「First step」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

The first polycrystalline silicon film 31 and the second one 33 are alienated each other and the boundary (step section) between the first and second insulating films 30, 32 is exposed to the boundary section between the first and second polycrystalline silicon films 31, 33.例文帳に追加

第１の多結晶シリコン膜３１と第２の多結晶シリコン膜３３とは、互いに離間し、その境界には、第１の絶縁膜３０と第２の絶縁膜３２との境界（段差部分）が露出している。 - 特許庁

The manufacturing method of the laminate is equipped with a first step wherein a first metal layer 10 is coated with a solution containing a liquid crystalline polymer to form a liquid crystalline polymer layer 20, a second step wherein a second metal layer larger in thickness than the first metal layer is arranged on the liquid crystalline polymer layer to obtain a laminate, and a third step of pressing the laminate in the lamination direction.例文帳に追加

積層体の製造方法は、第１の金属層１０上に、液晶ポリマーを含む溶液を塗布して、液晶ポリマー層２０を形成する第１工程と、液晶ポリマー層上に、第１の金属層よりも厚さが大きい第２の金属層を配置して積層体を得る第２工程と、積層体を、積層方向にプレスする第３工程とを備える。 - 特許庁

This method for manufacturing of a semiconductor device includes: a first step of carrying a silicon substrate into a processing chamber; a second step of supplying at least a first silane-based gas and a first etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate; and a third step of supplying at least a second silane-based gas and a second etching gas into the processing chamber while heating the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を処理室内に搬入する第一のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第一のシラン系ガスと第一のエッチングガスを供給する第二のステップと、前記シリコン基板を加熱しつつ、前記処理室内に少なくとも第二のシラン系ガスと第二のエッチングガスを供給する第三のステップと、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the thermion emission element includes a first step in which a base plate is provided, a second step in which a first electrode and a second electrode are arranged on the base plate, and a third step in which a carbon nanotube structural body is arranged so that it covers one of surfaces of the first electrode and the second electrode, separated with a predetermined distance from the base plate.例文帳に追加

本発明の熱電子放出素子の製造方法は、基板を提供する第一ステップと、前記基板に第一電極及び第二電極を設置する第二ステップと、前記基板と所定の距離だけで分離させて、前記第一電極及び第二電極の一つの表面を被覆するように、カーボンナノチューブ構造体を設置する第三ステップと、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a vertical cavity optical device comprises a step for forming a first vertical cavity optical device partially on a wafer, a step for fixing the laser oscillation wavelength of the first vertical cavity optical device, and a step for completing the first vertical cavity optical device by fixing the laser oscillation wavelength thereof.例文帳に追加

本発明は、垂直空洞光デバイスとその製造方法を提供するものであり、この方法には、ウエハ上に第１垂直空洞光デバイスを部分的に形成するステップと、この第１垂直空洞光デバイスのレーザー発振波長を固定するステップと、第１垂直空洞光デバイスのレーザー発振波長を固定してその形成を完了させるステップと、が含まれる。 - 特許庁

The method for producing a cellulose nanofiber includes: a first oxidation step in which cellulose is oxidized in a first reaction solution including an oxidizing agent including a hypohalous acid, and an N-oxyl compound; and a second oxidation step in which the oxidized cellulose obtained in the first oxidation step is oxidized in a second reaction solution including an oxidizing agent which oxidizes an aldehyde group.例文帳に追加

本発明のセルロースナノファイバーの製造方法は、セルロースを、次亜ハロゲン酸を含む酸化剤とＮ−オキシル化合物とを含む第１の反応溶液中で酸化させる第１の酸化工程と、前記第１の酸化工程で得られた酸化セルロースを、アルデヒド基を酸化する酸化剤を含む第２の反応溶液中で酸化させる第２の酸化工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A manufacturing method for a semiconductor device that provides wiring on a semiconductor substrate and forms final protective films on the wiring has a step to form a first protective film on the wiring, a step to form a second protective film having a tensile stress on the first protective film, and a step to eliminate the first protective film and the second protective film at a contact region of the wiring.例文帳に追加

半導体基板上に配線を設け、該配線上に最終保護膜を形成する半導体素子の製造方法において、前記配線上に第１保護膜を形成する工程と、前記第１保護膜上に、引張応力を有する第２保護膜を形成する工程と、前記配線のコンタクト領域の前記第１保護膜、及び前記第２保護膜を除去する工程とを有する。 - 特許庁

A manufacturing method of an electrooptical apparatus has a step for dropping an electrooptical substance in an electrooptical substance packing region partitioned by a sealant formed on a first substrate; a step for cooling the first substrate when the electrooptical substance is dropped; and a step for sticking a second substrate to the first substrate on which the electrooptical substance have been dropped.例文帳に追加

第１の基板上に形成されたシール材によって区画された電気光学物質充填領域に、電気光学物質を滴下する工程と、前記電気光学物質の滴下に際して前記第１の基板を冷却する工程と、前記電気光学物質が滴下された第１の基板に第２の基板を貼り合わせる工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a step of forming a first groove 110 and a second groove 120 crossing the first groove 110 on a substrate 100; a step of burying a film 200 in the first groove 110 and the second groove 120 by performing film formation processing on the substrate 100; and a step of removing the film 200 located on the substrate 100.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、基板１００に第１の溝１１０及び第１の溝１１０と交差する第２の溝１２０を形成する工程と、基板１００に対して成膜処理を行うことにより、第１の溝１１０内及び第２の溝１２０内に膜２００を埋め込む工程と、基板１００上に位置する膜２００を除去する工程とを備える。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device comprises: a first step of growing a layer constituting the second semiconductor layer on the first semiconductor layer; a second step of ion-injecting a first-conductivity-type impurity into the entire surface of the layer; and a third step of selectively ion-injecting a second-conductivity-type impurity into portions to be the second semiconductor regions of the layer.例文帳に追加

そして、その製造方法は、前記第１半導体層の上に前記第２半導体層を構成する層を成長する第１の工程と、前記層の全面に第１導電形の不純物をイオン注入する第２の工程と、前記層の前記第２半導体領域となる部分に第２導電形の不純物を選択的にイオン注入する第３の工程と、を備える。 - 特許庁

The system has a first process step of selectively exposing the adhesive layers changed in adhesive strength by photoirradiation, a second process step of bringing the selectively exposed adhesive layers into contact with a thin-film element array existing on a first substrate, and a third process step of selectively transferring portions of the thin-film elements from the first substrate to the selectively exposed adhesive layers according to exposure patterns.例文帳に追加

光照射により接着力が変化する接着層を選択的に露光する第１の工程と、前記選択露光した接着層を第１の基体上にある薄膜素子アレイに接触させる第２の工程と、前記薄膜素子の一部を前記第１の基体から前記選択露光した接着層上に露光パターンに応じて選択的に移す第３の工程を有している。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device having multilayer wiring including a fuse formed on a semiconductor substrate comprises a step of forming a first wiring layer as a part of the fuse, a step of forming a second wiring layer having higher electromigration (EM) than that of the first wiring layer, and a step of melting the first wiring layer.例文帳に追加

半導体製造装置の製造方法であって、半導体基板に形成されたヒューズを含む多層配線を有する半導体装置の製造方法であって第１の配線層をヒューズの一部として形成する工程と、前記第１の配線層よりもエレクトロマイグレーション（ＥＭ）の高い第２の配線層を形成する工程と、前記第１の配線層を溶断する工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the molding material comprises the first step; a stranding step where the component (A) is molten and subsequently a continuous component (B) is caused to pass therethrough thereby to give a continuous strand, and the second step; a cutting step where the continuous strand is cooled and subsequently cut to give a pillar-shaped molding material.例文帳に追加

また、成形材料の製造方法は、第１工程：成分（Ａ）を溶融させた後、その中に連続した成分（Ｂ）を通過せしめ、連続したストランドを得るストランド化工程、第２工程：連続したストランドを冷却した後、切断して柱状の成形材料を得る切断工程かからなる製造方法である。 - 特許庁

The washing system for this washing machine is constitute of a first rinsing process (step S103) in which dehydrating motion (steps S104) and water feeding motion (step S105) are alternately executed and a second rinsing process (step S108) in which water feeding motion (step S111) and other motions are executed when the revolution of a spinning tub 12 reaches a prescribed number of revolution.例文帳に追加

脱水動作（ステップＳ１０４）と給水動作（ステップＳ１０５）とを交互に行うような第１の濯ぎ行程（ステップＳ１０３）、洗濯兼脱水槽１２が所定回転数に達した時点で給水動作（ステップＳ１１１）実行したり、その他の動作を実行する第２の濯ぎ行程（ステップＳ１０８）からシステム構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step for forming a first resin part 20 in the center on the surface of the semiconductor substrate 10 where the electrode 14 is formed, a step for forming a second resin part 25 to overlap the surrounding member 16, a step for etching the electrode 14, and a step for forming wiring 30.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板１０の電極１４が形成された面の中央部に第１の樹脂部２０を形成すること、囲繞部材１６とオーバーラップするように第２の樹脂部２５を形成すること、その後、電極１４をエッチングすること、及び、配線３０を形成することを含む。 - 特許庁

A work as an object of processing is exposed to a processing fluid containing an etching reactant so as to undergo an etching treatment (a third step S3, a fourth step S4), and thereafter a processing chamber is reduced in internal pressure so as to make the processing fluid near the work lower in density than that at the fourth step S4 (a first step S1).例文帳に追加

エッチング反応種を含有する処理流体に被処理物を晒すことにより、当該被処理物のエッチング処理を行い（第３ステップＳ３、第４ステップＳ４）、その後、処理室内を減圧することにより、被処理物の近傍における処理流体の密度を第４ステップＳ４よりも低下させる（第１ステップＳ１）。 - 特許庁

This method for manufacturing high purity colloidal silica comprises the first step to obtain silica aqueous solution by subjecting water glass to cation exchange treatment, the second step to add an acid and hydrogen peroxide to the obtained silica aqueous solution, which is then subjected to cation exchange treatment again and the third step to mix the silica aqueous solution obtained by the second step with ammono alkali, which is then formed into colloidal silica.例文帳に追加

水ガラスを陽イオン交換処理してシリカ水溶液を得る第１工程と、得られたシリカ水溶液に酸および過酸化水素を添加して再度陽イオン交換処理を行う第２工程と、前工程で得られたシリカ水溶液をアンモニア性アルカリと混合し、これをコロイダルシリカ化する第３工程と、を含む。 - 特許庁

In change-over from a first target input rotating speed map into a second target input rotating speed map (Step S7), when the reduced amount of the target input shaft rotating speed NED is great (Step S8) and an absolute value for a difference rotating speed SNDR is great (Step S9), [1] is set in FlgA (Step S10).例文帳に追加

第１目標入力回転数マップから第２目標入力回転数マップに切り換わったときに（ステップＳ７）、目標インプットシャフト回転数ＮＥＤの下降量が大きく（ステップＳ８）、かつ差回転数ＳＮＤＲの絶対値が大きいとき（ステップＳ９）にＦｌｇＡに「１」を設定する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

Each communication equipment Pi broadcasts public data Z_i generated from an expression (1) as a first step, broadcasts public data X_i generated from an expression (2) as a second step, broadcasts public data Y_i generated from an expression (3) as a third step, and generates a common key K from an expression (4) as a fourth step.例文帳に追加

そして、各通信装置Ｐiは、第１段階として、式（１）から生成した公開データＺiをブロードキャストし、第２段階として、式（２）から生成した公開データＸiをブロードキャストし、第３段階として、式（３）から生成した公開データＹiをブロードキャストし、第４段階として、式（４）から共通鍵Ｋを生成する。 - 特許庁

The step for forming the silicon-containing resin layer includes: a step for spin-coating a silicon-containing resin solution; a step for heating the silicon-containing resin layer 13 to a first temperature; and a step for spin-coating a rinsing solution 14 containing a volatile component on an outer edge 13e1 of the silicon-containing resin layer 13.例文帳に追加

シリコン含有樹脂層形成工程は、シリコン含有樹脂溶液を回転塗布する工程と、シリコン含有樹脂層１３を第１の温度まで加熱する工程と、シリコン含有樹脂層１３の外縁部１３ｅ１に揮発性成分を有するリンス液１４を回転塗布する工程とを有する。 - 特許庁

The calibration includes a step for adjusting a size of the iris opening between a first opening position and a second opening position, a step for recording a plurality of images during the adjusting, a step for analyzing the images, and a step for determining an iris opening, based on the analysis, that obtains a high quality image.例文帳に追加

第一の開口部の位置と第二の開口部の位置との間の絞り開口部のサイズを調整する段階、前記調整の間に複数の画像を記録する段階、前記画像を分析する段階、および高品質な画像が得られる絞り開口部を前記分析に基づき決定する段階を含むキャリブレーションとする。 - 特許庁

This method for producing the para-type whole aromatic polyamide fiber consisting of the multifilament having the large single fiber fineness comprises controlling the width of the fiber bundle on passing through water-washing step, and, setting the heat stretching step of a first step in a specific temperature range and at a stretching magnitude of a specific stretching magnitude or more in a heat-stretching step consisting of multiple steps.例文帳に追加

単糸繊度の大きい多フィラメントからなるパラ型全芳香族ポリアミド繊維を製造するにあたり、水洗工程を通過する際の繊維束の幅を制御し、多段からなる熱延伸工程において、第１段目の熱延伸工程を、特定温度範囲で特定倍率以上の延伸倍率とする。 - 特許庁

The step (a) includes a step (c) for forming base layers 7a and 7b from the same film as a first color filter 7 and the heights of the plurality of columnar spacers 11a and 11b formed in the step (b) are controlled by adjusting areas and/or shapes of the base layers 7a and 7b formed in the step (c).例文帳に追加

工程（ａ）は、第１のカラーフィルタ７と同一の膜から下地層７ａ、７ｂを形成する工程（ｃ）を包含し、工程（ｃ）において形成される下地層７ａ、７ｂの面積および／または形状を調整することによって、工程（ｂ）において形成される複数の柱状スペーサ１１ａ、１１ｂの高さを制御する。 - 特許庁

A first method consists of a step of continuously reading bits constituting a data set from the different parts of the disk, a step of continuously correcting bit errors to confirm at least part of data read from the disk, and a step of finishing the reading when the confirmation of the data set is successfully made in the error correcting step.例文帳に追加

第１の方法は、ディスクの異なる部分から、データセットを形成するビットを連続的に読み出すステップと、ビットを連続的に誤り訂正して、ディスクから読み出されるデータの少なくとも一部を確認するステップと、誤り訂正ステップによってデータ・セットの確認に成功すると読出しを終了するステップとから成る。 - 特許庁

The high-performance thermoelectric conversion material is manufactured by a manufacturing method including a first step of weighing a raw material, a second step of fusing the weighed material to obtain an ingot material, a third step of powdering the ingot material to obtain a sintering material, and a fourth step of pressing and heating the sintering material to obtain a sintered body.例文帳に追加

該高性能熱電変換材料は、原料を秤量する第一工程、秤量した原料を溶解し溶製材を得る第二工程、溶製材を粉化し焼結原料を得る第三工程、焼結原料を加圧・加熱し焼結体を得る第四工程を含む製造方法により製造される。 - 特許庁

The multilayered BSP removing method for removing multilayered bevel/backside polymer (BSP) with an inorganic or organic layer deposited on a bevel surface of a treatment substrate and a rear surface thereof includes a first step (step 2) of mechanically destroying multilayered BSP and a second step (step 3) of heating a residue of the multilayered BSP which is mechanically destroyed.例文帳に追加

被処理基板のベベル面、及び裏面に付着した無機層、及び有機層を含む多層ベベル／バックサイドポリマー（ＢＳＰ）を除去するＢＳＰ除去方法であって、多層ＢＳＰを機械的に破壊する第１工程（ステップ２）と、機械的に破壊された多層ＢＳＰの残渣を加熱する第２工程（ステップ３）と、を具備する。 - 特許庁

The process includes: a preparation step of slurring a rubber, municipal sludge, and food-processing wastes; a first reaction step of generating a solid and a liquid; a step of separating the resultant reaction product; and a second reaction step of converting the liquid product into the carbon solids and a hydrocarbon mixture containing fuel gas and oil.例文帳に追加

ゴム、都市下水汚泥、食品加工廃棄物などをスラリー化する前処理工程、固体および液体を生成する第１の反応工程、その反応生成物を分離する工程、そして液体生成物を炭素固体、燃料ガスおよび油を含む炭化水素混合物へと変換する第２の反応工程と装置とからなる。 - 特許庁

This control method includes a step of measuring a battery voltage periodically at battery a step of counting stepwise fluctuation of the voltage of the battery that is measured, a step of differentiating the stepwise fluctuation of the voltage that is counted with respect to time, and a step of detecting a first peak point from the differential values.例文帳に追加

バッテリーの充／放電時に、バッテリー電圧を一定の時間間隔で測定する段階と、前記測定されるバッテリーの段階別電圧の変動をカウントする段階と、前記カウントされた段階別電圧の変動を時間に対して微分する段階と、前記微分値から一番目のピークポイントを検出する段階とを含む。 - 特許庁

The magnetic layer coating liquid is prepared by subjecting a ferromagnetic hexagonal ferrite powder with an average plate diameter of 10 to 50 nm to a dry comminution step, subjecting the ferromagnetic hexagonal ferrite powder to a first dispersion step together with a binder to prepare a dispersion liquid, and sequentially subjecting the dispersion liquid obtained to a second dispersion step and a filtering step.例文帳に追加

前記磁性層形成用塗布液を、平均板径１０〜５０ｎｍの強磁性六方晶フェライトを乾式解砕工程に付し、得られた強磁性六方晶フェライトを前記結合剤とともに第一分散工程に付し、次いで得られた分散液を第二分散工程および濾過工程に順次付すことにより調製する。 - 特許庁

A first step-up notice performance includes: a main step-up notice capable of executing notice performances A-D that change gradually; and a button branching step-up notice performance which branches into the notice performances E and F without changing to the notice performance C of the next stage in a stage in the middle of executing the main step-up notice.例文帳に追加

第１ステップアップ予告演出は、段階的に変化する予告演出Ａ〜Ｄを実行可能なメインステップアップ予告と、メインステップアップ予告が実行されている途中の段階で次段階の予告演出Ｃに変化させずに予告演出Ｅ，Ｆに分岐するボタン分岐ステップアップ予告演出とを含む。 - 特許庁

The moisture amount of the laundry is calculated from the detected weight of the second weight detection (step S6) and the detected weight of the first weight detection (step S1), and the calculated moisture amount is subtracted from the detected weight of the third weight detection (step S10) to attain corrected weight (step S11).例文帳に追加

第２回の重量検知（ステップＳ６）の検知重量と第１回の重量検知（ステップＳ１）の検知重量とから洗濯物の水分量を算出し、この算出した水分量を第３回の重量検知（ステップＳ１０）の検知重量から減算して補正重量とする（ステップＳ１１）。 - 特許庁

The method for producing the composition having the collagen production-promoting activity from the alcoholic beverage fermented by the beer yeast comprises a first step for removing carbon dioxide gas, a second step for removing alcohol, a third step for removing polysaccharides and proteins, and a fourth step for carrying out the purification by an ion-exchange resin.例文帳に追加

炭酸ガスを除去する第１の工程と、アルコールを除去する第２の工程と、多糖及びタンパク質を除去する第３の工程と、イオン交換樹脂により精製する第４の工程とを備える、ビール酵母で発酵させたアルコール飲料からコラーゲン産生促進作用を有する組成物を製造する方法。 - 特許庁

The support system comprises a first step for monitoring the service state of the vehicle, a second step for detecting a required service based on the service state of the vehicle, a third step for detecting the position data of the vehicle, and a fourth step for detecting the service body for providing the service concerned based on the required service and position data of the vehicle.例文帳に追加

車両の運行状態を監視する第１ステップと、車両の運行状態に基づき必要サービスを検出する第２ステップと、車両の位置データを検出する第３ステップと、車両の必要サービス及び位置データに基づき当該サービスを提供し得るサービス体を検出する第４ステップと、を含む。 - 特許庁

Subsequently, in the step S5, a still-standing treatment for forming a second emulsion by allowing the first emulsion to stand still at least 5 min is carried out.例文帳に追加

また、ステップＳ５において、第１エマルジョンを５分以上静置して、第２エマルジョンを生成する静置処理を実行する。 - 特許庁

In this case, it is informed to image processing apparatuses ranked second or less that the first-ranked apparatus itself will replace the function of the server hereafter (step S45).例文帳に追加

この場合は、自機がサーバの機能を以後代行することを順位２位以下の画像処理装置に報知する（ステップＳ４５）。 - 特許庁

After finishing the water sprinkling in the location of the second flowerpot, this self-traveling cleaner returns to a standby position in the first corridor in a Step S462.例文帳に追加

二つめの植木鉢の所在地での散水が終了したら、ステップＳ４６２にて最初の廊下での待機位置へと戻る。 - 特許庁

In an operation state determination step, it is determined whether or not the player operates a first object by using the pointing device.例文帳に追加

また、操作状態判別ステップにて、プレイヤがポインティングデバイスを用いて第１のオブジェクトを操作中であるか否かを判別する。 - 特許庁

ECU 10 starts pre-assist on the electric motor 5 when first step-in quantity is detected by an accelerator position sensor 11.例文帳に追加

ＥＣＵ１０は、アクセルポジションセンサ１１によって第一踏み込み量が検出された際に、電動モータ５にプレアシストを開始させる。 - 特許庁

The first transistor Q1 is turned off only for a predetermined time by the second step part S2 when starting power supply from the power supply terminal.例文帳に追加

第１のトランジスタＱ１は、電源端子からの給電開始時に、第２段部Ｓ２により所定時間だけターンオフされる。 - 特許庁

When the position registration is required, the mobile communication terminal executes the processing to make the position registration for the first communication system (step S5).例文帳に追加

位置登録が必要な場合、第１の通信方式向けの位置登録を行うための処理が実行される（ステップＳ５）。 - 特許庁

Based on evaluation results on steps of first and second players, the number of step timing to be guided is varied.例文帳に追加

第１及び第２プレイヤのそれぞれのステップに対する評価結果に基づき、案内されるステップタイミングの数を変化させる。 - 特許庁

A mark candidate in the observing region is extracted from the distribution of the first feature quantity obtained as above (step 146).例文帳に追加

こうして求められた第１の特徴量の分布から観察領域内におけるマーク候補を抽出する（ステップ１４６）。 - 特許庁

When an output request for the first information is received, the second document information substituted in step S405 is outputted.例文帳に追加

第１の情報に対して出力要求があった場合には、ステップＳ４０５で置換した第２の文書情報を出力する。 - 特許庁

The third front-stage ejector 5 and the first capacitor 6 function as venturi scrubbers in the decarburizing step, thereby efficiently removing dust and preventing dust from being attached and deposited on inner surfaces of the ejectors 7 and 8 and the second capacitor 9.例文帳に追加

その結果、エゼクター７，８や第２コンデンサ９の内面に粉塵が付着堆積することを防止できる。 - 特許庁