「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(164ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive type photoresist composition less liable to cause development defects in the production of a semiconductor device, excellent in adhesion on an inorganic antireflection film and excellent also in exposure margin (in particular, exposure margin in the case of isolated lines), sensitivity change with age, etc.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、現像欠陥の発生が少なく、無機反射防止膜上での密着性に優れ、更には、露光マージン（特に孤立ラインの露光マージン）、経時感度変動等にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with a trench-embedded element isolation region, capable of suppressing a leakage current due to crystal defects in the device of a low-drive voltage and securing the field inversion withstand voltage of the device of a high-drive voltage.例文帳に追加

駆動電圧の低いデバイスでの結晶欠陥によるリーク電流を抑え、かつ、駆動電圧の高いデバイスのフィールド反転耐圧を確保することのできるトレンチ埋め込み素子分離領域を有する半導体基板、半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a smooth and stable, high-quality ceramic green sheet with uniform and thin thickness, free from defects such as cracks, fissures and pinholes and useful for electronic parts by using water as solvent without causing cracks during its drying.例文帳に追加

水を溶剤として使用するグリーンシートの製造において、その乾燥時に割れを発生させない、また、厚みが薄くて均一で、亀裂、ヒビ割れ、ピンホール等の欠陥のない平滑で、且つ安定した高品質の良好な電子部品用セラミックスグリーンシートを製造する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing defects such as T-top phenomena generated when a circuit is formed by using a chemical amplification-type resist on a semiconductor wafer in manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

本発明の目的は、半導体装置を製造する際に、半導体ウエハーに化学増幅型レジストを用いて回路を形成するときに生じるＴ−トップの現象等の不具合を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dry film photoresist having a photosensitive resin layer which follows well the rugged parts, such as gouges and flaws, on a substrate for forming circuits and a method of making printed-wiring board having decreased defects by using such dry film photoresist.例文帳に追加

回路形成用基板上の打痕やキズ等の凹凸部に対する感光性樹脂層の追随性が優れたドライフィルムフォトレジスト及び、そのドライフィルムフォトレジストを使用して、欠陥が非常に少ないプリント配線板の作製方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

To obtain a new allyl compound-based crosslinking agent having solubility in an aqueous solution of a monomer (e.g. aqueous solution of an acrylate), for manufacture of a highly water-absorptive polymer having water absorbing property required in practical level, free from defects existing in a prior art.例文帳に追加

実用的レベルで要求される吸水能力を持つ高吸水性ポリマーを製造するための、モノマーの水溶液（例えば、アクリル酸塩水溶液）に対して溶解性があり、従来技術における欠点のない新規なアリル系架橋剤を提供する。 - 特許庁

The semiconductor region 2 that becomes an operation region is covered with the resistance layer 3 of a highly pure epitaxial growth layer, thus preventing generation of defects and levels, and hence achieving apparatus characteristics that are estimated according to the semiconductor region 2.例文帳に追加

この発明によれば、動作領域となる半導体領域２を高純度のエピタキシャル成長層である抵抗層３で覆うことにより、欠陥、準位の発生を防止し、半導体領域２から予測される装置特性を実現することが可能となる。 - 特許庁

To provide an inspection device to detect defects by using an electron beam which, in case the electron beam is used, can prevent a deterioration of an inspection performance due to differences of contrasts of inspection images caused by differences of kinds and densities of circuit patterns in a chip in a testpiece.例文帳に追加

電子線を用いて欠陥を検出する検査装置において、電子線を用いた場合の、試料内のチップ内の回路パターンの種類や密度の差異によって生じる検査画像のコントラストの差異を原因とした検査性能の低下を防止する。 - 特許庁

To provide a resin composition for a film that can form a film having few defects after molding and is capable of forming an optical film excellent in such properties as heat resistance, low specific gravity, low birefringence, low photoelastic coefficient and low wavelength dispersion, and to provide the optical film.例文帳に追加

成形後に得られるフィルムに形成される欠点が少なく、耐熱性、低比重性、低複屈折性、低光弾性係数及び低波長分散性に優れる光学フィルムを得ることが可能な光学フィルム用樹脂組成物及び光学フィルムを提供する。 - 特許庁

Due to the existence of the thin film 41, an epitaxial growth is prevented from starting from the interface between the conductor 56 and the semiconductor region 61, thereby reducing the generation and growth of crystal defects near the interface between the conductor 56 and the semiconductor region 69.例文帳に追加

薄膜４１の存在により導電体５６と半導体領域６１の界面からエピタキシャル成長が開始されるのが抑制され、導電体５６と半導体領域６９との界面近傍における結晶欠陥の発生と成長が低減される。 - 特許庁

To receive the measurement data collected and stored in a terminal device for collecting the measurement data as the measurement data free from defects without accompanying much expense and much difficulty in a computer device for a measurement data collector.例文帳に追加

計測データ収集者用コンピュータ装置において、計測データ収集用端末装置において収集・記憶されている計測データを、欠陥の生じていない計測データとして、多くの費用と多くの困難とを伴うことなしに、受けられるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an SOI substrate which improves adhesiveness between a single crystal semiconductor layer and a semiconductor substrate, reduces laminating defects, and provides sufficient bonding strength in a laminating step and also in a process of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

単結晶半導体層と半導体基板との密着性を向上させ、貼り合わせ不良を低減し、貼り合わせ工程及び半導体装置製造工程においても十分な接着強度をもつＳＯＩ基板の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of producing a multilayer film mirror used in a soft X-ray region of 2.3 to 4.4 nm, which comprises stacking the multilayer film by epitaxial growth and by which crystal defects in the multilayer film can be reduced and the reflectivity to soft X-rays can be improved.例文帳に追加

２．３ｎｍ〜４．４ｎｍの軟Ｘ線領域に用いる多層膜ミラーを作製する方法にであり、多層膜をエピタキシャル成長で積層させることにより多層膜内の結晶欠陥を減少させ、軟Ｘ線の反射率を向上させるものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an alkylene oxide polymer which is easy in the treatment of the polymerization catalyst used therein and is reduced in the content of impurities which cause defects such as odor, discoloring, etc. even without the treatment with an adsorber as before, and the alkylene oxide polymer.例文帳に追加

重合触媒の処理が容易で、従来のように吸着剤による処理をしなくても、臭気、着色等の不具合の原因となる不純物含有量の少ないアルキレンオキシド重合体の製造法及びアルキレンオキシド重合体の提供。 - 特許庁

To provide an optical pickup provided with an objective lens for suppressing scratch of an optical disk and defects of the objective lens by suppressing contact between the objective lens and the optical disk even when the optical disk and the optical disk are approached abnormally.例文帳に追加

対物レンズを備えた光ピックアップであって、前記光ディスクと前記光ピックアップが異常接近した場合であっても、対物レンズと光ディスクとの接触を抑制し、光ディスクに傷がついたり、対物レンズに不具合が発生したりするのを抑制する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording ink composition having high discharge stability and no defects in the aspects of hue, weatherability, water resistance, and image quality in a water base ink which is advantageous from the standpoints of handling properties, an odor, safety and the like.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、取り扱い性・臭気・安全性等の点から有利な水性インクにおいて、吐出安定性が高く、色相、耐候性、耐水性や画質面での欠点がないインクジェット記録用インク組成物を提供することである。 - 特許庁

To obtain a glass material for press-forming in which the deformation is minimized to prevent the fusion of a glass material holding part with glass in heating the glass material to make the surface roughness small and the optical defects such as bubbles or devitrification in the glass material do not occur.例文帳に追加

ガラス硝材を加熱して表面粗さを小さくする際の硝材自身の形状変形を極小にして、硝材保持部とガラスとの融着を防止し、かつ硝材に泡あるいは失透などの光学的欠陥を発生させないプレス成形用ガラス硝材を得る。 - 特許庁

The protein is useful in the treatment of various disorders associated with defects in cellular formation, growth, differentiation, proliferation and/or maintenance of a variety of tissues and organs including, for example, brain, lung, pancreas, liver, spleen, kidney, small intestine and/or other tissues and organs.例文帳に追加

該蛋白は、例えば、脳、肺、膵臓、肝臓、脾臓、腎臓、小腸および／または他の組織および器官を包含する種々の組織および器官の細胞形成、成長、分化、増殖および／または維持の欠陥に関連した種々の疾患の治療において有用である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use of an exposure light source of ≤200 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and concretely, to provide a positive resist composition which suppresses the occurrence of development defects and scum and has also excellent defocus latitude.例文帳に追加

２００ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には現像欠陥やスカムの発生が低減され、更にはデフォーカスラチチュードにも優れるポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In each inspection, based on servo patterns recorded on each face, the inspection apparatus performs positioning of a magnetic head corresponding to the respective faces and recording of test data, and detects deficiency due to the defects of a magnetic layer from the results obtained by reproducing the test data.例文帳に追加

それぞれの検査では、それぞれの面に記録されたサーボ・パターンに基づいてそれぞれに対応する磁気ヘッドの位置決めおよびテスト・データの記録を行い、このテスト・データを再生して得た結果から磁性層の欠陥に起因する不具合を検出する。 - 特許庁

To provide an SnCu-based lead-free solder alloy in which the defects of generating soldering faults such as icicle formation by a phenomenon that intermetallic compounds are excessively precipitated, and dross with the same as nuclei is formed, is solved and which satisfies all of required characteristics for utilization.例文帳に追加

金属間化合物が過度に析出して、これを核としたドロスが形成されることで、ツノ引き等のはんだ付け欠陥が発生する欠点を解消し、実用化の要求特性の全てを満たしたＳｎＣｕ系の無鉛はんだ合金を提供する。 - 特許庁

This is the system which utilizes temperature of a covering object nearly in stable state, in cooperation with an optical inspection system to selectively find defects and characteristics of the object through its covering, without the need for temporary heating, that is, infrared irradiation and reflective imaging.例文帳に追加

光学的検査システムと協働して被覆された対象物の略安定状態の温度を利用するシステムが開示され、一時的な加熱、即ち赤外線照射及び反射撮像の必要なくして、被覆の下の対象物の欠陥と特徴を選択的に見る。 - 特許庁

An inspection tool in an embodiment includes a light irradiation source generating scattered light including scattered light from the defects of a workpiece, which caused by guiding a light beam on the workpiece, scattered light according to a normal scattering pattern of the workpiece.例文帳に追加

検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyester film which, when used for the material of liquid crystal displays, is free from unevenness and defects, exhibits an excellent processability and an easy adhesivity to solvent-free ionizing radiation-curable resins constituting the lens layer, and is highly antistatic.例文帳に追加

液晶ディスプレイなどの部材として使用した際に、ムラや欠陥がなく、加工性に優れ、レンズ層などの無溶剤系電離放射線硬化樹脂に対しても易接着性が優れ、かつ、帯電防止性を高度に併せ持つ二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The surface of the silicon wafer 10 is irradiated with an electron beam to melt a surface layer 11 of the silicon wafer 10, and the melted surface layer 11A is solidified, thereby extinguishing crystal defects (a) of the surface layer 11A.例文帳に追加

シリコンウェーハ１０の表面に電子線を照射してシリコンウェーハ１０の表層部１１を加熱することにより、表層部１１Ａ内に存在する結晶欠陥部位の酸化物を溶融させることによって表層部１１Ａの結晶欠陥ａを低減させる。 - 特許庁

To provide a developing device, capable of obtaining stable images for a long period, by improving the mixing and agitating performance for supply toner and developer, without having to apply excessive stresses on the developer and eliminate faulty charging and dispersion in toner concentration to prevent toner scattering and image defects.例文帳に追加

現像剤に過剰なストレスを与えずに、補給トナーと現像剤の混合攪拌性能を向上させて帯電不良やトナー濃度ばらつきを無くし、トナー飛散や画像欠陥を防止し、長期にわたり安定した画像を得ることができる現像装置を提供する。 - 特許庁

To prevent such defects as the generation of dew condensation water in a vegetable chamber due to excessive desorption of moisture from a moisture adjuster with increase in the amount of moisture retained in the moisture adjuster as the operation hours increases, the dropping of water from the moisture adjuster and the like.例文帳に追加

運転時間と共に水分調整手段の保有水分量が増加することによる水分調整手段からの水分の過度の脱着に伴う野菜室内での結露の発生、或いは、水分調整手段からの水の滴下等の不具合を防止する。 - 特許庁

In a pattern correction device for placing a substrate on a chuck stage 20 to correct defects of fine patterns formed on the substrate, a lifter unit 30 holds the substrate to be carried in/out so that it is positioned at an upper side of the chuck stage 20.例文帳に追加

リフタユニット３０は、チャックステージ２０上に基板を載置して、基板上に形成された微細パターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、搬入出される基板を上記チャックステージ２０の上方に位置するように保持するリフタユニット３０である。 - 特許庁

The generation of in-plane potential difference on the conductive material 14 due to electrons charged during plasma etching is suppressed and distortion of radiated ions is suppressed; consequently the side faces of patterns 4A can be made free from etching defects, such as etching residue (footing) and a wedge-shaped cut (notching).例文帳に追加

プラズマ加工中に帯電する電子による導電性材料１４の面内電位差の発生を抑制し、照射イオンの歪曲を抑えて、パターン４Ａの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常を防止できる。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor not image defects such as black spots and having good potential stability even in repetitive use and to provide an image forming method using the electrophotographic photoreceptor, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

本発明の目的は黒ポチ等の画像欠陥を発生させず、繰り返し使用でも電位安定性の良好な電子写真感光体及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device whose capacitance of a capacitor is large, which can suppress the occurrence of defects in the interface of a lower metal electrode and a capacitance insulating film and in the film of the capacitance insulating film in the process to form the capacitance insulating film.例文帳に追加

容量絶縁膜を形成する過程で、下部金属電極と容量絶縁膜との界面および容量絶縁膜の膜中における欠陥が生じるのを抑えることができ、キャパシタ容量の大きな半導体装置を製造することを目的とする。 - 特許庁

To provide a coating film protective sheet which can suppress formation of appearance defects such as whitish appearance in the coating film of a coated automobile during its transportation, can be used on, especially automobile resin bumpers, and does not cause the transfer of hole shapes to the surface of the coating film.例文帳に追加

塗装を終えた自動車を移送する際に、特に自動車用樹脂製バンパーにも用いることができ、塗膜の白ボケ等の外観上の不具合の発生を抑え、塗膜表面に孔の形状が転写することがない塗膜保護シートを提供する。 - 特許庁

To provide a static mixer which does not have defects as for axial inhomogeneities in the case single mixed element is used or when it is used together with built-in devices of a minimum number of structure elements, and can secure a mixture of high quality at a low built-in device cost.例文帳に追加

単一の混合要素が使用されるかまたは最少数の構造要素の組込み装置と共に使用されるときに、軸方向不均等性に関する欠点を持たず、低い組込み式装置コストで質の高い混合物を確保する、静的ミキサを提供する。 - 特許庁

To provide a construction and a manufacturing method, wherein an etching margin is assured when a connection hole is formed in an active layer of a thin-film transistor, the controllability of ion implantation is improved in the depth direction, and further the crystal defects and distortion are eliminated in a channel region.例文帳に追加

薄膜トランジスタの活性層上に接続孔を形成する際のエッチングマージンが確保し、イオン注入での深さ方向の制御性を良くし、さらにチャネル領域の結晶欠陥や歪みを解消する構成および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mounted substrate capable of preventing mounting-related defects due to voids inside the active resin adhesive in the manufacturing of a double-sided substrate wherein an active resin adhesive is used.例文帳に追加

活性作用を有する樹脂接着材を用いて両面実装基板を対象として行われる実装基板の製造において、樹脂接着材内部のボイドに起因して生じる実装不具合を防止することができる実装基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A high quality weld bead without defects such as a blowhole can be obtained by discharging a plating component from a fused part by quickly evaporating the plating component at a welding part including a heat affected part by the beam strength distribution peculiar to the irradiation pattern and rotational movement of the converging beam L2.例文帳に追加

前記照射パターンの特有のビーム強度分布と集束ビームＬ２の回転運動により、熱影響部を含めた溶接部のめっき成分が急速に蒸発して溶融部から排出され、ブローホール等の欠陥のない高品質な溶接ビードが得られる。 - 特許庁

Consequently, a semiconductor laser element in which such defects as cracking, chipping, etc., do not occur and the characteristics of the laminate 10 do not change can be obtained by scribing 32 and 34 the incident plane and the plane opposite to the incident plane and cleaving (not shown in the figure) the planes.例文帳に追加

これにより入射面あるいは入射面とは反対面にスクライブ３２、３４を行ない、その後図示はしないが劈開することにより、クラックやチッピング等の欠陥がなく、かつ化合物半導体積層物の特性変化がない、半導体レーザ素子が得られる。 - 特許庁

The molding is degreased, and is thereafter burned to produce the porous body which has no defects such as deformation and cracks.例文帳に追加

無機粉末とゲル化剤と硬化剤と分散媒とさらに該分散媒を吸収する高分子材料を含有したゲルキャスティングスラリ配合物を注型し、加熱硬化後に乾燥して得られた成形体を脱脂後、焼成して変形や割れなどの欠陥がない多孔体を製造する。 - 特許庁

By this constitution, even if air bubbles are included one printing space, air bubbles disappear in the adjacent printing space and probability, wherein plate separation is performed in such a state that pattern holes 12a are not sufficiently filled, is lowered to prevent printing defects.例文帳に追加

これにより、１つの印刷空間内への気泡混入が発生した場合にあっても、隣接した印刷空間で気泡が消滅し、パターン孔１２ａ内へ充填不良のまま版離れが行われる確率を低下させ、印刷不良を防止することができる。 - 特許庁

To provide a method capable of forming an electroless plating film free from defects such as pits and flowing plating unevenness (an aggregate of micro-projections), good in appearance and moerover excellent in adhesion on a glass product by using a stable treating soln. usable over a long period.例文帳に追加

安定で長期間使用可能な処理液を用いて、ガラス製品上に、ピット、流れ状のめっきムラ（微少突起物集合体）等の欠陥が無く、外観が良好で、しかも密着性に優れた無電解めっき皮膜を形成できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyester film for avoiding decreases in yields due to defects upon the formation of an image-receiving layer in a coating step when image-receiving paper and printing paper are produced and for achieving simplification of a step of forming a dye-ink-receiving layer.例文帳に追加

受像紙、印画紙を製造する際のコーティング工程での受像層を形成する際の欠点による歩留まり低下を回避し、染料インキ受容層形成工程の簡略化を達成するための、２軸延伸ポリエステルフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To reduce influence of noise caused by irregularities in brightness appearing in a captured image in an image inspection for detecting defects existing on the surface of an inspection target by inspecting an inspection image generated by a prescribed image generation means for the inspection target.例文帳に追加

検査対象について所定の画像生成手段により生成された検査画像を検査することにより検査対象の表面に存在する欠陥を検出する画像検査において、撮像画像に現れる明度ムラに起因するノイズの影響を低減する。 - 特許庁

Crystals of high quality in which warpages or defects due to grating mismatching are reduced can be obtained, while suppressing the reduction of the DBR characteristics, such as the reflection factor, heat resistance and electrical resistance, and the yield of semiconductor elements can be improved.例文帳に追加

したがって、反射率、熱抵抗、電気抵抗といったＤＢＲ特性の低下を抑制しつつ、エピタキシャル成長ウエハの反りや、格子不整合による欠陥の少ない高品質な結晶が得られることにより半導体素子の歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

To provide an aberration correcting element suppressing light quantity loss by the transfer defects of the adjacent zonal level differences of a diffraction lens while sufficiently correcting the color aberration of an objective lens and to provide an optical pickup device and a recording and reproducing device for which a manufacture cost is suppressed.例文帳に追加

対物レンズの色収差を十分に補正しつつ回折レンズの隣合う輪帯段差の転写不良による光量損失を小さく抑えた収差補正素子を提供し、製造コストを抑えた光ピックアップ装置及び記録・再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a coating device in which any haze and gloss do not change, stable coating is possible even if time elapses, and a coating film without any streaky defects and transverse unevennesses can be obtained easily even for a thixotropic coating liquid blended with a filler.例文帳に追加

フィラーを配合したチクソトロピックな塗工液であっても、濁り度（ＨＡＺＥ）及び光沢度（ＧＬＯＳＳ）が変化することなく、時間が経過しても安定して塗工可能で、しかもスジや横段ムラの発生がない塗工膜を容易に得られる塗布装置の提供。 - 特許庁