「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

In this manufacturing method of a cylindrical secondary battery, an electrode group groove formation process first executes a diameter-reducing process for reducing diameter from a part above a part of an armoring can where an electrode group is housed to an opening and thereafter executes a groove formation process for forming a groove toward the inside from the outside in the part of the armoring can reduced in diameter.例文帳に追加

円筒型二次電池の製造方法において、電極群溝形成工程が、まず外装缶の電極群が収納されている部位より上から開口部までを縮径する縮径工程を行い、その後、前記外装缶の縮径した部分に外側から内側に向けて溝を入れる溝入れ工程を行う円筒型二次電池の製造方法。 - 特許庁

In this manufacturing method, after an electrode roll 4 is formed by rolling a positive electrode body 1 and a negative electrode body 2 through separators 3a, 3b (first process), a collector 7 for a negative electrode is welded to one end of the electrode roll (second process) and the electrode roll with the collector jointed is mounted in an outer cylindrical can 8 from the collector side (third process).例文帳に追加

正極電極体１と負極電極体２とをセパレータ３ａ,３ｂを介して巻回して電極ロール４を形成した後（第１工程）、この電極ロールの一方の端部に負極用集電体７を溶接し（第２工程）、この集電体を接合した電極ロールを該集電体側から筒状のアウター缶８に装填する（第３工程）。 - 特許庁

The method for producing the fluorapatite powder includes a first process for applying an ultrasonic wave to a slurry containing the fluorapatite synthesized by using a wet process by using a calcium source, a phosphoric acid source and a fluorine source as raw materials and a second process for obtaining the fluorapatite powder mainly constituted with the fluorapatite by drying the slurry.例文帳に追加

本発明のフッ素アパタイト粉体の製造方法は、カルシウム源と、リン酸源と、フッ素源とを原材料として、湿式法を用いて合成されるフッ素アパタイトを含有するスラリーに超音波を付与する第１の工程と、前記スラリーを乾燥することにより、主としてフッ素アパタイトで構成されるフッ素アパタイト粉体を得る第２の工程とを有する。 - 特許庁

A transmission potential value of the transistor is obtained by the first process, fixed potential values of one node in the case of transmission of a plurality of potential values to the one node are obtained by the second process, and conflicting fixed potential values are obtained by the third process in the case where one node has a plurality of fixed potential values as attributes.例文帳に追加

上記第１処理により、上記トランジスタの伝搬電位値が得られ、上記第２処理により、一つのノードへ複数の固定電位値が伝搬する場合の当該ノードの固定電位値が得られ、上記第３処理により、一つのノードの属性として複数の固定電位値を持つ場合に競合する固定電位値が得られる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein regions of a second polarity opposite to a first polarity is formed on the well region of the first polarity according to a simple manufacturing process, and to provide a manufacturing method thereof relating to the semiconductor device wherein well regions of the second polarity opposite to the first polarity is arranged around the well region of the first polarity and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

第１の極性のウェル領域の周囲に第１の極性とは逆極性の第２の極性のウェル領域が配置された半導体装置及びその製造方法に関し、簡単な製造工程で、第１の極性のウェル領域上に第１の極性とは逆の第２の極性の領域が形成された半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a process of subjecting an inter-layer insulating layer 61 to dry etching using a mask having a plurality of first openings and a plurality of second openings arranged more closely than the first openings, and forming first holes reaching a ground layer 10 below the first openings and second holes 41 reaching the ground layer 10 below the second openings.例文帳に追加

実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、複数の第１の開口と第１の開口よりも密に並んだ複数の第２の開口とを有するマスクを用いて層間絶縁層６１をドライエッチングし、第１の開口の下で下地層１０に達する第１のホールと、第２の開口の下で下地層１０に達する第２のホール４１とを同時に形成する工程を備えている。 - 特許庁

The reproduction rate alteration part carries out a reproduction rate alteration process to make the degree of the alteration of a first reproduction rate during a first period up to a first timing from the timing of the preceding input larger than that of the second alteration rate during the second period up to the timing at which a hitting event occurs between the character and the moving object from the first timing.例文帳に追加

再生速度変更部は、先行入力のタイミングから第１のタイミングまでの期間である第１の期間での第１の再生速度の変更度合いを、第１のタイミングからキャラクタと移動体のヒットイベントが発生するタイミングまでの期間である第２の期間での第２の再生速度の変更度合いに比べて大きくする再生速度変更処理を行う。 - 特許庁

This method comprises the steps of: performing a first encryption process for a first NAS message to get a second NAS message; generating a non-encrypted RRC message in an RRC layer; combining the second NAS message with an RRC message to get a first concatenated message; performing a second encryption process for all the data other than a sequence number field, in the first concatenated message to get a second concatenated message; and transmitting the second concatenated message.例文帳に追加

方法は、第一ＮＡＳメッセージに対して第一暗号化プロセスを行って、第二ＮＡＳメッセージにする段階と、暗号化されていないＲＲＣメッセージをＲＲＣ層で生成する段階と、上記第二ＮＡＳメッセージとＲＲＣメッセージを連結して第一連結メッセージにする段階と、上記第一連結メッセージにおいてシーケンス番号フィールド以外すべてのデータに対して第二暗号化プロセスを行い、第二連結メッセージにする段階と、上記第二連結メッセージを送信する段階とを含む。 - 特許庁

This method for preparing the three dimensional epithelium-reconstructed object comprising a first culturing process of initially proliferating epithelium cells, a second culturing process of seeding the proliferated epithelium cells in a culturing container and culturing them in the culturing container, and a third culturing process of inducing differentiation in the culturing container, performs at least the second culturing process and third culturing process under a gas atmosphere having ≥3 and ≤8 vol% oxygen concentration.例文帳に追加

上皮細胞を初期増殖する第一の培養工程、増殖された上皮細胞を培養容器に播種し、該培養容器内で培養する第二の培養工程と、該培養容器内で分化誘導させる第三の培養工程を含む三次元的な上皮再構築体を作成する方法であって、少なくとも第二の培養工程及び第三の培養工程を酸素濃度が３体積％以上８体積％以下のガス雰囲気下で行うことを特徴とする上皮再構築体の作成方法。 - 特許庁

The method of developing the resist film by exposing the resist film formed on a substrate to a predetermined pattern and then performing a development using a developer includes a first development process of contacting a first developer with the resist film, and a second development process of contacting a second developer with the resist film, wherein the second developer has a lower concentration compared with the first developer.例文帳に追加

本発明は、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光した後、現像液を用いて現像を行なうレジスト膜現像方法において、第１の現像液がレジスト膜に接する第１現像工程と、第２の現像液がレジスト膜に接する第２現像工程と、を備え、前記第２の現像液は、前記第１の現像液と比較して低濃度の現像液であることを特徴とするレジスト膜現像方法である。 - 特許庁

The second thermal treatment process allows the first gate insulating film to be more tight, preventing diffusion of active species generated at deposition of the second gate insulating film 12, not to increase its interface level.例文帳に追加

第２熱処理工程により第１ゲート絶縁膜が緻密化され、第２ゲート絶縁膜１２の堆積の際に生成する活性種の拡散が阻止され、界面順位を増加させない。 - 特許庁

When neutral control start conditions are satisfied, an ECU executes a second neutral control process if first target fluid pressure KPc1 is stored in an EEPROM.例文帳に追加

ＥＣＵは、ニュートラル制御の開始条件が成立した場合において、ＥＥＰＲＯＭに第１目標油圧ＫＰｃ１が記憶されるときには、第２ニュートラル制御処理を実行する。 - 特許庁

A system, method, and product for manufacturing a semiconductor device by a lithography which are accompanied by a lithography double patterning process for adding a coloring matter to a first or second lithography pattern are provided.例文帳に追加

第１または第２リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a step of processing the information associated with the plurality of first grayscale values and a step of determining whether or not the at least one production process is uniform.例文帳に追加

さらに、この方法に、第１の複数のグレイスケール値に関連する情報を処理することと、少なくとも１つの製造プロセスが均一であるかどうかを判定することが含まれる。 - 特許庁

The process entails a step of forming a channel in a surface of a surface region of the component 10 so that the channel is open at the surface and fluidically connected to a first cooling passages within the component 10.例文帳に追加

部品１０の表面領域の表面内にチャネルを形成して、チャネルが該表面で開口しかつ該部品１０内の第１の冷却通路に流体連結させるステップを伴う。 - 特許庁

The image forming apparatus 100 executes the scanning process twice and two image data (a first image data and a second image data) are produced based on the received light from two different reflecting angles.例文帳に追加

画像形成装置１００はスキャン処理を２回実行し、異なる２つの反射角からの受光光に基づいて２つの画像データ（第１画像データおよび第２画像データ）を生成する。 - 特許庁

In a first process, the optical filter layer, such as infrared-ray cut filter layer, optical low-pass filter layer, etc. is formed on the glass substrate as a base material of the cover glass of the solid-state imaging device.例文帳に追加

第１の工程では、固体撮像装置のカバーガラスの基材となるガラス基板の上に、赤外線カットフィルタ層や光学ローパスフィルタ層等の光学フィルタ層を形成する。 - 特許庁

In this system, at least one working process in which the attribute values of the first attribute are equal and arrayed so as to satisfy the second order constraint in a cluster is selected as the cluster.例文帳に追加

本発明のシステムは、第１属性の属性値が等しくかつクラスタ内で第２順序制約を満たすように配列した少なくとも１つの加工工程をクラスタとして選択する。 - 特許庁

An electrode plate precursor 13 having a thickness t1 is rolled to a thickness t2 by rolling rolls R_11 and R_12 as a first step in a rolling process of a sintered type electrode plate.例文帳に追加

焼結式極板の圧延工程において、厚みｔ１の極板前駆体１３は、第一段階として、圧延ロールＲ_11およびＲ_12によって厚みｔ２まで圧延される。 - 特許庁

A cartridge 50k, being the largest in size among a plurality of process cartridges 50y, 50m, 50c, 50k, is detachably arranged at a location at which it is first exposed to outside when a cartridge tray 13 is drawn out.例文帳に追加

複数のプロセスカートリッジ５０ｙ，５０ｍ，５０ｃ，５０ｋの中で、最も大きいカートリッジ５０ｋを、カートリッジトレイ１３の引き出し時において、最も先に外部に露出する位置に着脱可能に設ける。 - 特許庁

To provide a product tracing system managing information regarding a product in each process of production, distribution, and selling from first to last on the basis of a two dimensional code, and facilitating acquisition of the information by a consumer.例文帳に追加

生産品に関する情報を生産、流通、販売の各過程で２次元コードに基づいて一貫して管理し、消費者による情報の取得を容易にする生産品トレースシステム。 - 特許庁

A first recess 41 which is cone-shaped over the entire circumference is formed on an upper surface of the floor 4 within a range including a part where a lower-end part of an inner peripheral surface of the process tube 1 is positioned.例文帳に追加

フロア４の上面におけるプロセスチューブ１の内周面の下端部が位置する部分を含む範囲内に、全周にわたってすり鉢状の第１の凹部４１を形成した。 - 特許庁

After the first working process, the operating hydraulic pressure of the hydraulic cylinder 4 rapidly drops to a second prescribed pressure which maintains a pressing state of the workpiece W to the lower die 1 by the forming pad 3.例文帳に追加

第１加工工程の後に、油圧シリンダ４の作動油圧を、成形パッド３による下型１へのワークＷの押え状態を維持する第２の所定圧に急速に降下させる。 - 特許庁

The first management chart preparing means prepares the management chart of a mean value based on the temporal fluctuating values of the quality characteristic values of products manufactured in different time in a manufacturing process.例文帳に追加

第１の管理図作成手段とは、製造工程において異なる時間に製造された製品の品質特性値の時間的な変動値に基づいて平均値の管理図を作成する。 - 特許庁

When the assignment of the resources is valid, and the request is satisfied with the resources previously secured in the first execution space 20a, the local resource management part 46 performs the assignment of the resources to the process 32.例文帳に追加

割り当て可で、かつ第１実行空間２０ａに以前確保しておいたリソースで要求が充足できれば、ローカルリソース管理部４６はプロセス３２に対しリソースの割り当てを行う。 - 特許庁

In a license confirmation/setting interrupt process, a control part prepares a license setting screen for a specified player character A first, and displays the prepared license setting screen in an image display part.例文帳に追加

ライセンス確認・設定割込処理において、制御部は、先ず、指定されたプレイヤキャラクタＡのライセンス設定画面を作成し、作成したライセンス設定画面を画像表示部に表示する。 - 特許庁

A drying and washing machine includes a humidity raising means for raising humidity in an inner tub 4 as a first solving means, which is operated in the drying process.例文帳に追加

第１の解決手段として、内槽４内の湿度を上昇させる湿度上昇手段を備え、乾燥行程において、この湿度上昇手段を動作させるようにしたものである。 - 特許庁

In a first process, a cutter is lowered by a distance Y1 toward the axis of the spool, and a land 6 is cut so that cutting depth of the other end 6a of the land equals to a set value D or shorter.例文帳に追加

第１工程で、スプールの軸に向かって距離Ｙ１分、カッターを下ろして、ランドの他端６ａの削り深さが設定値Ｄ以下になるようにランド６を切削する。 - 特許庁

In the process (d), the second conductive layer 18 and the ferroelectric layer 14 are formed in regions where the first conductive layer 12 and the third conductive layer 16 cross each other.例文帳に追加

前記工程（ｄ）において、前記第２導電層１８および前記強誘電体層１４は、前記第１導電層１２と、前記第３導電層１６との交差領域に形成される。 - 特許庁

A silicide process is handled based on composition change in a silicide film that is being heat-treated, and the silicide reaction in the first- and second-stage heat treatment is simulated separately.例文帳に追加

熱処理中のシリサイド膜の組成変化に基づいてサリサイド工程を扱い、一段階目の熱処理時及び二段階目の熱処理時におけるシリサイド反応を別々にシミュレーションする - 特許庁

In an additive diffusing process, a region including the fusion spliced part A is heat-treated at a first temperature T1 and additives which are added to the glass fibers 11 and 21 are diffused (Fig. 1 (e)).例文帳に追加

添加物拡散工程で、第１の温度Ｔ１で融着接続部Ａを含む領域を加熱処理して、ガラスファイバ１１，２１に添加されている添加物を拡散させる（図１（ｅ））。 - 特許庁

A target 10 including a substrate having a through hole and a metallic foil stuck to a first surface 21 of the substrate to close the through hole to make wiring is soaked in a process liquid 20.例文帳に追加

貫通穴を有する基板と、配線にするために基板の第１の面２１に貫通穴を塞ぐように貼り付けられた金属箔と、を含む対象物１０を処理液２０に浸漬する。 - 特許庁

An image is formed by repeating a process wherein the paper 26 is conveyed in the second direction by the pair of conveyance rollers 30, 34 and the ink jet head 22 is moved in the first direction.例文帳に追加

一対の搬送ローラ３０、３４により用紙２６を第２の方向に沿って移動し、インクジェットヘッド２２を第１の方向に移動する工程を繰り返すことにより画像を形成する。 - 特許庁

The stress control region (50) is incorporated into the drawing process at a position below a first set of traction rollers (60) and above a second set of traction rollers (70).例文帳に追加

ある実施形態において、応力制御領域（５０）は、第１組の牽引ロール（６０）の下方で、かつ第２組の牽引ロール（７０）の上方の位置においてドローイング法に取り込まれる。 - 特許庁

It is further effective to secure the basicity of the slag in the desiliconizing period at 1.0 and the blown depth of the desulfurizing agent at ≥1.0 m, and the stirring force of the molten iron in the first process is regulated at ≥1.1 kw/t.例文帳に追加

更に脱珪期のスラグ塩基度1.0 を確保し脱硫剤吹込み深さを1.0m以上確保するのがより効果的であり、更に第一工程において溶銑の攪拌力を1.1kw/t 以上とする。 - 特許庁

In a preheating process, the mode field diameter in the end surface is enlarged by heating the area including the end surface of the first optical fiber 1 having a large mode field diameter by diffusing an additive.例文帳に追加

前加熱工程において、モードフィールド径が大きい第１の光ファイバ１の端面を含む領域を加熱して添加物を拡散させて、端面におけるモードフィールド径を拡大させる。 - 特許庁

By this removing process of the DZ layer, the silicon wafer 30 can be obtained having the DZ layer exposed on a first surface 31 and the BMD layer exposed on the second surface.例文帳に追加

以上のようなＤＺ層の除去工程によって、第１面３１にＤＺ層が露出するとともに、第２面にＢＭＤ層が露出した本発明のシリコンウェーハ３０が形成される - 特許庁

On the first insulating film with its surface treated with the process liquid, a second insulating film is formed of an organic insulating material whose relative dielectric constant is lower than that of a silicon oxide.例文帳に追加

処理液で表面処理された第１の絶縁膜の上に、比誘電率が酸化シリコンの比誘電率よりも低い有機絶縁材料からなる第２の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The etching process (1A) is composed of a first etching stage in which the solution temperature of an etching solution is controlled to 60°C or more and a second etching stage in which the solution temperature of an etching solution is controlled to 25°C or less.例文帳に追加

エッチング工程（１Ａ）がエッチング液の液温が６０℃以上の第一エッチング工程と、エッチング液の液温が２５℃以下の第二エッチング工程とで構成されていること。 - 特許庁

To the horn side chip 11, ultrasonic vibration force decided based on first vibration conditions is applied to fuse insulating material 20a and 21a of the coated wires 20 and 21 (an insulating material fusing process).例文帳に追加

ホーン側チップ１１に、第１の振動条件で決定される超音波加振力を付加して、被覆電線２０，２１の絶縁体２０ａ，２１ａを溶融する（絶縁体溶融工程）。 - 特許庁

Thereafter, data recording is conducted to sequentially transfer and record a predetermined amount of data with the write completion information added thereto in the data arrangement process, to the recording medium from the first block.例文帳に追加

そして、データ配列処理で書込み完了情報が付加された所定のデータ量のデータを、先頭ブロックから順に記録メディアに転送して記録させる記録処理とを行う。 - 特許庁

When the update is available, a transfer processing section newly selects the selected routing information from the routing information of the first memory and performs an updating process of the selected routing information of the second memory.例文帳に追加

転送処理部は、更新可能な場合、第１メモリのルーティング情報から選択ルーティング情報を新たに選択して、第２メモリの選択ルーティング情報の更新処理を行う。 - 特許庁

In a filled core forming process, the sand with the binder is filled in the metal pipe, is cured, and then, is sealed by first and second caps 44 and 45, and thus, the binding sand filled core can be obtained.例文帳に追加

充填中子形成工程は粘結剤入り砂を金属管に充填して硬化させた後、第１・第２キャップ４４、４５で封じることで粘結砂充填中子を得る。 - 特許庁

The second housing 20 is equipped with a pressing part 24 pressing the variable part 32 to elastically displace toward a second sealing face 23 side, only at a final period in an insertion-coupling process with the first housing 10.例文帳に追加

第２ハウジング２０は、第１ハウジング１０との嵌合過程における終期にのみ可変部３２を押圧して第２シール面２３側へ弾性変位させる押圧部２４を備えている。 - 特許庁