「Area Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for measuring defects in a polymer film which can correctly reflect the planarity required for the quality, if the polymer film is used as a product, can permanently and frequently maintain the accuracy, prevents the planarity from being altered, even if an area of a to-be-inspected surface is large, and conveniently and efficiently measures the defect.例文帳に追加

ポリマーフィルムを製品として使用する場合の品質として求められる平面性を正しく反映することができ、恒常的に高頻度で精度を保つことができ、大面積の検査面であっても、その平面性を変質させずに簡便に効率良く測定することができるポリマーフィルムの欠陥の測定方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device is characterized in that the contact hole is filled with a conductive material without causing a defect inside when the contact hole is filled with the conductive material in a succeeding stage by removing by anisotropic etching the barrier layer formed in the opening area of the contact hole filled with the conductive material forming the connection line.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、接続線を形成する導電材料を埋め込むコンタクトホールの開口領域に形成されたバリア層を異方性エッチングにより除去することにより、後の工程で導電材料を埋め込むに際して、欠陥を内在させることなくコンタクトホールに導電材料を充填することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single crystal, in which the single crystal having a desired defect area can be efficiently manufactured in a short time at a high yield by controlling the ratio V/G by controlling change of the crystal temperature gradient G during pulling the single crystal without reducing the pulling speed V when the single crystal is grown by a Czochralski (CZ) method.例文帳に追加

ＣＺ法により単結晶を育成する際に、引上げ速度Ｖを低速化させずに結晶引上げ中の結晶温度勾配Ｇの変化を制御することによりＶ／Ｇを制御して、所望の欠陥領域を有する単結晶を短時間で効率的に、かつ高い歩留まりで製造することのできる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

When radiating light onto a liquid crystal composition containing a photosensitive material, the alignment of liquid crystal molecules is adjusted by applying a voltage to the liquid crystal composition layer to achieve substantially orderly alignment of the liquid crystal molecules, or the alignment of the liquid crystal molecules is made uniform by adjusting the structure of the liquid crystal display device, or any display defect is driven out of the display area.例文帳に追加

感光性の材料を含む液晶組成物を感光させるに際して、液晶組成物層に電圧を印加して液晶分子の配向を調整し、液晶分子の配向をほぼ一定にし、あるいは液晶表示装置の構造を調整して液晶分子の配向を均一化し、または表示欠陥を表示領域外に規制する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single crystal, in which the single crystal having a desired defect area can be efficiently manufactured in a short period of time by controlling the ratio V/G by controlling a change in the crystal temperature gradient G during pulling the single crystal without reducing the pulling speed V when the single crystal is grown by a Czochralski (CZ) method.例文帳に追加

ＣＺ法により単結晶を育成する際に、引上げ速度Ｖを低速化させずに引上げ中の結晶温度勾配Ｇの変化を制御することによりＶ／Ｇを制御して、所望の欠陥領域を有する単結晶を短時間で効率的に製造することのできる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for evaluating the defect area of the silicon wafer, at least two oxygen deposit densities measured by some specific stages are compared.例文帳に追加

ＣＺ法により窒素をドープし或はドープなしで育成されたシリコン単結晶棒からスライスして得られたシリコンウエーハであって、該シリコンウエーハの全面が、ＮＶ領域、ＯＳＦリング領域を含むＮＶ領域、ＯＳＦリング領域のいずれかであり、かつ格子間酸素濃度が１４ｐｐｍａ以下であるシリコンウエーハおよびその製造方法並びにシリコンウエーハの欠陥領域を評価する方法。 - 特許庁

The method of producing such silicon wafer and the method of evaluating defect area of the silicon wafer are also provided.例文帳に追加

ＣＺ法により窒素をドープし或はドープなしで育成されたシリコン単結晶棒からスライスして得られたシリコンウエーハであって、該シリコンウエーハの全面が、ＮＶ領域、ＯＳＦリング領域を含むＮＶ領域、ＯＳＦリング領域のいずれかであり、かつ格子間酸素濃度が１４ｐｐｍａ以下であるシリコンウエーハおよびその製造方法並びにシリコンウエーハの欠陥領域を評価する方法。 - 特許庁

To provide an electrooptical device in which a printing area of product identification information can be sufficiently secured even when a panel is miniaturized, a connection defect between a flexible circuit board and an electronic component due to the printing of the product identification information is not easily generated and combination between ink to be used for printing and a flexible circuit board is not restricted.例文帳に追加

パネルを小型化した場合でも製品識別情報の印字領域を十分に確保でき、製品識別情報を印字することによるフレキシブル回路基板と電子部品との接続不良も生じ難く、さらに印字に用いるインクとフレキシブル回路基板との組み合わせの制限を受けない電気光学装置を提供する。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

To provide CMP pad design for combining a structure of high rigidity necessary for excellent planarization efficiency, in addition to achievement of larger actual contact area with a workpiece and reduction or elimination of necessity for re-forming the texture, with a shape adaptability structure of low rigidity necessary for low defect ratio.例文帳に追加

加工物とのより大きな実接触面積を達成するだけでなく、テキスチャ再形成の必要性を減らすか、又は解消する加えて、良好なプラナリゼーション効率のために必要な高剛性の構造を、低い欠陥率のために必要な低剛性の形状適合性構造と組み合わせるＣＭＰパッド設計が要望されている。 - 特許庁

To provide a shading correction method wherein, in detection of surface defects using an image, a part or all of a large-area defect flatly extending over a wide range on a surface to be inspected is not removed from an image by correction, and no rebounding phenomenon occurs in the corrected image in the vicinity of a boundary between the inside and outside of the target to be inspected.例文帳に追加

画像を用いた表面欠陥検出に際し、検査対象表面上の広い範囲に平坦に広がる大面積欠陥が補正によって画像からその一部または全体が除去されず、かつ検査対象内と外との境界部付近において補正された画像に跳ね返り現象が発生しないシェーディング補正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a piezoelectric substrate that can solve a defect caused by an inner wall of a border groove between piezoelectric vibrating elements formed by etching to be a slope not orthogonal to the substrate face in the case of manufacturing many piezoelectric vibrating elements from a piezoelectric substrate base material with a large area through etching process employing a mask and to provide the piezoelectric vibrating element, a piezoelectric device and the piezoelectric substrate base material.例文帳に追加

マスクを用いたエッチング加工によって大面積の圧電母材から多数の圧電振動素子を製造する際に、エッチングによって形成される圧電振動素子間の境界溝の内壁が基板面と直交しない傾斜面になることによって発生する不具合を解決できる圧電基板、圧電振動素子、圧電デバイス及び圧電基板母材を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a photomask determines a drawing position of a transfer pattern so that, in a drawing step, at least a part of the defects existing in a thin film of the photomask blank and/or a surface of a resist film is within an area of the transfer pattern and the defects of the part disappear after etching processing on the basis of defect information of the photomask blank grasped beforehand.例文帳に追加

描画工程において、予め把握したフォトマスクブランクの欠陥情報に基づき、フォトマスクブランクの薄膜及び／又はレジスト膜表面に存在する欠陥の少なくとも一部分が、転写パターンの領域内にあって、かつエッチング加工後には該一部分の欠陥が消滅するように、転写パターンの描画位置を決定するフォトマスクの製造方法である。 - 特許庁

In particular, data is managed using the information stored in a defect management area in order to maximally prevent occurrence of errors in reading or writing due to a change in a physical position of a real-recorded file which are caused by wrong calculation of the start logical sector numbers for each zone when other recording and/or reproducing apparatus is going to read or write data.例文帳に追加

特に、各ゾーンのための開始論理セクター番号が間違って計算された場合に実際記録されるファイルの物理的な位置が変わって、他の記録及び/または再生装置で読出しまたは書込みしようとする場合、ファイルの位置が間違って読出しエラーや書込みエラーが発生することを最大限防止するために欠陥管理エリアに貯蔵された情報を用いてデータを管理する。 - 特許庁

The semiconductor device designing/manufacturing system is provided with a functional block database 1, a functional block selecting part 2, a critical area database 3, a chip information calculating part 4, a defect occurrence rate information database 5, a non-detective chip number calculating part 6, a manufacture management information database 7, a cost payment deadline calculating part 8, a calculated result database 9, and optimal combination selecting part 10.例文帳に追加

本発明に係る半導体設計・製造システムは、機能ブロックデータベース１と、機能ブロック選択部２と、クリティカルエリア・データベース３と、チップ情報計算部４と、欠陥発生率情報データベース５と、良品チップ数計算部６と、製造管理情報データベース７と、コスト納期計算部８と、計算結果データベース９と、最適組合せ選択部１０とを備えている。 - 特許庁

Consequently, since oxidation film can be securely formed even in the part where surface area of the end parts of fins 122, 132 is very small if oxidation film is formed by the anode oxidation film treatment, it is possible to prevent the generation of hydrogen gas securely due to chemical reaction of aluminum and water, even if SiO_2 film cannot be formed and a crack defect occurs in the SiO_2 film.例文帳に追加

したがって、陽極酸化皮膜処理にて酸化皮膜を形成すれば、フィン１２２、１３２の端部等の表面積が非常に小さい部分にも確実に酸化皮膜を形成することができるので、仮に端部にＳｉＯ_２皮膜が形成できなかった場合やＳｉＯ_２皮膜にクラック欠陥が発生していたとしても、アルミニウムと水とが化学反応して水素ガスが発生することを確実に防止できる。 - 特許庁

To obtain an ink jet recorder for recording an image by operating a recording head capable of ejecting ink from a plurality of ejection openings a plurality of times in the same area on a recording medium and having a function for stopping recording operation temporarily in which image defect due to print interruption is suppressed and a high quality image can be printed while taking account of poor nozzle state.例文帳に追加

インクを複数の吐出口から吐出可能な記録ヘッドを用いて、記録媒体上の同じ記録領域に、上記記録ヘッドを複数回操作させることによって画像を記録し、かつ記録動作を一時停止する機能を持つインクジェット記録装置において、印字中断による画像欠陥を抑制し、かつ、ノズル状態の不良も考慮した、高品位な画像を印字できるインクジェット記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A method for fixing the prosthesis to the cartilage tissue comprises filling a defect or injured area of the cartilage tissue with the prosthesis, setting the material including a collagen membrane obtained from membranes selected from the amnion and the chorion of a mammal with an easy adhesive surface of the material facing the side of the prosthesis, and fixing the prosthesis by sewing the material to the cartilage tissue.例文帳に追加

本発明はまた、軟骨組織に補綴材を固定するための方法であって：軟骨組織の欠損または損傷部分に補綴材を充填すること；軟骨組織に補綴材を固定するための材料であって、該材料は、ほ乳動物の羊膜および絨毛膜から選ばれる膜から得られるコラーゲン膜を含む、材料を、該材料の易接着性面を該補綴材側へ向けて設置すること；および該材料を軟骨組織へ縫付けることにより補綴材を固定すること；を含む方法を提供する。 - 特許庁