「Area Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To find, at a chip level, a contact hole high-density portion on large area wiring where a wiring defect occurs.例文帳に追加

配線不良発生箇所である大面積配線上のコンタクトホール高密度部をチップレベルで発見することができる。 - 特許庁

To detect and separate a short-circuiting defect in an array without increasing an array area in a semiconductor memory device.例文帳に追加

半導体記憶装置においてアレイ面積を増大させることなくアレイ内の短絡不良を検出して分離する。 - 特許庁

In a process 14, the defect distribution (number of defects per unit area) of insulating films is found from data provided in the process 13.例文帳に追加

過程１４は、過程１３で得られたデータから絶縁膜の欠陥分布（単位面積当たりの欠陥）を求める。 - 特許庁

In the write-once type recording medium having a plurality of recording layers, a normal recording and reproducing area, an alternate area, a first alternate management information area and a second alternate management information area (TDMA) (Temporary Defect Management Area) are provided and writing existence presentation information (space bitmap) is recorded.例文帳に追加

複数の記録層を有するライトワンス型の記録媒体において、通常記録再生領域と、交替領域と、第１の交替管理情報領域と、第２の交替管理情報領域（ＴＤＭＡ）が設けられ、さらに書込有無提示情報（スペースビットマップ）が記録される。 - 特許庁

To prevent a wrong detection of an end part position in a display area even in a flat display panel on which a line defect is generated in the vicinity of the end part in the display area.例文帳に追加

表示領域の端部近傍に線欠陥が生じている平面表示パネルであっても、表示領域の端部の位置を誤って検出してしまうことを防止する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor integrated-circuit device in which the area of a semiconductor chip is reduced sharply and whose relief efficiency is enhanced, by a method wherein the layout area of a column-based defect relief circuit is reduced.例文帳に追加

カラム系欠陥救済回路のレイアウト面積を小さくすることにより、半導体チップ面積を大幅に低減し、かつ救済効率を向上する。 - 特許庁

Moreover, a crystal defect which generates a leak current is formed at the area near the junction area of the source/drain region of the transistor 17 connected to the gate of transfer transistor 13.例文帳に追加

さらに、転送用トランジスタ１３のゲートに接続されるトランジスタ１７のソース・ドレイン領域の接合近傍に、リーク電流が発生する結晶欠陥を形成する。 - 特許庁

The optical information recording/reproducing device reproduces information, by using the predetermined area in the second layer corresponding to the position of the first layer of which a defect is registered, as the defective area.例文帳に追加

光情報記録再生は、第１の層の欠陥が登録された位置と対応する第２の層における所定の領域を、欠陥領域として情報を再生する。 - 特許庁

The recording position of an STA area and the recording start position of a Lead-Out area are changed when there is a defect in an SIP recording position.例文帳に追加

ＳＩＰ記録位置に欠陥が存在する場合にＳＴＡ領域の記録位置を変更すると共にＬｅａｄ−Ｏｕｔ領域の記録開始位置を変更する。 - 特許庁

The arrangement of a formation area of the circuit pattern is determined avoiding a detected defect to remove a continuous pattern formed outside the formation area of the circuit pattern.例文帳に追加

検出された欠陥を避けるように回路パターンの形成領域の配置を決定し、回路パターンの形成領域外に形成された連続パターンを除去する。 - 特許庁

In this method, based on position coordinate of the defect detected by defect detecting means, marking through ion beam, etc. is provided around the position coordinate, sample is observed with a transmission electron microscope to identify the defective area from relative positional relationship between the marking and the defect, reliably preparing sample which contains the target defective area.例文帳に追加

欠陥検出手段で検出した欠陥の位置座標を基準にして、その近傍にイオンビームなどによってマーキングし、試料を透過型電子顕微鏡で観察して、マーキングと欠陥との相対位置関係から、欠陥部を特定し、目的とする欠陥部を含む試料を確実に作製する。 - 特許庁

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device.例文帳に追加

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。 - 特許庁

When a penetrated defect part 3 causing water leaks occurs in the surface 11 of the subject of inspection, a colored area 5 appears as the result of reaction of water conveyed by the penetrated defect part 3 with the leak inspection film 10, so that the defect can be readily detected through visual observation.例文帳に追加

検査物表面１１に水漏れを生じる貫通欠陥３が発生した場合、この貫通欠陥３より運ばれた水と水漏れ検査膜１０が反応すると発色領域５が生じるので目視で容易に検出できる。 - 特許庁

When a fracture surface of the composite ceramic body 1 subjected to a four-point bending test according to JIS R 1601 is observed and the square root of the projected area of an internal defect acting as the starting point of breakdown is regarded as a defect size, the defect size is ≤55 μm.例文帳に追加

ＪＩＳ Ｒ １６０１に基づく４点曲げ試験を行った複合セラミック体１の破面を観察し、破壊の起点となった内部欠陥の投影面積の平方根を欠陥サイズとした場合に、その欠陥サイズが５５μｍ以下である。 - 特許庁

A correction object selection function section 182 selects an image pickup element of a correction object with priority imparted to a defect in an area near the middle of an image while taking a correction number into account and stores defect information to a defect address memory 38b.例文帳に追加

補正対象選択機能部182 は、欠陥アドレスメモリ38a からの画像データ180cのうち、画面中央近傍領域の欠陥を優先させて、補正数を考慮して補正対象の撮像素子を選択して欠陥情報を欠陥アドレスメモリ38b に記憶させる。 - 特許庁

Thus, the defective portion exceeding the area ratio limitation on a layout design stage is detected, thereby avoiding the formation defect such as large area wiring disconnection, wiring destruction or surface peeling caused by hillock or a connection defect between wiring and the contact hole.例文帳に追加

このように、レイアウト設計段階で面積比制限を超える不良箇所を検出することにより、ヒロックや配線とコンタクトホールとの接続不良による大面積配線の断線、配線破壊、表面剥離などの形成不良を回避できる。 - 特許庁

A defect replacement area is disposed in the audio data recording area to improve the access of replacement processing, and the replacement area is shared by audio data and metadata to be efficiently used.例文帳に追加

また、オーディオデータ記録領域の内部に欠陥の交替領域を設けて交替処理のアクセスを改善し、交替領域をオーディオデータとメタデータで共用することで、交替領域を効率良く使えるようにした。 - 特許庁

A distinguishing size for distinguishing a defect caused by a process trouble from other pseudo defects is stored in a distinguishing size storage area (21).例文帳に追加

プロセスに起因する欠陥と、他の疑似欠陥とを切り分けるための切り分けサイズが、切り分けサイズ記憶部(21)に記憶される。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting a solar battery, which can discriminate an area free from defect in a solar battery cell.例文帳に追加

太陽電池セルの中で欠陥が存在しない領域を特定することが可能な太陽電池の検査装置を提供する。 - 特許庁

A multi-circuit board on which defect mark FM is posted in advance at a defective device area and a semiconductor chip 4 are prepared.例文帳に追加

不良のデバイス領域に不良マークＦＭが予め貼り付けられた多数個取り基板と半導体チップ４とを準備する。 - 特許庁

The measured value display section 5 displays the two-dimensional map image and displays a defect area of the panel on the two-dimensional map image.例文帳に追加

測定値表示部５は二次元マップ画像を表示すると共にその二次元マップ画像上にパネルの欠陥部位を表示する。 - 特許庁

Consequently, even when defect management is performed in block units, data can be replaced in an area smaller than a block.例文帳に追加

これにより、欠陥管理がブロック単位で行なわれる場合であっても、ブロックより小さい領域でのデータの交替が可能となる。 - 特許庁

A judgement area 32 consisting of a plurality of chip coordinates which are adjacent to the selected defect chip coordinates 31 is set up.例文帳に追加

選択した不良チップ座標３１に隣接するように複数のチップ座標からなる判定領域３２を設定する。 - 特許庁

To surely apply a liquid over the whole coating area with a normal nozzle group by applying the liquid at a high speed when a defect nozzle group does not exist and by degrading a coating speed only when the defect nozzle group occurs.例文帳に追加

不良ノズル群が無い場合は高速で液体を塗布し、不良ノズル群が発生したときのみ塗布速度を低下させて確実に全ての塗布領域にわたり正常ノズル群で液体を塗布する。 - 特許庁

The defect level is determined by dividing the picture elements included in the inspection area into N×N of segments (N is the number of picture elements), and by using an average concentration of picture element concentrations included in the each segment as the defect level of the segment.例文帳に追加

欠陥レベルは、検査領域に含まれる画素をＮ×Ｎ（Ｎは画素数）のセグメントで分割し、各セグメントに含まれる画素濃度の平均濃度を当該セグメントの欠陥レベルとして決定される。 - 特許庁

To realize an evaluation device for measuring the defective state of a defect of a semiconductor device identified based on optical beam induced current (OBIC) phenomenon or the like or the state of a minute area surface including the defect.例文帳に追加

ＯＢＩＣ現象等に基づいて同定した半導体デバイスの欠陥の欠損状態や、欠陥を含む微小領域表面の状態などを測定する評価装置を実現する。 - 特許庁

In a repair method for a half tone mask, a defect section in a semi-transparent area of the half tone mask is repaired by irradiating a source material with a laser to evaporate it onto the defect section of a semi-transparent layer.例文帳に追加

本発明のハーフトーンマスクリペア方法は、原料物質にレーザを照射して半透過層の欠陥部位に蒸着することにより、ハーフトーンマスクの半透過領域の欠陥部位をリペアする。 - 特許庁

Before access to a memory section 1 is started, defect specifying data for specifying a storage area having the defect in the memory section 1 are transferred to a scan flip-flop SFF 2 from a fuse circuit 10.例文帳に追加

メモリ部１へのアクセスを開始する前に、メモリ部１内の欠陥を持つ記憶領域を特定するための欠陥特定用データがヒューズ回路１０からスキャンフリップフロップＳＦＦ２に転送される。 - 特許庁

To provide a method for making a worker possible to recognize a place of defect part easily by marking automatically on the defect area of a continuously extruded article having a special shape.例文帳に追加

本発明は、連続押出しによる異形製品の検知された欠陥部分の領域に自動的に目印をつける事により、作業者をしてその該当欠陥部分の位置を容易に確認せしめる方法。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of suitably and rapidly detecting a defect even when the manufacturing process is varied or the periodicity of images of an area to be inspected on a sample is low.例文帳に追加

製造プロセスが変動しても、また、試料から検査対象領域を撮像した撮像画像に周期性が少なくても、良好かつ迅速に欠陥検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

On the basis of data on a sector read from the logic disk 12 by read access that matches a read request from the host 20, a data defect determining part 115a determines if the defect information indicating data defects is recorded in the defect information area of the sector.例文帳に追加

データ欠損判定部１１５ａは、ホスト２０からのリード要求に従うリードアクセスによって論理ディスク１２から読み出されるセクタのデータに基づき、当該セクタの欠損情報領域に“データ欠損あり”を示す欠損情報が記録されているかを判定する。 - 特許庁

Thus, even when an alignment defect is generated by these lock members 10 and 11, since most of alignment defects generate in the non-pixel area, the recognition as the image defect is reduced and as a result, the generation of the image defect can be suppressed.例文帳に追加

したがって、これらの係止部材１０，１１によって配向欠陥が発生したとしても、ほとんどの配向欠陥は非画素領域Ｃにて生じることから画像欠陥として認識されることは少なく、結果的に画像欠陥の発生を抑制できる。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus, a defect inspection method, a program, and a recording medium, in which an area having no artificial detect can be surely inspected and increase of loads and reduction of inspection accuracy caused by an artificial defect can be prevented by utilizing inspection results in automatic inspection.例文帳に追加

疑似欠陥が存在しない領域の検査を確実に行い、自動検査での検査結果を利用して、疑似欠陥による負荷の増大と検査精度低下を防ぐことができる欠陥検査装置、欠陥検査方法、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

The multi-layered information recording medium comprises a plurality of recording layers, a user data area for recording user data, provided in at least two of the plurality of recording layers, and a defect list storing area for storing a defect list used to manage the at least one defective area detected when at least one defective area is detected in the user data area.例文帳に追加

本発明の多層情報記録媒体は、複数の記録層と、ユーザデータを記録するためのユーザデータ領域であって、複数の記録層のうちの少なくとも２つに形成されているユーザデータ領域と、ユーザデータ領域において少なくとも１つの欠陥領域が検出された場合に検出された少なくとも１つの欠陥領域を管理する欠陥リストを格納するための欠陥リスト格納領域とを備える。 - 特許庁

The method also comprises a step for warning the gas leak by the breakage of the pipe when the hydrogen variation amount ΔQ is in the leak area (S140), and outputting the sensor defect for warning when the hydrogen variation amount ΔQ is in the defect area continuously for a prescribed time (S160).例文帳に追加

水素変動量ΔＱが漏れ領域にあるときには配管破断などによるガス漏れを警告出力し（Ｓ１４０）、水素変動量ΔＱが所定時間継続して不良領域にあるときにはセンサ異常を警告出力する（Ｓ１６０）。 - 特許庁

An encapsulation device for repair of articular cartilage defects includes a body 10 for disposition adjacent a bone in an area 55 of the cartilage defect, and elongated leg structure 25 extending from the body and for disposition in the bone in the area of the cartilage defect.例文帳に追加

関節軟骨欠陥を修復するためのカプセル形成装置は、軟骨欠陥の領域５５で骨に隣接して配置するためのボディ１０と、該ボディから延在し、且つ、軟骨欠陥の領域で、骨内に配置するための細長い脚構成部２５と、を備える。 - 特許庁

Consequently, even when, for example, replacement of batteries, etc., is performed when writing the defect data in the second storage area of the EEPROM 118, generation of an event that the initial defect data in the first storage area is destructed by the replacement of the batteries is prevented.例文帳に追加

よって、ＥＥＰＲＯＭ１１８の第２の記憶領域への欠陥データの書き込み中に例えば電池交換などが行われた場合であっても、それによって第１の記憶領域の初期欠陥データが破壊されるという事態の発生を防止することができる。 - 特許庁

An area having less crystal defect that is flat and superior in crystal quality and another area having concentrated crystal defect appear repeatedly at a nearly constant cycle Λ (≈400 μm) in an (a) axis direction on the crystal growth surface σ of a semiconductor substrate 1 made of GaN.例文帳に追加

ＧａＮから成る半導体基板１の結晶成長面σでは、結晶欠陥の少ない平坦で結晶品質の良好な領域と、結晶欠陥集中領域とがａ軸方向において、略一定の周期Λ（≒４００μｍ）で繰り返し現れる。 - 特許庁

The SiO2 film 17 is formed, resist 18 is applied and then the resist 18 and the SiO2 film 17 other than the area separated for about 2 μm from an end on one side of the area 16a of the low defect density of the groove part are removed.例文帳に追加

SiO_2膜17を形成し、レジスト18を塗布後、上記溝部の欠陥密度の低い領域16ａの片側に端から２μｍ程度離れた領域以外のレジスト18とSiO_2膜17を除去する。 - 特許庁

To provide a device and method for inspection of a hard disk surface for patterned media, wherein a servo area is set and a defect of at least a data area can be detected from among the servo and data areas.例文帳に追加

本発明はサーボエリアを設定し、サーボエリア、データエリアのうち少なくとデータエリアの欠陥を検出できるパターンドメディア用ハードディスク検査装置及び検査方法を提供することにある。 - 特許庁

The optical information recording/reproducing device records information, by using a predetermined area in a second layer corresponding to the position of a first layer of which a defect is detected, as a defective area.例文帳に追加

光情報記録再生装置は、第１の層の欠陥が検出された位置と対応する第２の層における所定の領域を、欠陥領域として情報を記録する。 - 特許庁

To prevent a continued substituting process sequence due to the defect of a substitute area by preliminarily grasping the quality of the substitute area before the data recording or reproducing operation is requested from the outside.例文帳に追加

外部からのデータ記録又は再生要求がある前に予め交替領域の品質を把握しておき、交替領域の欠陥による連続した交替処理シーケンスを防止する。 - 特許庁

A removing circuit pattern memory 105 stores an image Qc showing the circuit pattern of an object to be inspected as an area where a false defect is easy to be generated and the other area.例文帳に追加

除去回路パターン記憶部１０５には、検査対象物の回路パターンを、疑似欠陥が発生しやすい領域とそれ以外の領域とで示した画像Ｑｃが格納されている。 - 特許庁

To extract a boundary in a cut sheet film of an inspection object from an inspection area to be recognized automatically, and to inspect a dimension and a defect within an recognized area.例文帳に追加

検査領域から検査対象である断裁された枚葉フィルムの境界を抽出して自動的に認識し認識された領域内部に対して寸法検査、欠陥検査を実行する。 - 特許庁

To provide an equipment and a method for visual inspection in which an inspection area can be determined accurately and a defect in the inspection area can be detected with high accuracy.例文帳に追加

検査領域を正確に決定することができるとともに、検査領域内の欠陥を高精度で検出することができる外観検査装置および外観検査方法を提供する。 - 特許庁