「Area Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dynamic type semiconductor memory device which is small in layout area, high in redundancy relieving rate and can secure a redundancy relieving while devising measures for a standby current defect caused by a short circuit of a bit line and a word line.例文帳に追加

ビット線とワード線のショート欠陥によるスタンバイ電流不良を対策しながら、小さなレイアウト面積で、高い冗長救済率、かつ確実な冗長救済可能にするダイナミック型半導体記憶装置の提供。 - 特許庁

To provide a light emitting device wherein, even if any defect occurs in a plurality of light emitting areas, a drop of luminance in the other light emitting elements can be prevented, and a non-light emitting area can be made difficult to be recognized, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加

複数の発光領域中に欠陥が発生した場合であっても、他の発光素子の輝度低下等を防止できると共に、無発光領域を認識しづらくすることができる発光装置、電子機器を提案する。 - 特許庁

In some embodiments, the present invention provides the method of repairing a cartilage defect in a patient comprising the step of administering into the cartilage or into the area surrounding the cartilage the composition comprising a therapeutically effective amount of the morphogenic protein.例文帳に追加

いくつかの実施形態では、本発明は、軟骨または軟骨周囲領域に治療有効量の形態形成タンパク質を含む組成物を投与する工程を含む、患者の軟骨欠損の修復方法を提供する。 - 特許庁

The silicon single crystal having the defect-free area is manufactured by flowing electric currents through an upper coil 13a and a lower coil 13b in directions opposite to each other to apply a cusp magnetic field to silicon melt M contained in a crucible 11.例文帳に追加

上コイル１３ａ及び下コイル１３ｂは、無欠陥領域を有するシリコン単結晶を製造するために、互いに逆向きの電流が流されて坩堝１１に収容されたシリコン融液Ｍにカスプ磁場を印加する。 - 特許庁

To provide a collision prevention control system capable of avoiding a collision of carrier trucks when a communication line built in a junction area is single and also when defect occurs in the communication line.例文帳に追加

合流領域に敷設された通信線が単線の場合においても、更にその通信線に不具合が生じた場合においても、搬送台車同士の衝突を回避することができる衝突防止制御システムを提供する。 - 特許庁

When the pixel electrode is formed, the organic film blocking member made of ITO is formed in an organic film exposure area to remove an organic film defect which is easily caused in a finishing sealing material stage using UV.例文帳に追加

画素電極形成時に有機膜露出領域にＩＴＯからなる有機膜遮断部材を形成することによって、UVを利用した仕上げ封止材工程において生じやすい有機膜不良を除去することができる。 - 特許庁

To eliminate the defect of eligibility of the nom of a target caused by the overlapped display of the names of targets in an area with concentrated targets in a conventional display method for a digital map, without decreasing the quantity of information.例文帳に追加

従来のディジタル地図の表示方法では、目標物が密集したエリアにおいて目標物の名称が重なって表示され判読できないという課題があり、情報量の減少無しにこの欠点の解消を図る。 - 特許庁

To provide a plate making method for a positive type planographic printing plate for an IR laser for direct plate making excellent in development latitude in image formation, suppressing the occurrence of a defect due to a flaw in an image area and capable of forming a good image.例文帳に追加

画像形成時の現像ラチチュードに優れ、画像部の傷に起因す欠陥の発生が抑制され、良好な画像を形成し得るダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

In a process 16, while using the defect distribution which is determined as a function of film thinning quantities in the process 15, TDDB at an arbitrary voltage and an arbitrary temperature are predicted concerning the insulating film of an arbitrary area.例文帳に追加

過程１６は、過程１５で薄膜化量の関数として確定された欠陥分布を用いて、任意の面積の絶縁膜について任意の印加電圧及び任意の温度における経時絶縁破壊特性を予測する。 - 特許庁

To suppress extreme speed reduction of recording and reproducing for continuous defect caused many times in the time of large capacity, while enabling conventionally to perform size change of a spare area used for exchange processing of a recording type optical disk.例文帳に追加

記録型光ディスクの交替処理で用いられるスペアエリアのサイズ変更を従来通り変更可能としつつ、大容量化時に多く発生する連続欠陥に対しての極端な記録・再生の速度低下を抑えることである。 - 特許庁

To provide an organic electric field light emitting element which has high brightness, is excellent in stability and durability, capable of enlarging an area and easy to manufacture, and has little defect in manufacture and little degradation with time in element performance.例文帳に追加

高い輝度を有し、安定性及び耐久性に優れ、大面積化が可能で製造容易な上に、更に製造上の欠陥の発生が少なく且つ素子性能の経時的劣化が小さい有機電界発光素子を提供。 - 特許庁

To provide the structure of an element end where there is no defect in the cutting plane after dicing, and missing does not occur in the pixel array in a large area imaging device where multiple image sensors are joined in the shape of tiles, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

複数の撮像素子をタイル状につなぎ合わせた大面積撮像装置において、ダイシング後の切断面に欠損が無く、画素配列に欠落を生じない素子端部の構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electric field light-emitting element which is highly bright, excellent in stability and durability, capable of enlarging an area and easy to manufacture, and has little defect in manufacture and little degradation with time in element performance.例文帳に追加

高い輝度を有し、安定性及び耐久性に優れ、大面積化が可能で製造容易な上に、更に製造上の欠陥の発生が少なく且つ素子性能の経時的劣化が小さい有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

This contiguous data area performs setting across either a different file recording region that is already recorded on the information storage medium or the defect region on the information storage medium, and sets an extent, as an information recording place, for a region which is divided by the different file recording region or the defect region on the information storage medium.例文帳に追加

このコンティギュアスデータエリアは、情報記憶媒体上に既に記録されている別のファイル記録領域または情報記憶媒体上の欠陥領域のいずれか一方をまたがって設定し、別のファイル記録領域または情報記憶媒体上の欠陥領域により分割される領域に対して情報記録場所としてのエクステント（ｅｘｔｅｎｔ）を設定している。 - 特許庁

The inspection method of the cause of a case that the IC chip 11 produces some defect is a method for inspecting and analyzing the cause of the defect by a photo-emission analyzing method by mounting the IC chip 11 on a test board to be energized and actuated after the package board 12 of an area surrounded by the display 16 is removed from the rear face to open an opening.例文帳に追加

このようなＩＣチップ１１が何らかの不良が生じた場合のその原因の検査方法は、表示１６で囲われた領域のパッケージ基板１２を裏面から除去して開口を開けた後、そのＩＣチップ１１をテスト基板に装着し、通電して作動させ、フォトエミッション解析方法により不良の原因を検査ｍ解析する方法を採っている。 - 特許庁

When fine substances 8, 10 consisting of a material having refractive index contrast against a material constituting the slab type photonic crystal are arranged on positions other than a slab layer in a defect (3) area, a light confinement effect to the defective waveguide is increased by controlling the the refractive index of the defect (3) part, so that the propagation loss of the defective waveguide can be reduced.例文帳に追加

欠陥３領域内でスラブ層以外の位置にスラブ型フォトニック結晶を構成する材料に対して屈折率コントラストを有する材料からなる微小物体８，１０を設けることにより、欠陥３部分の屈折率を制御して欠陥導波路への光閉じ込め効果を増加させることで欠陥導波路の伝播損失を低減させることができるようにした。 - 特許庁

To provide an easy-to-fabricate organic electric field light emitting element having a sufficient luminance and exhibiting excellent stability and durability, in which the area is increased while suppressing occurrence of defect during fabrication and reducing degradation in element performance with time.例文帳に追加

十分な輝度を有し、安定性及び耐久性に優れ、大面積化が可能で製造容易な上に、更に製造上の欠陥の発生が少なく且つ素子性能の経時的劣化が小さい有機電界発光素子を提供すること。 - 特許庁

To dispense with a large capacity of memory for recording reference data, and to enable a defect part detection over the whole area of a disk including an ID part.例文帳に追加

リファレンスデータの記録に大容量のメモリを必要としない、欠陥検査方法及びその欠陥検査装置、並びに、ＩＤ部を含むディスクの全域にわたって欠陥部を発見することができる欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device with an interface between lattice mismatching crystals is manufactured in an edge grown heteroepitaxy from a crystal having a small area to reduce distortion of the crystal due to a mismatching of the crystal, and a crystal reduced in defect of the dislocation in the crystal is realized.例文帳に追加

格子不整合結晶の界面を含む半導体デバイスが、小さな表面積を有する結晶からのエッジ成長ヘテロエピタキシによって製造されて、結晶不整合によるひずみを低減し、転位欠陥が低減された結晶を実現する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which the probability of correction of a defect in a display area is improved by lowering the probability of occurrence of a short circuit at crossing parts of rescue wiring and signal lines of the liquid crystal display device provided with thin film transistors.例文帳に追加

薄膜トランジスタを備えた液晶表示装置のレスキュー配線と信号線の交差部での短絡の発生確率を低下させ、表示領域の欠陥の修正が可能となる確率を向上させた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board free of lamination defect (resin-unfilled part), and having a fewer variations in the sectional area of an electrical circuit, less influence on the resistance, and a fewer variations in impedance between a low density portion and a high density portion of the electrical circuit, thereby having a leeway for circuit design.例文帳に追加

積層カスレの発生がなく、電気回路の断面積のバラツキや抵抗値への影響が少なく、電気回路の低密度部分と高密度部分とでインピーダンスのばらつきが小さくて回路設計に余裕がある回路基板を提供する。 - 特許庁

To prevent the cutting waste of a metal material constituting an electrode pad resulting from dicing, thereby inhibiting the occurrence of a defect caused by the scatter of the cutting waste in a semiconductor chip where the electrode pad for monitoring is located in a scribe area.例文帳に追加

スクライブ領域にモニタリング用の電極パッドを設けた半導体チップにおいて、ダイシングにともなって電極パッドを構成している金属材料からなる切削屑の発生を防止して、切削屑の飛散による不良の生起を抑止可能とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display of high definition and high manufacturing throughput to form a color conversion layer with a high yield which does not become a supply source of moisture to cause the generation of a dark area and a dark spot being a pixel defect.例文帳に追加

画素欠陥となるダークエリアやダークスポット発生の原因となる水分の供給源とならない色変換層を高い歩留まりで形成する、高精細で製造スループットの高い有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a support for guided bone regeneration, which has such rigidity that a desired shape can be retained in a bone defect area and is provided with openings through which an extracellular liquid can penetrate but a cell constituting a soft tissue cannot penetrate.例文帳に追加

骨欠損領域において所望の形状を保持できるような剛性を有するとともに、細胞外液は透過できるものの、軟組織を構成する細胞は透過できないような開口穴を有する骨誘導再生用支持体を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device for a photomask capable of carrying out preferable performance evaluation and defect inspection of a large photomask while suppressing the increase in an installing area of the device, and capable of ensuring safeness and handling property for a large photomask.例文帳に追加

装置の設置面積の増大を抑えつつ、大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができ、また、大型のフォトマスクに対する安全性やハンドリング性が確保されたフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁

According to the influence of the defect on a photomask 10 on the operation of the device, inspection areas (e.g. areas A and B) on the photomask are divided into two or more areas and inspection sensitivity is set for each divided inspection area.例文帳に追加

フォトマスク１０上の欠陥がデバイスの動作に与える影響に応じて、フォトマスク上の検査領域（例えば、領域Ａ及び領域Ｂ）を２つ以上の領域に分割し、この分割した各々の検査領域に対して検査感度設定を行う。 - 特許庁

To provide a back filling, back filling material for underwater work which is capable of preventing the occurrence of turbidity in an ambient water area and hardening defect even in the underwater work, is capable of being solidified for a short period and uses the granulated blast furnace slag and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

水中施工においても、周辺水域の濁り及び硬化不良の発生を防止できると共に、短期間で固結可能な高炉水砕スラグを使用した水中施工用裏込め・裏埋め材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, the kind of a defect is discriminated within the image photographed by the imaging device 1, under the condition where the inspected object is lighted by the oblique light source 4, based on a form of density change in the area of the defective portion, in the image processing part 7.例文帳に追加

その後、画像処理部７は、斜方光源４により検査対象を照明した状態で撮像装置１に撮像された画像内において不良部分を含む領域の濃度変化の形により不良の種類を識別する。 - 特許庁

To obtain large relieving efficiency with small area by using a common fuse set for row/column common relieving for arbitrary one side of row relieving or column relieving, according to that the defect of row being more or the defects of column being more in a memory chip and to enhance relieving efficiency.例文帳に追加

メモリチップにロウ不良が多いかカラム救済が多いかに応じてロウ／カラム共通救済用フューズセットをロウ救済あるいはカラム救済の任意の一方に使用し、救済の効率を高め、少ない面積で大きな救済効率を得る。 - 特許庁

After adjusting the quantities of the illumination light, an image of the area including the front surface portion of the plate W and the portions outside the side ends Wb of the plate W is captured, and the plate W is inspected for a defect on the basis of the thus captured image.例文帳に追加

そして、光量の調節がなされた状態で、板材Ｗの表面と板材Ｗの側端部Ｗｂよりも外側の部分とを含む範囲を撮像して、その撮像した画像に基づいて板材Ｗの欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an optical film (an optical compensation sheet) which can be easily manufactured, has no display defect and has large area and especially to provide an optical film equipped with an alignment film which can prevent dot-shaped light missing caused by birefringence unevenness.例文帳に追加

製造が容易であり、表示欠陥のない大きい面積の光学フィルム（光学補償シート）を提供すること、特に複屈折ムラに起因する点状光抜けを防止することができる配向膜を備えた光学フィルムを提供することである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device which can be prevented from having a defect in the alignment of liquid crystal due to abnormality of alignment film caused by a defective vapor-deposition area of an inorganic material occurred at a slope and its vicinity of a projection or recessed part of a base layer of an alignment film.例文帳に追加

配向膜の下地層の凸部又は凹部の斜面及びその近傍に生じた無機材料の蒸着不良領域による配向膜異常に起因して液晶の配向不良が起こることを防止できる液晶装置の提供。 - 特許庁

The defect correction method of the color filters comprises a pattern transfer step of transferring at least a portion of two or more colors of color patterns on a colored image missing area on a substrate by using a transfer film having the color patterns.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。 - 特許庁

The processing device 3 provides a first inspection domain in the direct irradiation area on the picked-up image picked up by the imaging device 2, and sets a second inspection domain in the diffused light irradiation area, and detects a defect related to irregularities on the inspection surface B by using brightness information of at least either of the first inspection domain and the second inspection domain.例文帳に追加

処理装置３は、撮像装置２で撮像された撮像画像において直接照射エリアに第１の検査領域を設けるとともに拡散光照射エリアに第２の検査領域を設定し、第１の検査領域および第２の検査領域の少なくとも一方の輝度情報を用いて、被検査面Ｂの凹凸に関する欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a developing method by which an image of high quality having high image density at a solid part, no image damage (transfer omission, a fixation defect, etc.) due to carrier sticking, and good solid filling can be obtained by making large an area where a latent image is developed with toner by making the whole developer carrier contribute to development as a development area.例文帳に追加

現像剤担持体全体を現像領域として現像に寄与させることでトナーにより潜像が現像される領域を多くし、ソリッド部における画像濃度が高く、キャリア付着による画像ダメージ（転写抜けや定着不良等）がなく、且つベタ埋まりの良い高品位の画像を得ることができる現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sample which can form at once a large quantity of thin piece samples for a crystal defect observing transmission electron microscope in the silicon crystal and which can be simply manufactured in a wide area and to provide the thin piece sample.例文帳に追加

シリコン結晶中の結晶欠陥観察用透過型電子顕微鏡用の薄片試料を、一度に大量に作成することができるとともに簡便に広い面積で作製することを可能とした試料作製方法及び薄片試料を提供する。 - 特許庁

Light is emitted toward the steel pipe of an inspection object, reflected light from the first area of the steel pipe surface is received by a two-dimensional camera to measure luminous energy thereof, and a reference level used in defect detection is set based on the measured luminous energy (S3).例文帳に追加

検査対象物である鋼管に光を照射し、鋼管表面の第１領域から反射光を２次元カメラにより受光してその光量を計測し、計測した光量に基づき、欠陥検出の際に用いる基準レベルを設定する（Ｓ３）。 - 特許庁

The hollow part 12 is set to have a plurality of kinds of widths, so that sectional areas can be made different from one another; and the mass per unit area or rigidity is made nonuniform, for example, by a difference in mutual separation distance between bulkhead parts 13 or the thicknesses of the bulkheads 13, so that the sound insulation defect can be suppressed.例文帳に追加

中空部１２の幅が複数種となるようにして断面積を異ならせる他、隔壁部１３の相互離間距離若しくは厚みを異ならせること等によって面密度若しくは剛性を不均一として遮音欠損を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a seat pad which can firmly bond a cover material and prevents the product defect by oozing out of an adhesive even when the water- base adhesive is used over the entire area of the groove base surfaces of the seat pad and a method for manufacturing a cushion material.例文帳に追加

シートパッドの溝底面の全域に対して、水性接着剤を用いた場合でも、表皮材をしっかりと接着させることができ、また接着剤の染み出しによる製品不良も防止されるシートパッドと、クッション材の製造方法を提供する。 - 特許庁

This wrinkle-like defect preventive device 10 including an air pipe 11 (as shown in Figs.2-5) arranged with an air injection nozzle 12 for blowing pressure air upon a surface of paper P, is arranged so as to face a travel area where the paper P unrolled from the roll R reaches an inlet guide roll 3.例文帳に追加

巻取Ｒから巻解かれた紙Ｐが入口ガイドロール３に至る走行域に臨んで、紙Ｐの面に圧力空気を吹き付ける空気噴射ノズル12が配列しているエアパイプ11（図２〜図５参照）とを備えているシワ状欠陥防止装置10を配する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device, a system of manufacturing the liquid crystal display device, and the liquid crystal display device, preventing the enlargement of an area where the controllability of a liquid crystal is lost by the presence of the film thickness defect part of an alignment layer.例文帳に追加

配向膜の膜厚不良部の存在によって液晶の制御性が失われる領域が拡大するのを防止した液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置の製造システム、および、液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank, to which a high-level quality about defects is required, by reducing the number of high oxide defects in a size of 60 nm or more and less than 150 nm, the defect containing more oxygen than in the surrounding area in a thin film for patterning.例文帳に追加

パターン形成用薄膜中のその周囲よりも多く酸素を含有する６０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満の大きさの高酸化物欠陥数を低減させ、高いレベルの欠陥品質を要求されるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a deposited film with uniform thickness and quality and few defect on a substrate with a large area at a high processing speed in a process for fabricating a semiconductor device wherein the deposited film is formed on the substrate by plasmanizing a raw material gas by high-frequency power.例文帳に追加

高周波電力によって原料ガスをプラズマ化し、基体上に堆積膜を形成する、半導体装置の製造方法において、高速な処理速度で大面積の基体上に、膜厚、膜質共に均一で欠陥の少ない堆積膜を形成する。 - 特許庁

When a semiconductor is divided into a main circuit part (N: the number of elements having possibility in which defect is caused) and a redundant relieving circuit section (N: same as the above) and circuit ratio is assumed to be N/N=α, and main circuit area is assumed to be A, the redundant relieving circuit is expressed as αA.例文帳に追加

半導体装置を主要回路部（Ｎ：欠陥が起こる可能性のある個数、素子数）と冗長救済回路部（Ｎ：同上）と分けた場合、回路比Ｎ／Ｎ＝αとし、主要回路面積をＡとした場合、冗長救済回路はαＡで表される。 - 特許庁

To provide an apparatus for supporting a cutter wheel in which cutting life is improved by reducing the contact area of the cutter wheel with a supporting shaft as little as possible, decreasing the friction resistance and the occurrence of the friction and improving the heat releasing property to prevent the occurrence of rotation defect.例文帳に追加

カッターホイルと支持軸の接触面積を極力少なくし、摩擦抵抗と摩耗発生の低減と放熱性の向上により、回転不良の発生を防止して切断寿命を向上させることができるカッターホイルの支持装置を提供する。 - 特許庁