「Area Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lithium-excess Ni-doped spinel manganese oxide having no oxygen defect, excellent in high temperature cycle properties, and having a low surface area that is used as a positive electrode material for a high energy density lithium secondary battery.例文帳に追加

高エネルギー密度型のリチウム二次電池用正極物質として使用する酸素欠損のない高温サイクル特性の優れた低比表面積のリチウム過剰Niドープスピネルマンガン酸化物を提供する。 - 特許庁

The yttria ceramic substrate is obtained by irradiating a yttria ceramic substrate, obtained by firing yttria having a purity of ≥99.9 wt.%, with Nd:YAG laser light to form an oxygen defect area in the surface.例文帳に追加

本イットリアセラミックス基材は、純度９９．９重量％以上のイットリアを焼成して得られるイットリアセラミックス基材に、Ｎｄ：ＹＡＧレーザ光を照射し、表面に酸素欠陥領域が形成される。 - 特許庁

The partial cartilage defect treated with the cell-mediated gene therapy procedure was covered by newly formed hyaline cartilage which indicates that the cells survived and stimulated matrix formation in this area.例文帳に追加

細胞−媒介遺伝子治療法を処置した一部軟骨欠損は、新たに形成されたガラス軟骨で覆われ、これは、細胞がこの部位で生存して基質の形成を刺激するということを示す。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing an electrophotographic photoreceptor capable of forming a defect-free deposited film uniform in film thickness, film quality and surface properties by high-speed uniform plasma treatment of a substrate having a large area.例文帳に追加

高速で大面積の基体を均一にプラズマ処理して、膜厚、膜質、表面性が均一で欠陥のない堆積膜を形成し得る電子写真感光体の製造装置を提供する。 - 特許庁

Since a larger junction area compared to conventional junction can be taken, measures against the contact defect is realized and the BOF package having more sufficient electric junction can be supplied.例文帳に追加

このため、従来の接合より多くの接合面積をとることが可能となるため、接触不良に対する対策が可能となり、より良好な電気的接合を持つＢＯＦパッケージの提供が可能となる。 - 特許庁

To surely avoid the degradation of image quality due to a defect of running of a recording material by surely eliminating trouble caused by the variation in action of the recording material which rushes to a fixing nip area between fixing members.例文帳に追加

定着部材間の定着ニップ域に突入する記録材の挙動変動による不具合を確実に解消し、もって、記録材の走行不良に伴う画質劣化を確実に回避する。 - 特許庁

To provide a repair method and system that removes a defect of a half tone mask by using a laser, can efficiently form a block film in a defect area, adjusts a film thickness of the block film, enables the defect to be removed even after a pellicle film is formed, adjusts permeability in real time so as to carry out a repair process, and guarantees the uniformity of the permeability of a repaired section.例文帳に追加

本発明は、レーザを用いてハーフトーンマスクの欠陥を除去し、欠陥部領域に遮断膜を効率良く形成でき、遮断膜の膜厚を調節し、ペリクル膜が形成された後も欠陥の除去が可能な機能とともに、リアルタイムで透過率を調節してリペア工程を行うことができるようにし、リペア部位の透過率の均一性を保障できるリペア方法及びそのシステムに関する。 - 特許庁

The setting of the full format is performed when areas after recorded Lead-Out area become predetermined values or lower due to the change of the recording position of the STA area, or when even if the areas after the Lead-Out area are the predetermined values or higher, there is a defect in the SIP recording position in the full format state.例文帳に追加

Ｆｕｌｌ Ｆｏｒｍａｔ の設定は、ＳＴＡ領域の記録位置の変更により記録されたＬｅａｄ−Ｏｕｔ領域以降の領域が所定値未満となる場合または同Ｌｅａｄ−Ｏｕｔ領域以降が所定値以上であってもＦｕｌｌ Ｆｏｒｍａｔ 状態でＳＩＰが記録される位置に欠陥が存在する場合に行う。 - 特許庁

In the layout verification method of a semiconductor device for verifying a formation defect which occurs in wiring on a chip layout, an area ratio between the total area of the same node wiring on the chip layout and the total area of a contact hole on the same node wiring is limited and based upon the limitation, propriety is judged to detect the portion where the wiring formation is defective.例文帳に追加

チップレイアウト上の配線で発生する形成不良を検証する半導体装置のレイアウト検証方法であって、チップレイアウト上で同一ノード配線の総面積と同一ノード配線上のコンタクトホールの総面積との面積比を制限し、この制限に基づいて良否判定することにより配線形成不良箇所を検出する。 - 特許庁

Only a predetermined area is made to be irradiated with a laser beam by an optical pickup 72 to read information, a defect part is detected in an RF circuit 74 based on an electrical signal according to a return light from a disk of this laser beam, and the number of times of defect sensing is counted in a microcomputer 79.例文帳に追加

予め決められる所定領域のみに対して光ピックアップ７２によりレーザ光を照射して情報を読み出すようにし、このレーザ光のディスクからの反射光に応じた電気信号に基づいて、ＲＦ回路７４においてディフェクト部分を検出し、ディフェクトの検出回数をマイクロコンピュータ７９においてカウントする。 - 特許庁

In the silicon wafer, a wafer surface portion 1 is a non-defective area in which there is no void defect, and a wafer bulk portion 2 positioned deeper than the wafer surface portion 1 contains a void defect 4 composed of a polyhedron basically forming an octahedron with the polyhedron corners curved and an inner wall oxide film removed.例文帳に追加

ウェーハ表面部１はボイド欠陥が存在しない無欠陥領域であり、ウェーハ表面部１よりも深いウェーハバルク部２は、八面体を基本形状とする多面体で構成され、前記多面体の角部が曲面状であり、かつ、内壁酸化膜が除去されたボイド欠陥４が存在しているシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

When a defective sector with data defects is detected as the result of a data read failure upon read access to a logic disk 12, a data defect registering part 113 causes defect information that indicates the data defects in the defective sector to be recorded in the defective information area of an alternative sector to which the defective sector is allocated.例文帳に追加

データ欠損登録部１１３は、論理ディスク１２へのリードアクセス時のデータ読み出し失敗によりデータ欠損のある不良セクタが検出された場合、当該不良セクタに関し、当該不良セクタが割り当てられる代替セクタの欠損情報領域に“データ欠損あり”を示す欠損情報を記録する。 - 特許庁

To easily and accurately identify an area where a railroad vehicle speed measurement is carried out and an area where a railroad vehicle speed measurement is not carried out and to prevent a railroad vehicle speed measurement accuracy from being reduced when either error or defect occurs in receiving information from RFID tags arranged at the railroad.例文帳に追加

鉄道車両の速度測定を行う区域とそうでない区域とを容易にかつ正確に識別できるようにし、また、線路に配置されたＲＦＩＤタグからの情報の受信に誤りまたは欠落が生じた場合に鉄道車両の速度測定精度が低下するのを防止する。 - 特許庁

An image processing device 10 sets an inspection area of ≥45° per image, for areas other than an area 11 of a handhold 2a, and inspects presence or absence of a defect by comparing the density distribution (light quantity value) for the whole 360° circumference.例文帳に追加

記憶装置９に格納された画像に基づいて、画像処理装置１０は取っ手部２ａの領域１１以外に対して、１画像当たり４５°以上の検査領域を設定し、３６０°全周の濃淡分布（光量値）を比較することにより欠陥の有無を検査する。 - 特許庁

A picture image fetched by a camera as analog data is converted into digital data by an analog-to-digital converter, and an inspection standard area and an inspection objective area different in accordance with the type of the defect are each set on the picture image by a matrix setting means 18.例文帳に追加

カメラによってアナログデータとして取り出された画像のアナログデータの画像がＡ／Ｄ変換器によってデジタルデータに変換されると、マトリクス設定手段１８によって、画像上にて、欠陥の種類に応じて異なった検査基準領域および検査対象領域がそれぞれ設定される。 - 特許庁

A light defect 42 is determined as a location where the brightness of the image pattern exceeds the brightness of the upper pattern image by comparing the brightness at each location in each gray area of the image pattern picked up by the image pickup apparatus with the brightness at each location in each gray area of the upper pattern image.例文帳に追加

そして、画像読取装置で読取った画像パターンの各濃淡域における各位置の輝度と上限パターン画像の各濃淡域における各位置の輝度とを比較して、画像パターンの輝度が上限パターン画像の輝度を超えた位置を明欠陥４２と判定する。 - 特許庁

To reduce a possibility of recording failure and to attain an efficient recording operation of a defect management by preliminarily inspecting a stain before the recording even when a scratch or stain exists on a recording area on an optical disk medium and by referring to the inspection result when the recording area is assigned.例文帳に追加

光ディスク媒体上の記録領域に傷や汚れがある場合でも、予め記録前に汚れ検査を行っておき、記録領域割当て時に検査結果を参照することによって、記録失敗の可能性を低下させ、効率の良い欠陥管理記録を可能にする。 - 特許庁

An unrecorded normal partition is prevented from being erroneously determined to be recorded by the resetting means and the measuring means of reproducing signal peak and bottom levels, and correct determination is made as to whether the partition of a trial writing area corresponding to the defect partition of a count area is used or unused.例文帳に追加

再生信号のピークレベルとボトムレベルのリセット手段および測定手段により、未記録の正常パーティションを記録済みと誤って判断しないようにし、また、カウント領域の欠陥パーティションに対応する試し書き領域のパーティションが使用済みか未使用かを正しく判断する。 - 特許庁

To provide a novel structure wherein satisfactory light shielding properties are secured in an outer peripheral part at a circumferential edge of a display area and manufacturing cost can be reduced without causing a display defect and display unevenness in the display area, in a liquid crystal display device having a color filter.例文帳に追加

カラーフィルタを有する液晶表示装置において、表示領域の周縁にある外周部において充分な遮光性を確保するとともに、表示領域における表示不良や表示ムラを引き起こすことなく、しかも製造コストを低減できる新規の構造を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing unit that can set a size of received image data and a size of an area for the processing in the unit of pixels and can apply prescribed processing to a set area without the need for a defect of pixels and addition of undesired pixels required substantially even in the occasion.例文帳に追加

入力される画像データのサイズおよび処理を行う領域のサイズを画素単位で設定可能であり、その場合でも本来必要な画素の欠落や不要な画素の付加が発生することなく、設定された領域に対して所定の処理が可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent a color mixture during a manufacture of a color filter by stably preventing a chipping defect of a transfer-formed laminate (a separation wall for forming a colored area by applying ink preferably by an ink jet method).例文帳に追加

転写形成される積層体（好ましくはインクジェット法によりインクを付与して着色領域を形成するための隔壁）の欠け欠陥を安定に防止し、カラーフィルタを作製したときの混色の発生を防止する。 - 特許庁

To provide a highly reliable and convenient data transfer apparatus capable of exchanging a data area where any defect is generated and backing up stored data without affecting the operating time of a host apparatus.例文帳に追加

上位装置の運用時間に影響を及ぼさず、欠陥が発生したデータ領域を交替できるとともに、保存データをバックアップすることができる信頼性ならびに利便性の高いデータ転送装置を提供する。 - 特許庁

A format area where prepits of a disc are formed is irradiated with light emitted from a light irradiation part in this defect inspection device to measure light quantity of return light from the disk detected by a photodetecting part.例文帳に追加

本欠陥検査装置の光照射部から照射された光はディスクのプリピットが形成されているフォーマット領域に照射され、光検出部で検出したディスクからの戻り光の光量が測定される。 - 特許庁

Based on a signal waveform representing the change in leakage magnetic flux detected over a predetermined area with a highly-sensitive magnetic resistant device, the presence or absence of such a fine defect in the target to be inspected is determined.例文帳に追加

そして上記所定領域に亘って前記高感度磁気抵抗素子により検出される漏洩磁束の変化を示す信号波形から前記被検査対象物における微小欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To provide a plasm treating apparatus that achieves large-area, uniform plasma enabling high-speed film formation having a small amount of defect while feeding a large amount of material gas and can perform more satisfactory plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、大量の材料ガスを供給しながら、欠陥の少ない高速成膜を可能とする大面積均一プラズマを実現し、より良好なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an array substrate capable of preventing a defect due to static electricity flowing in a manufacturing process, to provide a display device having the same and to provide a method of protecting a display area of the array substrate from static electricity.例文帳に追加

製造工程時に流れ込む静電気による不良を防止することのできるアレイ基板とこれを具備した表示装置及び静電気からアレイ基板の表示領域を保護する方法を提供する。 - 特許庁

The present invention also provides the method of repairing or regenerating a cartilage defect in a patient comprising the step of administering into the cartilage or into the area surrounding the cartilage the composition comprising a therapeutically effective amount of the morphogenic protein.例文帳に追加

本発明はまた、軟骨または軟骨周囲領域に治療有効量の形態形成タンパク質を含む組成物を投与する工程を含む、患者の軟骨を再生または生成する方法を提供する。 - 特許庁

Here, even if defect management is performed in block units, data in an area smaller than a block can be replaced, and consequently the high-reliability information reproduction from the information recording medium becomes possible.例文帳に追加

そこで、欠陥管理がブロック単位で行なわれる場合であっても、ブロックより小さい領域でのデータの交替が可能となり、結果として情報記録媒体からの信頼性の高い情報再生が可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical film where an optical film with high quality, no defect and high productivity can be manufactured by suppressing the peeling of cured resin from both ends area of a coating layer after curing.例文帳に追加

硬化後の塗工層の両端部領域から硬化樹脂が剥がれることが抑えられることにより、高品質で欠陥なく、かつ生産性よく光学フィルムを製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The repeater 15 is temporarily installed in an area, where the ESL having the defect of communication with the transceiver is located after the transceiver is installed in the shop, and repeats the communication between the transceiver and the ESL.例文帳に追加

リピーター１５は、店舗へのトランシーバーの設置を終えた後にトランシーバーとの通信不良を起こすようになったＥＳＬがあるエリアに対して一時的に設置されるもので、トランシーバーとＥＳＬとの通信を中継する。 - 特許庁

Of the pattern inspection device 1, a comparing inspection part 10 generates a defect candidate area D in an inspected image S by comparing the inspected image S with a reference image R.例文帳に追加

パターン検査装置１において、比較検査部１０は、被検査画像Ｓと参照画像Ｒとを比較して被検査画像Ｓにおける欠陥候補領域Ｄを特定する２値化された欠陥候補画像Ｑを生成する。 - 特許庁

To provide a driving tumbler without a defect generating large noise by protrusively contacting an addendum area of a teeth for a chain with a side surface of a cam-shaped element when relative sliding is caused between the driving tumbler and the endless chain.例文帳に追加

駆動タンブラとエンドレスチェーンとの間に相対摺動が起きた際に、当該チェーン用歯の歯先領域がカム状要素の側面に突接して、大きな騒音を発生する欠点の無い駆動タンブラを提供する。 - 特許庁

A wafer data area 109 which stores information specifying a wafer and a manufacturing process is provided so that the defect information can be retrieved by only using the review data by similarly handling information on an inspection step and the information on a reviewing step.例文帳に追加

ウェハと製造工程を特定する情報を記憶するウェハデータ領域１０９を設け、検査工程とレビュー工程の情報を同様に扱うことでレビューデータのみで欠陥情報の検索を可能とする。 - 特許庁

The central arithmetic processor 3 detects the position of the inspection object from the image data and adjusts the arrangement of respective fine areas so that the fine areas are arranged in the inspection object area, and then detects the density value of each fine area to decide whether there is a flaw or defect from the relative variation quantity of the density value of each fine area.例文帳に追加

中央演算処理装置３は、画像データより検査対象領域の位置を検出し、検査対象領域の検出位置に基づいて、複数の微少エリアが検査対象領域内に配置されるよう各微少エリアの配置を調整した後、各微少エリアの濃度値を検出し、各微少エリアの濃度値の相対的な変化量から傷及び欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

In a wobble PLL circuit 22, a detector for the defect and modulation 223 is arranged in which variation between adjacent cycles or the variation for one cycle interval in output of a phase comparator 222 is measured, and when its value exceeds a set threshold NOIDETLVL, the value is regarded as a modulated area or the defect, and feedback for the phase comparator output to VCO is masked.例文帳に追加

ウォブルＰＬＬ回路２２に、位相比較器２２２の出力の隣接サイクル間の変動または１サイクル間隔の変動を計測し、その値が設定しきい値ＮＯＩＤＥＴＬＶＬを越えた場合には、変調領域あるいはディフェクトとみなしてＶＣＯへの位相比較器出力のフィードバックをマスクする変調およびディフェクト検出器２２３を設ける。 - 特許庁

To provide a silicon wafer imparting gettering ability of an epitaxial wafer and without producing crystal defect on an epitaxial growth layer of a surface by providing a place near a device active area as a gettering site due to the crystal defect and high concentration injection atom layers by ion implantation immediately under the epitaxial layer.例文帳に追加

デバイス活性領域に近い場所において、つまり、エピタキシャル層直下のイオン注入による結晶欠陥と高濃度注入原子層により、ゲッタリングサイトとして設けることで、エピタキシャルウエハのゲッタリング能力を付与するとともに表面のエピタキシャル成長層に結晶欠陥を発生させないシリコンウエハの提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-quality silicon single crystal wafer and a silicon single crystal wafer, which can be appropriately used for forming the operating area of a semiconductor device, by eliminating a grown-in crystal defect over all the surface and internally forming the oxygen deposition bulk micro-defect (BMD) of density sufficient for presenting an IG effect.例文帳に追加

全面にわたってグローン・イン結晶欠陥がなく、かつ、内部にはＩＧ効果を発揮するために十分な密度の酸素析出バルク微小欠陥（ＢＭＤ）が形成されることにより、半導体素子の動作領域の形成に好適に用いることができる、高品質なシリコン単結晶ウエハを製造する方法およびシリコン単結晶ウエハを提供する。 - 特許庁

The image processor 1 has an image storing area 12 in which the image data of an object to be inspected causing a defect is stored and, in the storing area 12, the inspected result data calculated based on the image of the defective object are stored together with the image data.例文帳に追加

本発明に係る画像処理装置１は、欠陥を生じた検査対象物の画像データが記憶される画像記憶領域１２を有しており、この画像記憶領域１２内には、欠陥を生じた検査対象物の画像データに基づいて算出された検査結果データが画像データと共に記憶されていることを特徴とする。 - 特許庁

To solve a problem that a spare area is densely arranged to suppress increase of response delay time after a reassignment processing, however, on the other hand, use efficiency of a disk is lowered when the spare area is densely arranged, with respect to a disk device to perform the reassignment processing when an unrecoverable defect is generated on a recording surface of the disk.例文帳に追加

ディスクの記録面上に回復不可能な欠陥が発生した場合にリアサイン処理を行うディスク装置において、リアサイン処理後の応答遅延時間の増加を抑えるためにはスペア領域を密に配置する必要があるが、一方、スペア領域を密に配置するとディスクの利用効率が低下してしまう。 - 特許庁

Then a predetermined conversion process is performed on at least one of the input CAD data D1 and the run-length data D2 to make the data formats of both data comparable, and then both data are compared with each other to detect an area having a difference as a defect area in the run-length data D2.例文帳に追加

そして、入力ＣＡＤデータＤ１とランレングスデータＤ２とのうちの少なくとも一方のデータに対して所定の変換処理を実行して互いに比較可能なデータ形式に揃えた上で、両データを比較し、差異がある領域をランレングスデータＤ２における欠陥領域として検出する。 - 特許庁

In order to detect a defect of the image formed on the recording medium efficiently, an image setting mode and post processing mode are decided from received information together with the image data, an inspection area needing inspection is decided in accordance with the decided mode, and a time for inspection is reduced by inspecting the inspection area only.例文帳に追加

記録媒体上に形成された画像の欠陥を効率的に検出するために、画像データとともに受信した情報から画像設定モードおよび後処理モードを判別し、判別したモードに応じて検査を必要とする検査領域を決定し、その検査領域だけを検査することで検査時間を短縮する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus, capable of nondestructively and simply detecting a hetero-crystalline area as a defect occurring in manufacturing a signal crystal metallic material or in use, even when existing in an invisible region.例文帳に追加

単結晶金属材料の製造上あるいは使用中に発生する欠陥としての異結晶域を、目視不可能な領域に存在する場合も含めて、非破壊で、簡便に検出可能な方法および装置を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that when transmitting a test pattern from an LSI tester in the LSI tester or an LSI tester simulation model, which range of an address area in a DUT memory is accessed can not be known and a defect of the test pattern cannot be previously detected.例文帳に追加

ＬＳＩテスタ又はＬＳＩテスタシミュレーションモデルでは、ＬＳＩテスタ側からテストパターンを送信する際に、ＤＵＴメモリのどの範囲のアドレス領域をアクセスしたかを知ることはできず、テストパターンの不備を事前に検出できない。 - 特許庁

To provide a wafer inspection device which can achieve high-speed, high-resolution visual test of semiconductor wafer and consistently prepares samples for TEM observation or various analyses with high accuracy of position from the area where any foreign material or defect exists.例文帳に追加

半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からＴＥＭ観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。 - 特許庁

To suppress a membrane thickness defect area and non-uniformity of coating thickness at a start end of coating to be very small and enable to carry out high precision coating which is required at the time of manufacturing a liquid crystal color filter.例文帳に追加

塗布開始端部での膜厚不良域および塗布厚のむらを極めて小さく抑制し、液晶用カラーフィルタの製造時に要求されるような高精度塗布を行うことを可能とする塗工用ダイヘッドを提供する。 - 特許庁