGHENING OF TEXTURE - 特許庁

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