「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

In the first cleaning process 3, the treatment liquid W1 is the nitric acid whose temperature is at 70°C or above and 150°C or below and the crushed concrete S1 is immersed in the treatment liquid W1 for 3 for not longer than 30 hours.例文帳に追加

第一の洗浄工程２では、処理液Ｗ１は７０℃以上１５０℃以下の硝酸であり、処理液Ｗ１に粉砕物Ｓ１を３時間以上３０時間以下浸す。 - 特許庁

Since usefulness of hollow 52 as standards and shape for fixing continues to exist after first production process, hollow 52 is useful for inspection and repair after production.例文帳に追加

基準としておよび固定するための形状としてのくぼみ５２の有用性は、最初の製造処理を経ても存続するので、くぼみ５２は、製造後の検査や修理のために有用である。 - 特許庁

A removal process for allowing a portion of the first metal layer and the second metal layer 14 to remain on the semiconductor layer 12 and, on the other hand, removing the other portion from the semiconductor layer 12 is carried out.例文帳に追加

そして、第１および第２金属層１４の一部分を半導体層１２上に残存させる一方、他の部分を半導体層１２上から除去する除去工程を実施する。 - 特許庁

An aqueous reducing composition for the first step of a process to permanently reshape the hair, containing, in a cosmetically acceptable medium, one or more carboxydithiols as reducing agents is provided.例文帳に追加

化粧品的に許容可能な媒体中に、一又は複数のカルボキシジチオールを還元剤として含有する、毛髪のパーマネントリシェイプ施術の第一段階のための水性還元組成物。 - 特許庁

This method of manufacturing the recording head comprises a first etching process for etching a part 1a of the surface of a silicon substrate 1 in such a manner that a plurality of pillar like parts 1c are left therein.例文帳に追加

本発明の記録ヘッドの製造方法は、シリコン基板１の表面の一部１ａを、複数の柱状部分１ｃが残るようにエッチングする第１エッチング工程を備える。 - 特許庁

In first extracting process, the whole selected moving picture is regarded as an extraction range and the number preset as the extraction condition, for example, 20 frames are extracted from the extraction range.例文帳に追加

１回目の抽出処理では、選択された動画の全体を抽出範囲として、その中から抽出条件として予め設定された数、例えば２０個のコマが抽出される。 - 特許庁

The filter 2 is set inside a cleaning container 1 and pure steam is supplied into a cleaning container 1 from an inflow port 11 as the first cleaning process and passed through the filter 2.例文帳に追加

フィルタ２を洗浄容器１内部にセットし、第１の洗浄工程として洗浄容器１内にピュアスチームを流入口１１より供給し、該ピュアスチームをフィルタ２に流通させる。 - 特許庁

When the erasing process is started, the temperature of the pressure roller 7 is measured by a first temperature sensor 8, and the setting temperature of the heat roller is properly selected according to the temperature and the temperature control is conducted.例文帳に追加

消去処理が開始されると、まず、第１温度センサ８により加圧ローラ７の温度を測定し、その温度に応じてヒートローラの設定温度を適宜選択して温度制御を行う。 - 特許庁

In addition, the HO quality evaluation program makes the information processing device execute a process of evaluating a signal quality of the first and second wireless signals at the extracted HO point (S104).例文帳に追加

また、ＨＯ品質評価プログラムは、情報処理装置に、抽出されたＨＯ点の第１および第２の無線信号の信号品質を評価する処理を実行させる（Ｓ１０４）。 - 特許庁

When the game ball enters the first special symbol start hole 82a, lottery process for a jackpot and a small winning is performed so that the lottery mainly results in a lose.例文帳に追加

第１特別図柄始動口８２ａに遊技球が入球されたときには、ハズレが主に当選されるように、大当たり及び小当たりについての抽選処理が行われる。 - 特許庁

A measurement control means 58, to make the measurement mechanism 43 measure the positions of the measurement hole 49 and holes 31, 33 made by the plate material processing machine 1 of the first half process, is provided.例文帳に追加

その計測用の孔４９と前加工の板材加工機１で開けられた孔３１，３３の位置を計測手段４３に計測させる計測制御手段５８を設ける。 - 特許庁

In a first process, the wafer is moved by each one of the semiconductor elements with respect to the multi-probe card, so as to successively measure the plurality of semiconductor elements in a fixed area.例文帳に追加

上記ウェハをマルチプローブカードに対して第１工程では、上記半導体素子１個分ずつ移動させて一定のエリアの複数の半導体素子の測定を順次に行う。 - 特許庁

The preparing process for the crosslinkable hot melt adhesive composition comprises the microencapsulating of the crosslinkable component using a silanized polybutadiene and then the reacting for the first time of the reactive component in a hot melt substance on crosslinking.例文帳に追加

架橋成分をシラン化ポリブタジエンによりマイクロカプセル化し、反応性成分を溶融物中で初めて架橋下に反応させて、架橋性溶融接着剤組成物を製造する。 - 特許庁

A first plating layer 11a and a second plating layer 11b are formed on the previously molded slant part 11A-2 in the process step of manufacturing the planted character 11 which is the implanted material.例文帳に追加

植設材である植え字１１を製造する工程において、予め成形した斜面部１１Ａ−２上に第１メッキ層１１ａ及び第２メッキ層１１ｂを形成する。 - 特許庁

When image formation is carried out for a job in which a stapling process is set, sheet of transfer paper are shifted to the stacking position of a post-processing device from the first page of this job (step S10).例文帳に追加

ステープル処理が設定されたジョブについて画像形成が行われると、このジョブに含まれる最初のページから転写紙を後処理装置のスタック位置にシフトさせる（ステップＳ１０）。 - 特許庁

As for a working process, at first the upper die 10 and the lower die 17 move down while grasping a rod stock 4 thereby, then horizontal press working starts, and vertical press working starts afterwards.例文帳に追加

プレス加工方法はまず上型１０と下型１７とで棒材４をつかみながら下降し、次ぎに水平方向のプレス加工を開始し、その後垂直方向のプレス加工を開始する。 - 特許庁

A heat-absorbing water heat exchanger 3 is installed in the first heat exchanger in a heat source side (evaporation process), in the present invention, and a ventilating air heat exchanger 4 is connected in series to the second heat exchanger.例文帳に追加

本発明は熱源側（蒸発過程）の第１の熱交換器に吸熱用水熱交換器３を設置し、第２の熱交換器に換気用空気熱交換器４を直列に連結する。 - 特許庁

In the first process, the major diametric ends are coupled together where a bulkhead 13 is interposed in between, and center alignment is established by inserting an aligning shaft 21 into the bulkhead and the tapered paper tubes.例文帳に追加

第１工程においては、大径側端部をバルクヘッド１３を介在させて連結し、バルクヘッド及びテーパ紙管に芯出し用シャフト２１を挿入することでそれらの芯出しを行う。 - 特許庁

In the frequency adjusting process during manufacturing, at least a hole diameter of one of the first through holes 23 of the anode vanes 16 is enlarged for adjusting to the specified resonance frequency.例文帳に追加

そして、製造時の周波数調整工程において、陽極ベイン１６の第１の貫通孔２３の少なくとも１つを孔径を大きくして所定の共振周波数に調整する。 - 特許庁

To prevent a visible image formed as a first color one from being peeled at the time of forming a second color visible image in a color image forming device using liquid developer and adopting an IOI process.例文帳に追加

液体現像剤を用いＩＯＩプロセスを採用したカラー画像形成装置において、１色目に形成した可視像が、２色目の可視像形成時に剥離するのを防止する。 - 特許庁

It is preferable that all of the cationic exchange resin regenerable waste is mixed with the waste from the first half of the regeneration process which is equivalent to 1/3-2/3 of all of the anionic exchange resin regenerable waste.例文帳に追加

好ましくは、カチオン交換樹脂再生廃液の全量と、アニオン交換樹脂再生廃液の全量の１／３〜２／３に相当する再生行程前半部の廃液とを混合する。 - 特許庁

A state determining section compares a first correcting rate, which is a percentage of data subjected to correcting process in read data, with a state determination value and determines a state of the CD (S13).例文帳に追加

状態判定部は、読み取ったデータの中で訂正処理を行ったデータの占める割合である第１訂正率を状態判定値と比較しＣＤの状態を判断する（Ｓ１３）。 - 特許庁

This die is light transparent and the material packed therein in the second process is polymerized in the die by the effect of the light penetrating the first material.例文帳に追加

この成形型は光透過性であるとともに２番目の工程において充填された材質も第１の材質を貫通する光の作用によって成形型内において重合される。 - 特許庁

In this method, the metal plate segment Wa to be bent which is protruded from the metal plate W is fixed in the state that the segment Wa is protruded from between an upper die 21 and a lower die 22 in a first holding process.例文帳に追加

第１挟み過程で、板材Ｗから突出した曲げるべき板材片Ｗａを上型２１と下型２２との間から突出させた状態で固定する。 - 特許庁

In a first process using a primary shaping mold 8, resin molding is conducted to provide a primary molded protrusion 10 on the outside of a bundle 3 of electric wires set in the primary shaping mold 8.例文帳に追加

一次成形金型８を用いる第一工程においては、一次成形金型８の内部にセットした電線束３の外側に一次成形凸部１０を設ける樹脂成形を行う。 - 特許庁

Magnetic transfer is performed by using the magnetic recording medium 1 in the good initial magnetization process step that the magnetization directions of the first magnetic layer 3 and the second magnetic layer 5 are made counter-parallel.例文帳に追加

このようにして第一の磁性層３と第二の磁性層５の磁化方向が反平行となる良好な初期磁化状態の磁気記録媒体１を用いて磁気転写を行う。 - 特許庁

A distortion detector detects a distortion amount caused in the decoding process of the decoded audio signal by comparing the second auxiliary decoded audio information with the first auxiliary decoded audio information.例文帳に追加

歪み検出部は、第２の音声復号補助情報と第１の音声復号補助情報とを比較により、復号音声信号の復号過程で生じた歪み量を検出する。 - 特許庁

In addition, a second side wall composed of an oxidation-resistant film is formed to cover the first side wall, an extremely thin SiO_2 film is not formed in an Si interface in a succeeding process.例文帳に追加

さらに、第１のサイドウォールを覆うように耐酸化性膜からなる第２のサイドウォールが形成されるので、後の工程でＳｉ界面に極薄のＳｉＯ_2膜が形成されることはない。 - 特許庁

The second command issue section independent from the first command issue section is configured so that a command for directing a process without reading of data from the semiconductor memory can be issued into the semiconductor memory.例文帳に追加

第２コマンド発行部は、半導体メモリに第１コマンド発行部と独立して半導体メモリからのデータの読み出しを伴わない処理を指示するコマンドを発行可能に構成されている。 - 特許庁

In other methods of making an optical body, a reservoir of chiral material is provided during the process over a first cholesteric liquid crystal layer to diffuse into the layer and provide a non-uniform pitch.例文帳に追加

他の光学体形成方法では、処理中第１コレステリック液晶の上にキラル物質のリザーバを設け、キラル物質を層中に拡散させると共にピッチを不均等なものとする。 - 特許庁

To properly skip a pairing process in relation to an already-registered oppositely arranged apparatus even, if negotiations related to switching of a communication system is performed, using a first communication section.例文帳に追加

第１の通信部を用いて通信方式の切り替えに関するネゴシエーションをしても、すでに登録済みの対向機器に関してはペアリング処理を好適に省略することができる。 - 特許庁

The process cartridge 50A has a frame (drum frame 52) where a first opening (electrifying opening 52C) is formed on an opposite side to a photoreceptor (photoreceptor drum 53) while the electrifying part (electrifying wire 54) is interposed.例文帳に追加

プロセスカートリッジ５０Ａは、帯電部（帯電ワイヤ５４）を挟んで感光体（感光ドラム５３）とは反対側に第１開口（帯電開口部５２Ｃ）が形成されたフレーム（ドラムフレーム５２）を有する。 - 特許庁

Next, a first liquid injecting process is carried out which is for injecting electrolytic solution 100 into a hollow part 43 of the separator 41 to infiltrate the electrolytic solution 100 into the separator 41 and the cathode mixture 31.例文帳に追加

次に、セパレータ４１の中空部４３に電解液１００を注入してセパレータ４１及び正極合剤３１に電解液１００を浸潤させる第１注液工程を行う。 - 特許庁

With an object for treatment 10 with the ITO layer 12, the SiN layer 13, and a polyimide resin layer 14 exposed, respectively, halogen-content gas such as CF_4 is made in contact after being converted into plasma (a first process).例文帳に追加

ＩＴＯ層１２とＳｉＮ層１３とポリイミド樹脂層１４がそれぞれ露出した被処理物１０に、ＣＦ_４等のハロゲン含有ガスをプラズマ化して接触させる（第１工程）。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process for forming a first opening 11a on a substrate S by applying etching on Cr film blanks 10 forming a Cr film on the substrate S by using a Cr etching liquid.例文帳に追加

基板Ｓ上にＣｒ膜を形成したＣｒ膜ブランクス１０にＣｒエッチング液を用いるエッチングを施すことにより基板Ｓ上に第一開口１１ａを形成する工程する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of superposing a cathode C, a first separator S1, an anode A, and a second separator S2, in a long belt shape, respectively, in that order, and integrally winding them around.例文帳に追加

それぞれ長尺帯状の形状である、正極Ｃと、第１のセパレータＳ１と、負極Ａと、第２のセパレータＳ２をこの順で重ね合わせ、これらを一体に巻回する工程を含む。 - 特許庁

As a first means, a circulation pump which makes water in a water tub circulate directly or through the dehumidifier into the water tub is operated during a water draining after a washing process (S6 to S8).例文帳に追加

第１の手段として、洗い行程の後の排水中に、水槽内部の水を直接に又は除湿器を通して水槽内部に還流させる循環ポンプを作動させる（Ｓ６〜Ｓ８）。 - 特許庁

The friction between the first through hole 7 and the refrigerant tube 3 in assembling can be reduced, process failure of the refrigerant tube 3 can be reduced, and further manufacturing costs can be reduced.例文帳に追加

これにより、組立て時における第一貫通穴７と冷媒チューブ３の摩擦が軽減でき、冷媒チューブ３の工程不良を低減し、製造コストを低減することができる。 - 特許庁

Then, the insulation film between a semiconductor layer and a metal layer that the light receiving amplification circuit has or between first and second metal layers, and the insulation film of the phase compensation capacitor are formed by the same process.例文帳に追加

そして、受光アンプ回路が有する半導体層とメタル層間又は第１、第２メタル層間の絶縁膜と、位相補償キャパシタの絶縁膜を同じ工程で形成する。 - 特許庁

In a first process, wedge fastening is carried out in order to temporarily fix only the cartridge, and after that, the cutting insert is also fixed thereto by furthermore fastening the cartridge to the terminal end in the inside.例文帳に追加

第１の工程において、締め付けくさびは仮にカートリッジ(6) のみを固定するために締め付け、その後内側の末端の位置まで更に締め付けることにより切削インサートも固定する。 - 特許庁

In this process, collation conditions, that is, the security levels of collation carried out by the first means 44 and the second collation means 46 are varied each time, according to the time of collation and the like.例文帳に追加

その際、第１の照合手段44や第２の照合手段46が行なう照合の条件、すなわちセキュリティレベルが、例えば照合を受ける日時などによってその都度変更される。 - 特許庁

In order to form a bump electrode for a plurality of pads on which a wire is stitch-bonded, firstly a bump electrode is formed on one of a plurality of pads in a first process.例文帳に追加

複数のパッドについてバンプ電極を形成し、そのバンプ電極上にワイヤをステッチボンディングする場合に、まず、第１工程として、複数のパッドの１つにバンプ電極を形成する。 - 特許庁

In the process of calcining laminated electronic parts, the peripheral part 1a of the laminated body 1 is first sintered and then the inner part 1b and the inner electrode 2 are sintered.例文帳に追加

積層型電子部品の焼成工程において積層体１の外周部１ａを先に焼結させた後にその内部１ｂ及び内部電極２を焼結させるものとしたのである。 - 特許庁

Specifically, the manufacturing process is shortened and, accordingly, the manufacturing cost is reduced by anodically oxidizing a first metal 1 through a transparent electrode film 2 in an anodic oxidation step.例文帳に追加

その方法として、陽極酸化工程において透明電極膜２を通して第一の金属１の陽極酸化を行なうことで、製造工程を短縮化し、製造コストを低減できる。 - 特許庁

In a first heating process, a region where at least a channel region of a transistor is manufactured is completely crystallized under a temperature condition suitable for crystallization of the amorphous silicon film.例文帳に追加

１回目の加熱工程では、非晶質珪素膜の結晶化に適した温度条件によって、少なくともトランジスタのチャンネル領域が作製される領域を完全に結晶化させる。 - 特許庁