「Fluorine processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result of this, the fluorine-based inert liquid is located under the hydrofluoric acid aqueous solution in a state of a tank 91 for recovering these processing liquids, and moreover, they are stored under a completely separated state.例文帳に追加

このため、これらの処理液を回収するタンク９１では、フッ素系不活性液体がフッ酸水溶液の下に位置し、しかも完全に分離した状態で貯溜される。 - 特許庁

To etch silicon at a high etching rate when a processing gas containing a fluorine containing compound gas is changed into plasma and a part made of silicon of a substrate to be treated is subjected to etching by the plasma.例文帳に追加

フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスをプラズマ化し、そのプラズマにより被処理基板のシリコン部分をプラズマエッチングするにあたって、高いエッチングレートでシリコンをエッチングすること。 - 特許庁

The processing includes the preparation of etchant containing both of a fluorine compound and a chlorine compound and the application to the semiconductor device of the etchant in a wet washing process.例文帳に追加

この処理は、フッ素化合物と塩素化合物の両方を含むエッチング液を用意することと、ウエット洗浄工程においてこのエッチング液を半導体デバイスに適用することとを含む。 - 特許庁

To provide a material having excellent characteristics as the microwave transmission window of a plasma processing equipment similar to quartz glass on one hand and especially possessing corrosion resistance to fluorine- containing plasma on the other hand.例文帳に追加

プラズマ処理装置のマイクロ波透過窓として石英ガラスと同様の優れた特性を有する一方、特にフッ素を含むプラズマに対する耐食性を備える材料を提供する。 - 特許庁

The method comprises a process of forming a layer doped with fluorine on the surface of a glass material, and a process for immersing the glass material in an etching liquid and processing.例文帳に追加

ガラス材料表面に予めフッ素をドープした層を形成する工程と、そのガラス材料をエッチング液に浸漬して加工する工程とを具備することを特徴とするガラス加工方法。 - 特許庁

As shown in Fig.1(b), and Figs.2(a) and (b) (and not shown here), fluorine resin processing 45 is applied to a surface of the stepped portion 44 and a surface of an end in the vicinity of the stepped portion 44 of the inclined portion 43.例文帳に追加

この段差部４４表面および傾斜部４３の段差部４４近傍の端部表面は、図１（ｂ）および図２（ａ），（ｂ）に示すように、フッ素樹脂４５加工が施されている。 - 特許庁

An LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) device 1 is provided with: a processing chamber 11; and a reaction cooling means 25 which is arranged outside the processing chamber 11, produces hydrogen fluoride gas by reacting hydrogen gas with fluorine gas, and cools the hydrogen fluoride gas.例文帳に追加

ＬＰＣＶＤ装置１において、処理チャンバー１１を設け、処理チャンバー１１の外部に配置され、水素ガスとフッ素ガスとを反応させてフッ化水素ガスを生成すると共に、このフッ化水素ガスを冷却する反応冷却手段２５を設ける。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus that dry a substrate surface by removing a solvent consisting principally of a fluorine-based solvent from the substrate surface, the drying performance being enhanced by preventing a drop of water from sticking on the substrate surface.例文帳に追加

フッ素系溶剤を主成分とする溶剤を基板表面から除去して当該基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、基板表面に水滴が付着するのを防止して乾燥性能を高める。 - 特許庁

To provide a water processing device for a fuel cell processing the water collected from the fuel cell by an electric deionization apparatus improved so as to sufficiently remove fluorine flown into the electric deionization apparatus.例文帳に追加

燃料電池からの回収水を電気脱イオン装置によって処理する燃料電池用水処理装置において、電気脱イオン装置に流入する水からフッ素を十分に除去するよう改良された燃料電池用水処理装置を提供する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus 400 and the method of cleaning the substrate processing chamber 410, the lift pin 440 is made to go down without a substrate 10s; and fluorine radical is generated inside of the substrate processing chamber 410 in a state that the hole 433 for inserting the lift pin is sealed with a head 443 of the lift pin 440.例文帳に追加

基板処理装置４００および基板処理室４１０のクリーニング方法では、基板１０ｓが無い状態でリフトピン４４０を下降させ、リフトピン挿通用穴部４３３をリフトピン４４０の頭部４４３によって塞いだ状態で、基板処理室４１０の内部にフッ素ラジカルを発生させる。 - 特許庁

The SiCO film for example is formed on a fluorine-added carbon film by subjecting a surface of the fluorine-added carbon film on a semiconductor wafer to a nitriding processing, by exposing the same to a plasma atmosphere obtained by making nitrogen gas plasma and then exposing the semiconductor wafer to plasma obtained by making triethylsilane gas and oxygen gas for example plasma.例文帳に追加

半導体ウエハ上のフッ素添加カーボン膜の表面部を、窒素ガスをプラズマ化して得られるプラズマ雰囲気に曝すことにより窒化処理し、次いで半導体ウエハを例えばトリメチルシランガス及び酸素ガスをプラズマ化して得られるプラズマに曝すことによりフッ素添加カーボン膜の上に例えばＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

A piezoelectric element piece used for this application has a water-repellent treated film formed by a spray or dipping method using a fluoride paint, or formed by a reduced or atmospheric pressure plasma processing method using a gas containing fluorine or fluorine compound so as to surround an adhesive surface fixed to a plug.例文帳に追加

プラグに固定される接着面を囲むように、フッ化物系塗料をスプレー法またはディッピング法により撥水処理膜が形成、あるいは、フッ素またはフッ素化合物を含んだガスを用いて減圧プラズマ処理法または大気圧プラズマ処理法により撥水処理膜が形成された圧電素子片を用いる。 - 特許庁

The insulating film processing device 34 while forming a water-free dry atmosphere in a processing container produces plasma from krypton gas and causes the plasma to collide against the surface of the substrate W to remove fluorine atoms exposed in the surface of the CF insulating film.例文帳に追加

絶縁膜処理装置３４では，処理容器内を水分を含まない乾燥雰囲気に維持しながら，クリプトンガスからプラズマを生成し，当該プラズマを基板Ｗの表面に衝突させて，ＣＦ絶縁膜の表面に露出しているフッ素原子を離脱させる。 - 特許庁

The excellent water and oil repellent property is obtained by low temperature processing of a water dispersed type fluorine water and oil repellent agent by addition of an organic polyvalent metal compound as a cross-linking agent or a cross-linking accelerator.例文帳に追加

水分散型フッ素系撥水撥油剤に、架橋剤又は架橋促進剤として、有機多価金属化合物を添加することにより、低温加工処理で優れた撥水撥油性を得ることができた。 - 特許庁

To provide a water-resistant/oil-resistant cellulose substantially composed of only cellulose without carrying out lamination with a synthetic polymer film, coating with a fluorine/silicon-based chemical, etc., use of a sizing agent and resin processing, etc.例文帳に追加

合成高分子フィルムでのラミネート、フッ素・シリコン系薬剤等でのコーティング、サイズ剤の使用、樹脂加工等を施さないで、実質的にセルロースのみからなる耐水・耐油性セルロースを提供すること。 - 特許庁

To provide a water-dispersive type fluorine-containing copolymer composition excellent in emulsification stability of the composition and in permeation to fiber at processing of the fiber, especially capable of giving excellent oil repellency to cotton and cotton blend.例文帳に追加

組成物の乳化安定性に優れ、繊維加工時の繊維への浸透性に優れ、特に綿および綿混紡に優れた撥油性を付与できる水分散型含フッ素共重合体組成物の提供。 - 特許庁

A hydrophobic organic high polymer film, comprising a polyimide resin film containing a fluorine atom is formed on the surface of a member 1 exposed to vacuum in a vacuum processing chamber by deposition polymerization reaction.例文帳に追加

真空処理室の真空中に露出される部材１の表面に、フッ素原子を含有するポリイミド樹脂膜から成る疎水性有機高分子膜を蒸着重合反応により形成する。 - 特許庁

The chlorine is removed by applying the wet processing to crude zinc oxide recovered by volatilization in a reducing roasting furnace and the remaining chlorine, fluorine and lead are volatilized by applying the heat treatment with a drying-heating furnace.例文帳に追加

還元焙焼炉内で揮発させて回収した粗酸化亜鉛に湿式処理を施して塩素を除去し、乾燥加熱炉で熱処理することにより、残留する塩素、フッ素、及び鉛を揮発させる。 - 特許庁

In the method of processing the diamond base surface, by exposing the surface of the diamond base to a plasma comprised of a mixed gas of hydrogen and fluorine sulfide (SF_6), the surface conductivity hole areal density of the diamond base is enhanced to 8×10^13/cm^2 or more.例文帳に追加

ダイヤモンド基板の表面を水素と硫化フッ素（ＳＦ_６ ）の混合ガスでなるプラズマに曝して、ダイヤモンド基板の表面伝導ホール面密度を８×１０^１３／ｃｍ^２ 以上に高める。 - 特許庁

The system for fabricating an electronic device comprises a processing chamber employing a fluorine based gas for removing an insulating film between interconnect line layers and oxides on the contact surface of a semiconductor, a conveyor for conveying the semiconductor in order to remove fluorine remaining on the contact surface after the insulating film is removed, equipment for heat treating the semiconductor, and a system performing hydrogen based plasma processing of the semiconductor.例文帳に追加

半導体のコンタクト表面の配線層間絶縁膜と酸化物を除去するためのフッ素系ガスを用いた処理チャンバと、絶縁膜を除去した後、コンタクト表面に残留するフッ素を除去するために前記半導体を搬送する搬送装置と、前記半導体を加熱処理するための加熱処理装置と、前記半導体を水素系のプラズマ処理をするためのプラズマ処理装置を用いる。 - 特許庁

The impurity reducing method includes a step of supplying two kinds of gas selected out of hydrogen, oxygen, chlorine, and fluorine into a processing chamber 201, and a step of exposing a quartz member 278 in the processing chamber 201 to gas activated with plasma in a low-temperature atmosphere.例文帳に追加

本発明の不純物低減方法は、水素、酸素、塩素及びフッ素から選択される少なくとも２種類の気体を処理室２０１内に供給する工程と、プラズマにより活性化した気体を低温雰囲気にて処理室２０１内の石英部材２７８に曝す工程とを有する。 - 特許庁

On a surface layer t of an organic material which has a bonding of carbon and hydrogen formed on a figure of component (e.g., shield ring) located in a processing room of a plasma processing apparatus, a surface fluorination treatment, which replaces hydrogen bound with carbon contained in the surface layer with fluorine, is performed.例文帳に追加

プラズマ処理装置における処理室内に配設される部品（例えばシールドリング）の形状に形成された炭素と水素の結合を有する有機材料の表面層ｔに，この表面層に含まれる炭素に結合されている水素をフッ素に置換する表面フッ素化処理を施す。 - 特許庁

In this etching method, since fluorine-based gas plasma is generated on a processing workpiece 10 to form, in advance, a fluorine compound thin film on a copper thin film (e.g., a source electrode 21 and a drain electrode 22) exposed in an electrode groove 18, the copper thin film can be prevented from corrosion in etching a silicon layer 17 with halogen gas plasma.例文帳に追加

本発明では処理対象物１０上でフッ素系ガスのプラズマを発生させ、電極溝１８内に露出する銅薄膜（例えばソース電極２１、ドレイン電極２２）にフッ素化合物薄膜を予め形成しておくので、ハロゲンガスのプラズマでシリコン層１７をエッチングする際に、銅薄膜がハロゲンガスのプラズマで腐食されない。 - 特許庁

When at least a pad opening in response to the metal wiring is formed on the protective film, a processing step including a dry etching step is conducted with fluorine gas and is finished before the metal wiring is exposed (S2).例文帳に追加

次に、保護膜上に対し少なくとも上記金属配線に応じたパッド開口部を形成する際、フッ素系のガスによるドライエッチング工程を含む加工工程を経るが、金属配線露出前に終了させる（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus where maintenance can easily be performed without damaging adhesiveness of a substrate supporter and a heater even when a chamber is cleaned with gas containing a fluorine element.例文帳に追加

フッ素元素を含有するガスにより、チャンバクリーニングが実施される場合であっても、基板支持部と加熱部の密着性が損なわれることがなく、かつ、容易にメンテナンスを行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Successively, an etching gas containing a fluorine-based reaction component and an oxidative reaction component is brought into contact with a surface of the object 9 to be processed in a processing space 19 on a downstream side on the conveyance path 11 and a semiconductor film 94 is dry etched.例文帳に追加

続いて、搬送経路１１の下流側の処理空間１９において、フッ素系反応成分及び酸化性反応成分を含むエッチングガスを被処理物９の表面に接触させ、半導体膜９４をドライエッチングする。 - 特許庁

To remove a deposited foreign matter 106 consisting of a metal fluoride generated at the time of performing processing such as etching by a fluorine-based gas on a metal film containing titanium such as TiN film 103 in a manufacturing process of an electronic device.例文帳に追加

電子デバイスの製造工程において、ＴｉＮ膜１０３等のチタンを含む金属膜に対してフッ素系ガスによってエッチング等の加工をした際に発生する、金属フッ化物からなる析出異物１０６を除去する。 - 特許庁

The method of coating the mover comprises: a coating process of coating a fluorine-base resin material on a metallic pillar material to form the resin coat; and a rolling process of carrying out a rolling processing of a coating surface of the metallic pillar material to perform the surface smoothness of a film thickness of the resin coat.例文帳に追加

金属柱材にフッ素系樹脂材をコーティングして樹脂被膜を形成するコーティング工程と、金属柱材のコーティング面を圧延加工して樹脂被膜の膜厚を平坦化する圧延工程を含む。 - 特許庁

To obtain a stretchable nonwoven fabric having an excellent water repellency by a method using a nonhalogen type organic compound having low environmental load without using a fluorine-based or silicone-based post processing agent having high environmental load.例文帳に追加

環境負荷の大きいフッ素系、或いはシリコーン系の後加工剤を使用すること無く、環境負荷の少ないノンハロゲンタイプの有機化合物を使用する方法にて優れた撥水性を有する伸縮性不織布を提供する。 - 特許庁

This allows the halogen dissociated from the vaporized halogen-containing compound to be catalytically absorbed to the reaction processing agent on site in dry condition, thereby enabling the system to more selectively increase the fixed amount of fluorine than in the conventional art.例文帳に追加

この結果、気化した含ハロゲン化合物から触媒反応により解離したハロゲンを反応処理剤にオンサイトで乾式吸収を可能とし、フッ素の固定化量を従来のものよりも選択的に高くすることができる。 - 特許庁

The method of manufacturing gas sensor is provided with a process for bringing a substrate 12 into contact with a processing liquid 22, containing both metallic fluoro complexes and capturing agents for chemically capturing fluorine ions from the metal fluoro complexes or the processing liquid 22, containing only the capturing agent and making the metal oxide semiconductor film deposit onto the substrate 12, while adding the metallic fluoro complexes to the processing liquid 22.例文帳に追加

ガスセンサの製造方法は、金属のフルオロ錯体と金属のフルオロ錯体からフッ素イオンを化学的に捕捉する捕捉剤とを含む処理液２２、または捕捉剤のみを含む処理液２２に、基板１２を接触させ、さらに処理液２２に金属のフルオロ錯体を添加しながら、金属の酸化物半導体膜を基板１２の上に析出させる工程を備える。 - 特許庁

The cell culture substrate is produced by immersing the natural organic polymer in a graft processing liquid comprising a surfactant aqueous solution and a monomer containing fluorine, an aqueous solution containing a phosphoric monoester, methacrylamide and 2-hydroxyethyl methacrylate or an organic solvent solution of a dibasic acid anhydride or epoxy compound and performing graft processing or chemical modification processing in the presence of a polymerization initiator.例文帳に追加

界面活性剤水溶液とフッ素を含むモノマーとからなるグラフト加工液、リン酸モノエステル、メタクリルアミド、及びメタクリル酸２−ヒドロキシルエチルを含む水溶液、又は二塩基酸無水物若しくはエポキシ化合物の有機溶媒溶液中に、上記天然有機高分子を浸漬し、重合開始剤の存在下にグラフト加工或いは化学修飾加工し、細胞培養基材を製造する。 - 特許庁

The process for forming a fluorine added carbon film on a substrate to be processed comprises a first step for performing surface treatment of the substrate to be processed with rare gas subjected to plasma excitation by a substrate processing equipment, and a second step for forming a fluorine added carbon film on the substrate to be processed wherein the substrate processing equipment has a microwave antenna electrically connected with a microwave power supply.例文帳に追加

被処理基板上にフッ素添加カーボン膜を形成するフッ素添加カーボン膜の形成方法であって、基板処理装置によって希ガスをプラズマ励起し、プラズマ励起された前記希ガスによって前記被処理基板の表面処理を行う第１の工程と、前記被処理基板上にフッ素添加カーボン膜を形成する第２の工程を含み、前記基板処理装置は、マイクロ波電源が電気的に接続されたマイクロ波アンテナを有することを特徴とするフッ素添加カーボン膜の形成方法。 - 特許庁

To provide a photosensitive fluorine-containing polyimide precursor composition for an optical waveguide, to provide the optical waveguide meeting demands for low optical loss in the near-infrared wavelength range, high heat resistance, and low moisture absorptivity, and to provide a method of producing the optical waveguide, capable of giving the waveguide through a simple processing.例文帳に追加

近赤外波長での低光損失、高耐熱性、低吸湿率をみたす光導波路およびこれを易加工にて提供できる光導波路用感光性含フッ素ポリイミド前駆体組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

The optically active fluorine-containing 2,3-dihydropyridone derivative represented by formula (1) etc. is obtained by making optically active trifluoromethyl tert-butyl sulfine imine and 1-methoxy-3-trifluorosilyloxy-1,3-butadiene react with each other, and subsequently processing the reaction mixture with an acid.例文帳に追加

下記式（１）等で表される光学活性含フッ素２，３−ジヒドロピリドン誘導体を、光学活性トリフルオロチルｔｅｒｔ−ブチルスルフィンイミンと１−メトキシ−３−トリフルオロシリルオキシ−１，３−ブタジエンを反応させ、次いで酸で処理することにより得る。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of selectively and efficiently removing only useless polymer thin films using a fluorine-based gas as a cleaning gas while no damage is given to a processing container itself or to holding means for holding a workpiece.例文帳に追加

クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用することにより、処理容器自体や被処理体を保持する保持手段にダメージを与えることなく不要な高分子薄膜のみを選択的に且つ効率的に除去することが可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

A control part 100 controls a heater for heat-up 16 to heat the interior of a reaction tube 2 to a predetermined temperature and supplies a cleaning gas containing a fluorine gas and a silane gas from a processing gas introduction tube 17 to the reaction tube 2 with the reaction tube 2 heated to the predetermined temperature.例文帳に追加

制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して反応管２内を所定の温度に加熱した状態で、処理ガス導入管１７から反応室２内にフッ素ガスとシランガスとを含むクリーニングガスを供給する。 - 特許庁

A black chemical film is formed on the metallic member with the single processing solution by using a processing solution for generating a black chemical film containing a vanadium compound (A), an organic sulfur compound (B), and at least one (C) to be selected among the group composed of chlorine ions, fluorine ions, nitric acid ions, sulfuric acid ions, acetate ions and boron ions, and no chromium (D).例文帳に追加

（Ａ）バナジウム化合物と（Ｂ）有機硫黄化合物と（Ｃ）塩素イオン、フッ素、硝酸イオン、硫酸イオン、酢酸イオンならびにホウ素イオンからなる群から選択される少なくとも一種を含有し、（Ｄ）クロムを含まないことを特徴とする黒色化成皮膜生成処理液を用いて単一処理液により金属部材に黒色化成皮膜を形成する。 - 特許庁

The resist removing apparatus D comprises a plasma processing section 10 for lowering adhesion of resist 4 and a substrate 1 by irradiating the resist with fluorine based plasma processing gas under pressure in the vicinity of atmospheric pressure, and a section 20 for stripping and removing the resist 4 from the substrate 1 by supplying water to the resist 4 subjected to lowering adhesion.例文帳に追加

レジスト除去装置Ｄは、大気圧近傍の圧力下で、フッ素系ガスをプラズマ化した処理ガスをレジストに照射することによりレジスト４と基板１との密着性を低下させるプラズマ処理部１０と、密着性が低下されたレジスト４に水分を供給し、基板上から剥離して除去する除去処理部２０とを備える。 - 特許庁

A control part 100 controls a heater for heat-up 16 to heat the interior of a reaction tube 2 to a predetermined temperature and supplies a cleaning gas containing a fluorine gas, a hydrogen fluoride gas, and a chlorine gas from a processing gas introduction tube 17 to the reaction tube 2 with the reaction tube 2 heated to the predetermined temperature.例文帳に追加

制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して反応管２内を所定の温度に加熱した状態で、処理ガス導入管１７から反応管２内にフッ素ガスとフッ化水素ガスと塩素ガスとを含むクリーニングガスを供給する。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition highly loaded with a filler comprises a thermoplastic resin, a filler in an amount larger than that of the thermoplastic resin and 0.1-20 pts.wt., based on 100 pts.wt. of the thermoplastic resin, of a fluorine-modified acrylic processing auxiliary.例文帳に追加

熱可塑性樹脂と、熱可塑性樹脂と同量よりも多い量のフィラーと、熱可塑性樹脂１００重量部当たり０．１〜２０重量部のフッ素変性アクリル系加工助剤とを含有してなることを特徴とするフィラー高充填熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide an absorption type multi-layer film ND filter, excellent in environmental resistance, having a fluorine resin film layer as an antireflection film, less reflective and hardly adhering contaminations, and capable of adhering an ND filter chip obtained by processing to another base by using an adhesive.例文帳に追加

耐環境性に優れ、反射防止膜として低反射で汚れの付着し難いフッ素系樹脂膜層を有し、且つ加工して得られたＮＤフィルターチップを他の基材に接着剤によって接着することが可能な吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition for manufacturing an information recording paper contains a thermoplastic resin, a rutile titanium dioxide, an anatase titanium dioxide and a fluorine-based processing aid, and the weight ratio of the rutile titanium dioxide and the anatase titanium dioxide is 2:98-55:45.例文帳に追加

熱可塑性樹脂、ルチル型二酸化チタン、アナターセ型二酸化チタン及びフッ素系加工助剤を含有し、ルチル型二酸化チタンとアナターセ型二酸化チタンの重量比が、２：９８〜５５：４５であることを特徴とする情報記録紙製造用熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

The molded article having an average spherulite diameter of 1 μm or less, can be obtained by the melt processing of a resin composition which contains 100 pts.wt. of a tetrafluoroethylene/perfluoro(alkyl vinyl ether) crystalline copolymer and 5.0-50.0 pts.wt. of an ultra fine-spherocrystallizing agent of an amorphous, fluorine-containing polymer.例文帳に追加

結晶性のテトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体と、該共重合体１００重量部に対して非晶質含フッ素ポリマーからなる球晶超微小化剤を５．０〜５０．０重量部含む樹脂組成物を溶融加工して得られる平均球晶径が１μｍ以下である成形品。 - 特許庁

To provide a fluorine-containing copolymer which can be melt-processed at a relatively low processing temperature, has a high light transmittance and a low refractive index, and exhibits by itself good adhesive properties to various substrates without requiring a surface treatment, the use of adhesives, or the like.例文帳に追加

比較的低い加工温度で溶融加工することができ、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁