Isolationを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7498件
A plurality of trench isolation insulating films 4 are formed across an SOI layer 3 in the surface of the SOI layer 3 corresponding to the arrangement region of a spiral inductor SI in a resistance region RR, and resistors 30 are arranged on trench isolation insulating films 4, respectively.例文帳に追加
抵抗領域RRにおいては、スパイラルインダクタSIの配設領域に対応するSOI層3の表面内にトレンチ分離絶縁膜4がSOI層3を間に挟んで複数配設され、各トレンチ分離絶縁膜4上に抵抗素子30がそれぞれ配設されている。 - 特許庁
To provide a vibration control device that can suppress the formation of burrs when, in particular, insert-molding a vibration isolation leg at a bracket member, and can secure a stopper function by the vibration isolation leg, and to provide a method of manufacturing the vibration control device, concerning the vibration control device and its manufacturing method.例文帳に追加
防振装置および防振装置の製造方法に関し、特に、防振脚部をブラケット部材にインサート成形する際のバリの発生を抑制して、防振脚部によるストッパ機能を確保することができる防振装置および防振装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The equipment mount 61 on which supported equipment 30 is mounted is supported by a guide 64, and the guide 64 slides on a rail 66 which has a small coefficient of dynamic friction μ_2 in the direction of leaving the seismic isolation plate 11 and a great coefficient of dynamic friction μ_1 in the direction of approaching the seismic isolation plate 11.例文帳に追加
支援機器30を搭載した機器搭載台61は、ガイド64に支持され、ガイド64は免震台11から離れる方向の動摩擦係数μ_2は小さく、免震台11に近づく方向の動摩擦係数μ_1は大きいレール66を摺動する。 - 特許庁
To provide a base isolation device exchanging method in which a base isolated condition of base-isolated locations is maintained even if an earthquake occurs during exchange work of base isolation devices set in a building, and risks occurring during the exchange work, such as fall of a column caused by slipout of a jack-up device, can be avoided.例文帳に追加
建物に設置される免震装置を交換する際、施工中に地震が発生しても、施工箇所の免震状態を維持するとともに、ジャッキアップ装置が外れることによる柱の落下などの施工上の危険を回避することができる免震装置の交換方法を提供する。 - 特許庁
To manufacture a sliding base isolation device with uniform accuracy without being formed in special specifications, and facilitate installing workability even if a smoothing plate being a mate of a sliding material becomes the large area in the sliding base isolation device adaptable to an enlargement of a structure and for supposing a giant earthquake.例文帳に追加
構造体の大型化に適応でき、また巨大地震を想定した場合のすべり免震装置おいて、すべり材の相手となる平滑板が大面積となっても、均一な精度で、特殊仕様とすることなく作製することができ、また取り付け作業性が容易である。 - 特許庁
The base isolation device has a base isolation device (10) and a restoration device (8) and is constituted of a floor (4) provided with a rescue and escape section (25), a wall (28) likewise provided with a rescue and escape section (24), and a ceiling (27) likewise provided with a rescue and escape section (23).例文帳に追加
免震装置(10)と復元装置(8)とを有し、かつ救出・脱出部(25)を設けた床部(4)と、同じく救出・脱出部(24)を設けた壁部(28)と、同じく救出・脱出部(23)を設けた天井部(27)とで構成することを特徴とする免震部屋。 - 特許庁
In this semiconductor device formed in a semiconductor layer on an insulation film, the semiconductor layer is isolated by an inter-element isolation trench, and a side wall of the interelement isolation trench is provided with an anti-inversion layer comprising an impurity diffusion layer.例文帳に追加
本発明の半導体装置は、絶縁膜上の半導体層に形成された半導体装置において、前記半導体層が素子間分離溝によって分離され、前記素子間分離溝の側壁に不純物拡散層からなる反転防止層を有することを特徴とする - 特許庁
This base isolation device includes an isolator, which is interposed in a clearance δ in the vertical direction between an upper structure 3 and a lower structure 1, for base isolation and support of the upper structure 3, and the friction damper 20 which is interposed in parallel with the isolator, and damps horizontal vibration between the structures.例文帳に追加
上部構造体3と下部構造体1との間の上下方向隙間δに介装され、上部構造体3を免震支持するアイソレータと、前記アイソレータと並列に介装され前記構造体間の水平振動を減衰する摩擦ダンパー20とを備えた免震装置である。 - 特許庁
The horizontal vibration of an earthquake divided to two directions is absorbed by a slide mechanism, while carrying out a period regulation and excessive displacement control at the upper side of a base isolation stand and attenuated by the magnet type friction damper 19 in the base of the lower side of the base isolation stand stored under a floor.例文帳に追加
2方向に分けられた地震の水平振動は免震台上方では周期調節と過大変位の規制を行いつつスライド機構にて吸収され、床下に格納された免震台下方のベース内では磁石式摩擦ダンパー19などによって減衰される。 - 特許庁
For example, in base isolation work for providing an existing building 4 with a base isolation layer, in the case of supporting (temporarily bearing) the upper building frame structure 1 of the existing building 4 by the concrete support member 2, the release work for the support state can be executed simply, in a short time, efficiently and inexpensively.例文帳に追加
そして、例えば、既存建物4に免震層を設ける免震化工事等において、既存建物4の上部躯体構造物1をコンクリート製支持材2で支持(仮受け)する場合に、その支持状態の解除作業を簡単に単時間で効率良く安価に実施できるようにする。 - 特許庁
A base isolation member 50 is temporarily fixed by connecting a bracket 33 removably fixed to a corner part of a sliding bearing plate 23 of the base isolation member 50, and an end plate 51 of an elastic sliding bearing body 52, on the permanent baseplate by a curing temporary fixture 31 including a connecting member 32.例文帳に追加
その捨てベースプレート上に、免震部材50のすべり支承板23の角部に取り外し可能に固定するブラケット33と、弾性すべり支承体52の端板51とを連結部材32を含む養生用仮固定具31で連結して免震部材50を仮固定する。 - 特許庁
To fabricate a transistor in which reverse short channel effect does not take place by suppressing formation of a recess through etching of the sidewall part of an isolation pattern formed on a semiconductor pattern when a pad oxide film, a sacrifice oxide film, and the like, are removed by etching thereby solving the problem in an STI(shallow trench isolation) technology.例文帳に追加
パッド酸化膜、犠牲酸化膜等のエッチング除去時に半導体基板に形成した素子分離パターンの側壁部がエッチングされて窪みが形成されるのを抑制してSTI技術の課題を解決し、逆狭チャネル効果を生じないトランジスタの形成を可能にする。 - 特許庁
In chemical decontamination performing chemical decontamination of piping and components of reactor facility, a primary isolation valve 5 is provided in the decontamination object system and non-decontamination system to isolate, and back pressure is added from a water filling system 25 placed in the non-decontamination object side of the primary isolation valve 5.例文帳に追加
原子炉施設の配管および機器を対象とした化学除染を行う化学除染時に、除染対象系統と非除染対象系統に一次隔離弁5を設けて隔離し、この一次隔離弁5の非除染対象側に設けた水張り系統25から背圧を加える。 - 特許庁
In the semiconductor device provided with element isolation insulation films which have different depths depending on the locations where they are formed, the decline in the impurity concentration in the semiconductor substrate below the element isolation insulation films can be suppressed by forming a plurality of channel cut layers in the depth direction in one active region.例文帳に追加
形成された場所によって異なる深さを有する素子分離絶縁膜を備えた半導体装置において、一つの活性領域に、深さ方向に複数のチャネルカット層を形成することによって、素子分離絶縁膜下の半導体基板中の濃度の低下を抑制する。 - 特許庁
On an SOI substrate 64, elements such as MISFETs are provided in the element-forming region R1, and a trench element isolation 68 is formed reaching the insulation layer 62 penetrating the main-surface silicon layers 63 in the element isolation region R2.例文帳に追加
SOI基板64のうちで、素子形成領域R1に位置する部分にはMISFETなどの素子が設けられており、素子分離領域R2に位置する部分には主面側シリコン層63を貫通して絶縁層62に到達するトレンチ素子分離68が設けられている。 - 特許庁
A vibration proof part (first-third vibration proof members 15a-15c) is sandwiched in the pressurizing direction of a pressurizing spring 23 between the mobile body 13 and the rotary ring 17, where vibration isolation around a center in the pressurizing direction is set higher relative to vibration isolation near both ends.例文帳に追加
さらに、移動体13と回動環17との間に加圧ばね23の加圧方向において挟まれ、加圧方向に沿う方向における中心付近の防振性が、両端付近の防振性よりも相対的に高く形成されている防振部(第1〜第3防振部材15a〜15c)を設ける。 - 特許庁
To provide a three-dimensional earthquake-isolating and restoring device of a vending machine which is an object for earthquake isolation capable of performing the earthquake isolation in the three-dimensional direction, i.e., the longitudinal, right-to-left and vertical directions when an earthquake occurs with a simple structure, and having the excellent restoring function to a fixed position.例文帳に追加
本発明は、簡略な構造で、地震発生時に前後左右及び上下という3次元方向の免震が可能であり、且つ、定位置への優れた復元機能をも兼備した免震対象体である自動販売機の3次元免震復元装置を提供する。 - 特許庁
In the vibration isolation support structure of the equipment 4 in which the equipment 4 generating vibration is mounted on the base 3 arranged on a structure body 1 via a vibration isolation member 2, the two kinds of the dynamic vibration absorber 5 without a damper and the dynamic vibration absorber 6 with a damper are installed in combination at the predetermined positions.例文帳に追加
構造体1上に防振材2を介して設けた架台3に振動を発する機器4を搭載して成る機器4の防振支持構造において、前記架台3に、ダンパー無し動吸振器5とダンパー付き動吸振器6の2種類の動吸振器5、6が所定位置に組み合わせて設置されている。 - 特許庁
The vibration isolation member supporting type straight advance feeder 1 vibrates a carrier section 11 by the vibration generated by the excitation section 9 supported by legs 3, 4 installed at least as front and rear supports in an article feeding direction, respectively, via vibration isolation members 5, 6 interposed therebetween, thereby feeding a plurality of articles.例文帳に追加
物品搬送方向の少なくとも前後にそれぞれ設置される各脚3,4との間に防振部材5,6を介して支持される起振部9が発生する振動によって搬送部11を振動させて複数の物品を搬送する防振部材支持型直進フィーダ1。 - 特許庁
(2) The base isolation device comprises the ball arranged on the pan having the upper face which is higher as tending from the pan central portion to the pan outer peripheral portion and the base isolation plate arranged on the upper side thereof, the upper face of the pan 13 consisting of a N-order curved face whose order N is greater than 2.例文帳に追加
(2)皿中央部から皿外周部に近づくにつれて位置が高くなる上面をもつ受皿の上にボールを配置しその上方に免震台を配置した免震装置であって、受皿13の上面を、次数Nが2より大きいN次曲面から構成した免震装置。 - 特許庁
The controller 91 which PWM controls the DC-DC converter circuit 90 of the input/output dielectric isolation type DC-DC converter device is applied with the power voltage using the potential of the output side circuit of the input/output dielectric isolation type DC-DC converter device as a reference.例文帳に追加
入出力絶縁分離型DC−DCコンバータ装置のDC−DCコンバータ回路90をPWM制御するコントローラ91には入出力絶縁分離型DC−DCコンバータ装置の出力側回路の電位を基準とする電源電圧が印加される。 - 特許庁
To provide a control device for an elevator easily usable even when a visitor who does not know how to temporarily release a car call service when a car call service isolation instruction means for specifying the isolation of a car call service for a specified story functions and also providing safe crime prevention.例文帳に追加
特定階のかご呼サービス切り離しを指定するかご呼サービス切り離し指令手段が動作したとき、上記かご呼サービスを一時的に解除する手段を知らない訪問者が来客した場合でも煩わしくなく防犯上も安全なエレベーターの制御装置を提供する。 - 特許庁
Thereby, when the second lever 36 rocks to a first location, it contacts the adjustment screw 62 after being buffered by the first sound isolation rubber 81, and when the second lever 36 rocks to the second location, it contacts the second sound isolation rubber 82, thereby interference sound can be made small.例文帳に追加
このため、第2レバー36が第1の位置へ揺動する際に、第1防音ゴム81により緩衝されてから調整ネジ62へ当接し、第2レバー36が第2の位置に揺動した際に、第2防音ゴム82に当接することで、干渉音を小さくすることができる。 - 特許庁
Outside a memory cell region 110 where line-and-space (L&S) periodicity of an active area D1 and an element isolation region D1S is disordered, active areas D2a and D2b wider than the active area D1, and an element isolation region D2S disposed between the active areas D2a and D2b are formed.例文帳に追加
アクティブエリアD1及び素子分離領域D1Sのラインアンドスペース(L&S)の周期性が崩れるメモリセル領域110の外側には、アクティブエリアD1より幅が広いアクティブエリアD2a、D2bと、アクティブエリアD2aとD2b間に配置された素子分離領域D2Sが形成されている。 - 特許庁
An upper surface of the element isolation region D2S is formed lower than an upper surface of a floating gate 12B from an end of the floating gate 12B halfway to the width of the element isolation region D2S, and formed in level with the upper surface of the floating gate 12C from to halfway the end of the floating gate 12C.例文帳に追加
素子分離領域D2Sの上面は、浮遊ゲート12Bの端部から素子分離領域D2Sの幅の途中まで浮遊ゲート12Bの上面より低く形成され、前記途中から浮遊ゲート12Cの端部まで浮遊ゲート12Cの上面と同じ高さに形成されている。 - 特許庁
Based on isolation removal data on actual sweep data of this time read out of a sweep memory 4 and on isolation removal actual sweep data stored of the last time, a sweep data generation part 11 performs linear interpolation processing, generates interpolation sweep data between these actual sweeps, and outputs them to an image memory 8.例文帳に追加
スイープデータ発生部11は、スイープメモリ4から読み出した今回の実スイープデータの孤立除去データと記憶していた前回の孤立除去実スイープデータとに基づいて線形補間処理を行い、これらの実スイープ間の補間スイープデータを発生し、画像メモリ8に出力する。 - 特許庁
To obtain an overlap margin between a storage node contact plug and a landing plug isolation film without poly-pad treatment, and to provide a method of forming contact plugs in a semiconductor device suitable for preventing etching loss of the landing plug isolation film in etching a storage node contact hole.例文帳に追加
ポリパッド処理を行うことなく、ストレージノードコンタクトプラグとランディングプラグ分離膜との間のオーバーラップマージンを確保し、かつ、ストレージノードコンタクトホールをエッチングする際のランディングプラグ分離膜のエッチング損失の防止に適した半導体素子のコンタクトプラグの製造方法を提供する。 - 特許庁
The base isolation materials 4 is set to 0.001 to 0.1 kN/cm in a horizontal spring constant, to 1 to 10 kN/cm in a vertical spring constant, to 10 to 200 mm in the thickness, and to 5 to 90% to the area of the foundation laying area in the total laying area of the base isolation materials 4 in a plan view.例文帳に追加
免震材(4)は、水平バネ定数が0.001〜0.1kN/cm、鉛直バネ定数が1〜10kN/cm、厚さが10〜200mmであり、平面視した場合の免震材(4)の総敷設面積が、基礎敷設領域の面積に対して5〜90%である。 - 特許庁
To provide a base-isolating system which suppresses the shaking of an upper structure by high rigidity, without exerting a base isolation effect on environmental vibrations, and which can prevent great damage to a building by making a base-isolating device exert the base isolation effect during earthquakes.例文帳に追加
環境振動に対しては、免震効果を発揮させずに高い剛性によって上部構造に揺れが生じることを抑制し、かつ地震時には、免震装置による免震効果を発揮させて建物に大きな被害が発生することを未然に防止することができる免震システムを提供する。 - 特許庁
An STI (shallow trench isolation) film 7 is formed in the peripheral regions of a wafer 1 where a TiN/Ti film is exposed in a subsequent etch- back process.例文帳に追加
ウェハ1の周辺領域のうち、後の工程のエッチバック時において、露出するTiN/Ti膜領域にSTI膜7を形成する。 - 特許庁
To connect a part between a pair of mutual diffusion regions which are isolated by an isolation region, by not arranging a contact but using a wiring layer.例文帳に追加
分離領域で隔てられた一対の拡散領域相互間を、コンタクトを設けずに、配線層により接続することを特徴とする。 - 特許庁
To reduce confirmation work of sealing performance of isolation valve, by protecting the transport of decontamination liquid to non- decontamination system in chemical decontamination of the system and the like.例文帳に追加
系統の化学除染時等に、非除染系統への除染液の移行を阻止して隔離弁のシール性の確認作業を削減する。 - 特許庁
To provide a base isolation structure for preventing an upper structure from separating from a foundation structure even if a large vertical load due to an earthquake is applied thereto.例文帳に追加
地震による大きな垂直荷重を受けても上部構造が基礎構造から分離しない免震構造物を提供することである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor device, in which a gate oxide film is deterred from becoming thin at a part adjacent to an element isolation film.例文帳に追加
ゲート酸化膜が、素子分離膜に隣接する部分で薄膜化することを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The transistors 10A, 10B and the transistors 20A, 20B are mutually separated by an element isolation insulator 100 provided on the substrate.例文帳に追加
トランジスタ10A,10Bとトランジスタ20A,20Bとは、半導体基板上に設けられた素子分離絶縁部100により互いに分離されている。 - 特許庁
To solve a problem of difficulty in forming an isolation groove in a CISG layer in a manufacturing process of a CIGS thin film solar cell.例文帳に追加
CIGS系薄膜太陽電池の製造過程においてCISG層に分離溝を形成する加工が難しい問題を解消する。 - 特許庁
Thus, the surface acoustic wave branching filter can be realized, which has a duplexer characteristic with excellent isolation and attenuation and can be downsized.例文帳に追加
それにより、アイソレ−ション並びに減衰量の良いデュプレクサ特性を持ち、且つ、小型化が可能な弾性表面波分波器を得ることができる。 - 特許庁
In output using a plotter, the composite isolation data are used to perform filtering processing suitable to character/non-character, and color replacement is executed to sharpen black characters.例文帳に追加
プロッタ出力時に、複合分離データを用い、文字/非文字に適したフィルタ処理を行い、黒文字を鮮明化する色の置換えをする。 - 特許庁
In a first isolation transistor 1, a first node SN1 to be connected to the first memory cell is made to be one end and another end is set to a second node SN0.例文帳に追加
第1分離トランジスタ1は、第1メモリセルに接続される第1ノードSN1を一端とし且つ他端を第2ノードSN0とする。 - 特許庁
The sub-insulating film is provided so as to cover part of a main insulating film and part of the element isolation region which form the MOS transistor.例文帳に追加
この副絶縁膜は、MOS型トランジスタを構成する主絶縁膜の一部と素子分離領域の一部とを覆うように設けている。 - 特許庁
To improve reliability of a MISFET formed in an activated region surrounded by a shallow-groove-isolation.例文帳に追加
浅溝アイソレーションによって囲まれる活性領域に形成されたMISFETの信頼度を向上することのできる技術を提供する。 - 特許庁
The optical symbols are encoded so that colored elements (colored area) are always contiguous to thereby prevent splitting or isolation, and the elements that are 'on' (colored) are always adjacent to one another within a module.例文帳に追加
色彩が付されたエレメント(色彩エリア)が常に連続するようなコーディングをすることによって、断裂や孤立状態を防止する。 - 特許庁
To provide an artificial foundation capable of maintaining vibration isolation efficiency even when there are variations in additional construction of building or extension and alteration of building.例文帳に追加
建物の追加建設や増改築等の変更があった場合にも免震性能を維持することが可能な人工地盤を提供する。 - 特許庁
To provide a base isolation structure of a house capable of facilitating the work to carry out construction at low cost by providing a stopper mecha nism to a concrete foundation.例文帳に追加
コンクリート基礎にストッパー機構を設け、作業も容易で安価に施工することができる住宅の免震構造を提供するものである。 - 特許庁
To provide an elevator shaft dislocation sensing device for a base isolation building assuring an accurate operation with a simple constitution and capable of being installed easily.例文帳に追加
簡易な構成であって正確に動作し、かつ容易に設置することができる免震建築のエレベーター昇降路ずれ検出装置を得る。 - 特許庁
By differing spring rigidity of the vertical base isolation device 18 from that of the elastic body 20 for cushioning, the spring rigidity in a vertical direction is maintained for a long period.例文帳に追加
上下免震装置18と緩衝用弾性体20とのばね剛性を異ならせることにより、上下方向の長周期化を図る。 - 特許庁
The base isolation system 10 is allowed to be provided with a vibration period prolonging device 12 attached to the slide member and a side part of the pallet support frame.例文帳に追加
免震装置10は、スライド部材及びパレット支持架台の側部に装着された振動長周期化装置12を備えることができる。 - 特許庁
Furthermore, it is etched to form the isolation trench 19, following a concavo-convex pattern by the resist layer 63, and the concave pit 23 at the same time.例文帳に追加
さらにその上からエッチングをして、レジスト層63による凹凸パターンを踏襲した分離溝19と、凹状ピット23とを同時に形成する。 - 特許庁
To lower a threshold voltage of a first MIS transistor in comparison with a threshold voltage of a second MIS transistor while reducing a device isolation region.例文帳に追加
素子分離領域を縮小化しつつ、第1のMISトランジスタの閾値電圧を、第2のMISトランジスタの閾値電圧に比べて低くする。 - 特許庁
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