「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(575ページ目) - Weblio英語例文検索

The organic EL element comprises a transparent substrate 1, a transparent electrode 3 provided on the substrate, an organic light emitting layer 4 provided on the transparent electrode, a back electrode 5 provided on the organic light emitting layer, and a terminal electrode 6 provided on the substrate, wherein the terminal electrode has an oxidation protective layer 7 formed by plasma treatment and electrically contacts with the back electrode via the oxidation protective layer.例文帳に追加

透明基板１と、該基板の上に設けられた透明電極３と、該透明電極の上に設けられた有機発光層４と、該有機発光層の上に設けられた背面電極５と、該基板の上に設けられた端子電極６であって、プラズマ処理により設けられた酸化保護層７を有し、該酸化保護層を介して該背面電極と電気的に接触している、端子電極とを有する有機ＥＬ素子が提供される。 - 特許庁

The sheet vacuum treatment device 10 is equipped with vacuum treatment chambers 11B to 11F which include a load/unload chamber 11A and a plasma etching chamber and are arranged in forms of clusters.例文帳に追加

ロード／アンロード室１１Ａ及びプラズマエッチング室を含む複数の真空処理室１１Ｂ〜１１Ｆがクラスター状に配置された枚葉式真空処理装置１０において、真空搬送室１２とウェーハＷの授受を行う大気室１６又は真空搬送室１２に、ウェーハＷの被処理面に検査光を照射しその反射光を受光する検出器１９と、検出器１９の出力に基づいてウェーハＷの被処理面が金属層であるか絶縁層であるかを判定する判定ユニット２０とを設ける。 - 特許庁

The finished or unfinished zirconia formed body which is partially reduced is arranged in a reaction chamber, then treated with plasma which is generated from ammonia or a mixture of nitrogen and hydrogen, at an average temperature of the article of 500-900°C and for at least 5 min.例文帳に追加

前もって完成または半完成形状に成形されている少なくとも１つのジルコニア物品を用意し、前記物品を形成するジルコニアを部分的に還元し、反応室内に前記物品を配置し、反応室内で、アンモニア、または窒素と水素の混合物、あるいはこのガスとこの混合物との組合せからプラズマを発生させ、物品の平均温度が５００〜９００℃に保たれるように状態を調節しながら、前記物品を少なくとも５分間プラズマ中に保持することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the conductive silicon nitride film includes: a first step of forming a microcrystalline silicon film doped into an n-type or a p-type; and a second step of forming the conductive silicon nitride film by irradiating the microcrystalline silicon film with plasma including nitrogen to nitride the microcrystalline silicon film; wherein a dilution rate of material gas, introduced when forming the microcrystalline silicon film in the first step, is 150 to 600.例文帳に追加

本発明の導電性窒化シリコン膜の製造方法は、ｎ型またはｐ型にドーピングされた微結晶シリコン膜を形成する第１ステップと、該微結晶シリコン膜に対し、窒素を含むプラズマを照射して微結晶シリコン膜を窒化することにより、導電性窒化シリコン膜を形成する第２ステップとを含み、第１ステップにおいて、微結晶シリコン膜を形成するときに導入される材料ガスの希釈率は、１５０以上６００以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The debris remover for preventing debris generated at the X-ray emitting point of an X-ray light source from reaching the optical system by generating plasma comprises an adsorbing section having a plane extending in parallel or substantially parallel with the optical axis of the optical system and adsorbing the debris, and a section for rotating the adsorption plane at the adsorbing section about an axis passing through the light emitting point.例文帳に追加

プラズマを発生し、Ｘ線を発生させるＸ線光源の前記Ｘ線の発光点で発生したデブリが光学系に到達することを防止するデブリ除去装置であって、前記光学系の光軸に平行もしくはほぼ平行な前記デブリを吸着する吸着面を含む吸着部と、前記発光点と前記光学系との間で、前記吸着部の吸着面を前記発光点を通る軸回りに回転させる回転部とを有するデブリ除去装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the organic electroluminescent element comprises a step preparing a substrate provided with a first electrode, an organic film containing at least luminous layer and a second electrode and a step forming the insulating film formed by a reaction of a first radical generated by first gas passing a plasma generation area and a heating body and a second radical generated by second gas passing the heating body on the second electrode.例文帳に追加

第１電極、少なくとも発光層を含む有機膜、および第２電極が形成された基板を準備する段階と、第１ガスがプラズマ発生領域および加熱体を通過することによって形成された第１ラジカルと、第２ガスが加熱体を通過することによって形成された第２ラジカルとが反応して生成した絶縁膜が、前記第２電極上に形成される段階と、を含むことを特徴とする有機電界発光素子の製造方法である。 - 特許庁

In the method for easily and reliably removing harmful gas containing carbon monoxide gas in air, a catalyst gas having a metastable level and atmospheric air are supplied to electric discharge plasma generated by an electric discharge apparatus 15 through a humidifying apparatus 14, so that the concentration of atoms in metastable state which cause reaction as a catalyst at the time of reaction of the harmful gas containing carbon monoxide gas in the air with oxygen.例文帳に追加

準安定準位を有する触媒ガスと、大気中の空気とを加湿装置１４を介して放電装置１５により形成された放電プラズマに供給することにより、上記空気中の一酸化炭素ガスを含む有害ガスが酸素と反応する際の触媒として作用する準安定状態にある原子の濃度を高めるようにして、上記空気中の一酸化炭素ガスを含む有害ガスを容易に且つ確実に除去することができるようにする。 - 特許庁

The process for forming a fluorine added carbon film on a substrate to be processed comprises a first step for performing surface treatment of the substrate to be processed with rare gas subjected to plasma excitation by a substrate processing equipment, and a second step for forming a fluorine added carbon film on the substrate to be processed wherein the substrate processing equipment has a microwave antenna electrically connected with a microwave power supply.例文帳に追加

被処理基板上にフッ素添加カーボン膜を形成するフッ素添加カーボン膜の形成方法であって、基板処理装置によって希ガスをプラズマ励起し、プラズマ励起された前記希ガスによって前記被処理基板の表面処理を行う第１の工程と、前記被処理基板上にフッ素添加カーボン膜を形成する第２の工程を含み、前記基板処理装置は、マイクロ波電源が電気的に接続されたマイクロ波アンテナを有することを特徴とするフッ素添加カーボン膜の形成方法。 - 特許庁

In this case, the method also includes a step to apply plasma dry etching surface treatment to the exposed polyimide surface of the film substrate 1 made of polyimide resin that is not covered with the wiring pattern 6 after the wiring pattern 6 is formed.例文帳に追加

ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１上にシード層２を形成してなる基板の表面に配線パターン６を形成する工程と、前記配線パターン６の表面にめっき層７を形成する工程とを有する半導体装置用テープキャリアの製造方法であって、前記配線パターン６を形成した後、当該配線パターン６で覆われておらず露出している部分の前記ポリイミド樹脂からなるフィルム基材１のポリイミド表面にプラズマドライエッチング表面処理を施す工程を含んでいる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electron emission element containing a carbon material and shaped in a fibrous or tubular form forming graphite nanotube 21 with an end face 22a of a graphene sheet 22 exposed at a side part on a conductive catalyst layer 12 with conductivity, the conductive catalyst layer 12 is heated, mixture gas is guided in around the conductive catalyst layer 12, and plasma is generated to carry out CVD.例文帳に追加

導電性を有する触媒導電層１２上に、カーボン材料を含み繊維状または管状を成すとともに側部にグラフェンシート２２の端面２２ａが露出しているグラファイトナノチューブ２１を形成することを特徴とする電子放出素子の製造方法であって、前記導電触媒層１２を加熱し、減圧雰囲気下において、導電触媒層１２の周囲に混合ガスを導入し、プラズマを発生させてＣＶＤを行うことを特徴とする。 - 特許庁

This coating composition is prepared by dispersing 100 pts.wt. solid component which comprises 75-92 wt.% almost spherical, tetragonal tin oxide particles having an average particle size of 5-90 nm and produced by the plasma method and 8-25 wt.% (meth)acrylate compound having at least two acryloyl or methacryloyl groups in 250-600 pts.wt. at least two alcoholic organic solvents.例文帳に追加

プラズマ法で製造された平均粒子径が５〜９０ｎｍの範囲であるほぼ球状の正方晶系酸化錫微粒子７５〜９２重量％と、分子内に少なくとも２個以上のアクリロイル基若しくはメタクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物８〜２５重量％からなる固形分１００重量部に対して、２種類以上のアルコール系有機溶媒２５０〜６００重量部を配合し、分散させてなることを特徴とする紫外線硬化型透明導電性塗料組成物に関する。 - 特許庁

In the method of jetting powder to the space where plasma is to be generated or being generated the powder is filled in a tightly sealed vessel having a through hole sealed with a material breakable by a mechanical or thermal energy on the bottom and jetted to the space with a pressurized gas through the through hole after breaking the breakable material used for sealing the through hole on the bottom of the vessel.例文帳に追加

プラズマを発生させるか又はプラズマが発生している空間に粉体を噴射する方法であって、底面に透孔を有し、該透孔を機械的又は熱的エネルギーの印加により破壊可能の材料で封止した密封性容器内に該粉体を充填した後、該容器底面の透孔を封止している該破壊性材料を破壊するとともに、該粉体を加圧ガスにより該透孔を介して該空間に噴射させることを特徴とする粉体の噴射方法。 - 特許庁

The plasma display panel has a pair of planes facing each other, a front substrate and a back substrate provided with a plurality of discharge cells defined in a space therebetween, an address electrode formed along a first direction between the front substrate and the back substrate, and a display electrode electrically isolated from the address electrode between the front substrate wherein the display electrode is formed along a second electrode crossing to the first electrode.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルは，向かい合う対向面をそれぞれ有し，それらの間の空間に区画される多数の放電セルを備える前面基板および背面基板と，前記前面基板と前記背面基板との間で第１方向に沿って形成されるアドレス電極と，前記前面基板と前記背面基板との間で前記アドレス電極と電気的に離隔しかつ前記第１方向と交差する第２方向に沿って形成される表示電極とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of conductive particulates having a conductive metal-coated layer on the surface of a base material with high-molecule polymer particulates as a base material comprises a pretreatment process including a process of selectively hydrophylizing a surface of the high-molecule polymer particulate base material by low-temperature plasma treatment (a selective hydrophilization process), and a coating process of forming a coating layer of conductive metal on the pre-treated base material.例文帳に追加

高分子重合体微粒子を基材として基材表面に導電性金属被覆層を有する導電性微粒子の製造方法において、低温プラズマ処理により高分子重合体微粒子基材表面を選択的に親水化してなる工程（選択的親水化工程）を含む前処理工程と、前記前処理された基材に導電性金属の被覆層を形成するコーティング工程とを含む導電性金属被覆微粒子の製造方法。 - 特許庁

The electrode plate for the plasma device is provided with a small-diameter hole area with many small-diameter holes for passing reaction gas at its center and bolt holes for fitting at its outer peripheral part, and has a positioning groove formed around at least one bolt hole; and the depth of the positioning groove is t/50 to t/5, where (t) is the plate thickness of the electrode plate.例文帳に追加

中央部に反応ガスを通気させるための多数の小径穴が設けられた小径穴エリアを有し、外周部には取付用のボルト穴が設けられ、その表面側の少なくとも一つのボルト穴周囲に位置決め用溝部が形成されたプラズマ装置用電極板において、プラズマ装置用電極板の板厚をｔとすると、位置決め用溝部の深さがｔ／５０以上ｔ／５以下の範囲内であることを特徴とするプラズマ装置用電極板である。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel having a glass substrate 2 and a dielectric layer formed on the glass substrate 2 comprises a process for forming the dielectric precursor layer 1 containing glass frit and an organic resin binder on the glass substrate 2 (i); and a process for applying 300 MHz-300 GHz microwaves to the dielectric precursor layer formed on the glass substrate (ii) for generating a dielectric layer from the dielectric precursor layer.例文帳に追加

ガラス基板２と、該ガラス基板２上に配設された誘電体層とを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、（ｉ）前記ガラス基板２上にガラスフリット及び有機樹脂バインダーを含む誘電体前駆層１を形成する工程と、（ｉｉ）前記ガラス基板上に形成された前記誘電体前駆層に300MHz〜300GHzのマイクロ波を照射して、該誘電体前駆層から誘電体層を生成させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method for cleaning sheet, plasma treatment is performed for the cleaning layer wherein the relative strength (the positive ion is the C_2H_3^+ ratio, and the negative ion is the O^- ratio) of at least one fragment ion of the specified fragment ions is 0.1 or less in the time-of-flight type secondary ion mass spectrometry.例文帳に追加

本発明のクリーニングシートの製造方法は、クリーニング層の特定のフラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ_２Ｈ_３^＋比、負イオンはＯ^−比）が飛行時間型２次イオン質量分析においてそれぞれ０．１以下である該クリーニング層を備える、クリーニングシートの製造方法であって、該特定のフラグメントイオンの少なくとも１つのフラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ_２Ｈ_３^＋比、負イオンはＯ^−比）が飛行時間型２次イオン質量分析において０．１を超えるクリーニング層にプラズマ処理を行う工程を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a nano-wire containing a metal element coated with carbon is characterized in that, while electrodes 12, 13 disposed in a pressure vessel 2 are supported in a supercritical liquid of carbon dioxide, plasma is generated in the supercritical liquid of carbon dioxide by applying high frequency electric power to the electrodes 12, 13 and an organic solvent is supplied to the pressure vessel 2 from an organic solvent supply source 4.例文帳に追加

上記の課題を解決するために、本発明に係る炭素被覆金属元素含有ナノワイヤ製造方法は、圧力容器中２に設けられた電極１２，１３が超臨界流体の二酸化炭素中に保持された状態で電極１２，１３に高周波電力を供給して超臨界流体の二酸化炭素中にプラズマを発生させるとともに、有機溶媒供給源４より有機溶媒を圧力容器２に供給することを特徴とする。 - 特許庁

In the plasma display backboard equipped with stripe-like main bulkheads for partitioning areas containing red, green, and blue phosphors on a substrate and stripe-like auxiliary bulkheads formed perpendicularly to the main bulkheads, the top width of the auxiliary bulkhead contained in a non-image display area portion at the longitudinal end of the main bulkhead is smaller than the top width of the auxiliary bulkhead disposed in the center of the substrate.例文帳に追加

基板上に赤色、緑色及び青色の蛍光体が形成された領域を仕切るストライプ状の主隔壁と、該主隔壁と垂直な方向に形成されたストライプ状の補助額壁とを有するプラズマディスプレイ背面板において、主隔壁の長手方向端部に位置する画像非表示領域部に含まれる前記補助隔壁の頂部幅は、いずれも基板中心部に位置する補助隔壁の頂部幅より細いことを特徴とするプラズマディスプレイ背面板とする。 - 特許庁

By thermally conducting the heat generated by the circuit board to the metal chassis at low temperature, a heat spot on a PDP (plasma display panel) can be eliminated, which prevents hazard and anxiety of burning due to high temperature when a user touches the PDP or the back chassis.例文帳に追加

表示パネルと、表示パネルを取り付けた金属シャーシと、金属シャーシの表示パネルと反対側の面にボスを介して配置された回路基板と、金属シャーシ及び回路基板から発せられる熱を冷却する冷却ファンと、金属シャーシと回路基板を接続するオフセットフィンとを備え、回路基板が発した熱を温度の低い金属シャーシに熱伝導することで、ＰＤＰパネル上のヒートスポットの解消が可能であり、ユーザーがＰＤＰパネルや後面筐体に触ったときの高温によるやけどの危険性や不安感を取り除くことができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical power generation element having a substrate 50 and a metal electrode layer 51 provided on the substrate 50 includes a supercritical fluid state-forming step of forming a supercritical fluid state of a silicon halide compound, and a silicon polycrystal layer-forming step of forming the silicon polycrystal layer on the metal electrode layer 51 provided on the substrate 50, by carrying out plasma discharge under the formed supercritical fluid state of the silicon halide compound.例文帳に追加

基板５０と基板５０上に設けた金属電極層５１を有する光発電素子の製造方法であって、ハロゲン化ケイ素化合物の超臨界流体状態を形成する超臨界流体状態形成工程と、形成されたハロゲン化ケイ素化合物の超臨界流体状態においてプラズマ放電を行い、基板５０上に設けた金属電極層５１上にシリコン多結晶層を形成するシリコン多結晶層形成工程と、を有することを特徴とする光発電素子の製造方法。 - 特許庁

To reduce damage to a base layer due to plasma by a method wherein at least one buffer layer out of buffer layers, which respectively have an optical gap lower than a specified value and exist between the P-type semiconductor layer and the intrinsic semiconductor layer and between the N-type semiconductor layer and the intrisic semiconductor layer in a semiconductor layer, is provided in the semiconductor layer.例文帳に追加

短波長光の有効利用が可能ないわゆるワイドギャップ半導体層を有する光起電力素子のように、ｎ型半導体層、及びｐ型半導体層が真性半導体層を挟んで積層されてなり、前記ｎ型半導体層の光学ギャップ（Ｅｇ_n）、及び前記ｐ型半導体層の光学ギャップ（Ｅｇ_p）の少なくとも一方が前記真性半導体層の光学ギャップ（Ｅｇ_i）よりも小さい半導体層を有する光起電力素子において、、その開放電圧や短絡電流等の特性を改良する。 - 特許庁

In the manufacturing method of dye sensitizing solar cells where at least a transparent conductive layer, a metal oxide semiconductor layer where a dye is made to adsorb, a change transportation layer, a conductive layer, and/or conductive catalyst layer are formed successively, the metal oxide semiconductor layer should be formed by applying metal alkoxide or metal oxide gel to the transparent conductive layer on the substrate prior to plasma treatment.例文帳に追加

少なくとも、基板上に透明導電層、色素を吸着させた金属酸化物半導体層、電荷輸送層、導電層及び／または導電性触媒層を順に形成してなる色素増感太陽電池の製造方法において、上記金属酸化物半導体層が、基板上の透明導電層に金属アルコキシドまたは金属酸化物ゲルを塗布した後、これをプラズマ処理することにより形成されることを特徴とする色素増感太陽電池の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The treatment method for a treatment object, which generates glow discharge plasma by impressing an electric field from a power supply between opposing electrodes having two or more discharging spaces formed with three or more electrodes covered with a solid dielectric at least on one of the opposing surfaces under pressure near atmospheric pressure, supplies additional gas for every treatment gas introduced to the above two or more discharge spaces, and controls a discharge starting timing.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下、対向面の少なくとも一方を固体誘電体で被覆した３つ以上の電極によって形成された２つ以上の放電空間を有した対向電極間に一つの電源から電界を印加することによってグロー放電プラズマを発生させて被処理体を処理する方法において、前記２つ以上の放電空間に導入する処理ガス毎に添加ガスを供給して、放電開始タイミングを調整することを特徴とする放電プラズマ処理方法および装置。 - 特許庁

The method of manufacturing a multilayer circuit board comprises 1) bringing the surface of an electric insulation layer formed by hardening a hardening resin composition containing alicyclic olefin polymer or aromatic polyether polymer in contact with permanganate or plasma, 2) dry plating it by dry plating, 3) repeating the dry plating several times by wet or dry plating, or 4) plating by wet plating and then annealing to form a conductor layer.例文帳に追加

脂環式オレフィン重合体又は芳香族ポリエーテル重合体を含有する硬化性樹脂組成物が硬化してなる電気絶縁層の表面を、１）過マンガン酸塩又はプラズマと接触させ、次いで乾式メッキすることによって、２）乾式メッキし、次いで湿式メッキ又は乾式メッキすることによって、３）乾式メッキを複数回繰り返した後、湿式メッキをすることによって、又は４）メッキした後、アニーリングすることによって導電体層を形成することを含む多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus further includes an electromagnetic wave supply mechanism for supplying the electromagnetic wave such as infrared light, for controlling the temperature of the substrate to be processed to surfaces of the substrate to be processed or into the processing chamber.例文帳に追加

被処理基板を戴置する基板電極を備えた処理室と、該処理室に所定量のガスを供給するガス供給機構と、該処理室の圧力またはガス密度を制御可能な排気速度可変の真空排気系と、該処理室内に電磁波を供給してプラズマを発生する機構と、該電磁波を該処理室内に供給するための電磁波透過窓と、を備えたプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を制御するため赤外線等の電磁波を被処理基板の表面または処理室に供給する電磁波供給機構を備える。 - 特許庁

Then the gaseous raw material is converted to the plasma to form the gas barrier thin film coating on the inside surface of the plastic container.例文帳に追加

本発明に係るガスバリア性薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器の内部を排気開始すると同時に若しくは排気開始から所定時間経過した排気途中段階で、原料ガスをプラスチック容器の内部に供給開始し、プラスチック容器の内部の排気と原料ガスの供給とを同時に行なってプラスチック容器の内部を原料ガスに置換するとともにプラスチック容器の内圧を所定成膜圧力まで到達させたのち、原料ガスをプラズマ化してプラスチック容器の内表面にガスバリア性薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display panel comprises a phosphor layer containing a red phosphor layer, a green phosphor layer, and blue phosphor layer.例文帳に追加

本発明は、赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、及び青色蛍光体層を含む蛍光体層が備えられたプラズマディスプレイパネルにおいて、隔壁の高さの１／２地点での赤色、緑色、及び青色蛍光体層のうちの少なくとも一つの側面の厚さが下記条件を満たすプラズマディスプレイパネルを提供する： Ｄ＝（Ｓ−２Ｌ）／Ｓ Ｄ≧０.６４前記で、Ｄは放電空間の幅であり、Ｓは隔壁高さの１／２地点での隔壁の間の距離であり、Ｌは隔壁の高さの１／２地点での隔壁に塗布された蛍光体層の側面の厚さである。 - 特許庁

This thin film formation method has a process for decomposing at least a part of molecule incorporated in raw gas by making catalyst 9 function on raw gas, a process for generating active seeds of elements constituting molecule by performing plasma treatment for raw gas whereon the catalyst 9 is made to function, and a process for forming a thin film which is practically formed of at least one kind of elements which constitute molecule on a substrate 7.例文帳に追加

本発明の薄膜形成方法は、原料ガスに触媒９を作用させて、前記原料ガスに含まれる分子の少なくとも一部を分解する工程、前記触媒９を作用させた原料ガスをプラズマ処理して、前記分子を構成する元素の活性種を生成する工程、及び前記活性種を基板７の表面に供給して、前記基板７上に前記分子を構成する元素の少なくとも１種から実質的になる薄膜を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display device includes:a panel adapted to display images; a chassis base attached to the panel and adapted to support the panel; a circuit board adapted to supply prescribed signals to electrodes of the panel; a signal transmission unit adapted to electrically connect the electrodes of the panel to the circuit board, and including at least one circuit element; and a chassis bed adapted to support the signal transmission unit.例文帳に追加

画像を表示するパネルと、パネルに結合されてパネルを支持するシャーシベースと、パネルの電極に所定の信号を印加するための回路基板と、パネルの電極と回路基板との電気的連結のために設置され、少なくとも一つの回路素子が実装された信号伝達手段と、信号伝達手段を支持するシャーシベッドと、を備え、シャーシベッドには、信号伝達手段に装着された回路素子から発生する熱を循環させるのに適した少なくとも一つの第１の換気口が形成されていることを特徴とするプラズマ表示装置。 - 特許庁

To provide an appropriate material and a method of forming barrier rib for plasma display capable of sufficiently developing a pattern part having sufficient height and accuracy without breaking the pattern and capable of practically eliminating a non-pattern part perfectly and eliminating the residual insoluble material.例文帳に追加

パターン状に露光される感光性組成物層が隣接して設けられる無機粒子を含有する隔壁形成組成物を可撓性支持体上に担持する隔壁形成材料及びそれを用いた隔壁形成方法に関し、とりわけ現像された感光性組成物層に対応する該隔壁形成組成物の現像処理に際して、高さと精度が十分なパターンが崩れることなく、パターン部分は十分に現像され、非パターン部分は実質的に完全に除去されて残留不溶解物も除かれる効果的な、プラズマディスプレー用に好適な隔壁形成材料及び隔壁形成方法を提供すること。 - 特許庁

Oxygen gas is introduced into the PCVD chamber and high frequency electric power is supplied to the electrodes to generate oxygen plasma, while negative bias voltage is applied on the rails in the chamber to remove a carbon film depositing inside of the chamber.例文帳に追加

内部に配置された電極に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、基板上にカーボン膜を形成するＰＣＶＤ室を含む複数の真空室を有し、真空室のそれぞれに敷設されたレール上を基板搭載キャリアを受け渡しながら移動させ、各真空室で基板に所定の処理を行う情報記録ディスクの製造装置及び方法であって、ＰＣＶＤ室に酸素ガスを導入し、電極に高周波電力を供給して酸素プラズマを発生させるとともに、室内のレールに負のバイアス電圧を印加して内部に付着したカーボン膜を除去する構成としたことを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display member has barrier ribs on a substrate, each consisting of three or more layers containing low-melting-point glass and filler whose content ratios are different.例文帳に追加

基板上に、低軟化点ガラスとフィラーを含有しそれらの含有比率がそれぞれ異なる３層以上の層からなる隔壁を有するプラズマディスプレイ用部材であって、最も上の層のフィラー含有量をＦ_１（重量％）、上から２番目の層のフィラー含有量をＦ_２（重量％）、上から３番目の層のフィラー含有量をＦ_３（重量％）とし、さらに隔壁の高さに対する、最も上の層の厚みの占める割合をＴ_１（％）、上から２番目の層の厚みの占める割合をＴ_２（％）、上から３番目の層の厚みの占める割合をＴ_３（％）としたときに、下記式（１）〜（８）を満足する。 - 特許庁

A method of producing the plasma display comprises the steps of forming a transparent electrode film 30 on a substrate glass 21, of forming the silver electrode 31 on the transparent electrode film 30, of coating the silver electrode 31 with the black stripe 33 for preventing contact with the dielectric layer 23 and of forming the dielectric layer 23 so as to cover the substrate glass 21, the transparent electrode layer 30 and the black stripe 33.例文帳に追加

また、プラズマディスプレイの製造方法においては、基板ガラス２１上に透明電極膜３０を形成する透明電極膜形成工程と、透明電極膜３０上に銀電極３１を形成する電極形成工程と、銀電極３１を、誘電体層２３との接触を防止するためにブラックストライプ３３で被覆する電極被覆工程と、基板ガラス２１と透明電極膜３０とブラックストライプ３３とを覆うように誘電体層２３を形成する誘電体層形成工程とを備えた製造方法を採用した。 - 特許庁

This is the power supply device for plasma generation in which the electrostatic capacity value C2 in the gas region is such a level as cannot be ignored compared with the electrostatic capacity value C1 of the dielectric, and AC power is supplied through a transformer 4.例文帳に追加

ガス領域の静電容量値Ｃ２が誘電体の静電容量値Ｃ１に比べて無視できないような大きさであり、トランス４を介して交流電力を供給するプラズマ発生用電源装置において、放電負荷５に対して並列または直列にインダクタンスを有するように構成すると共に、上記インダクタンスの値を、トランス４の２次側におけるインダクタンスの値Ｌが、放電期間における放電負荷の静電容量値Ｃ１により決定される値と、非放電期間における放電負荷の静電容量値Ｃ３＝（Ｃ１×Ｃ２）／（Ｃ１＋Ｃ２）により決定される値との間にあって、下記の式（１）を満足する値となるように設定する。 - 特許庁

Organic or inorganic substance in the material gas, in the form of plasma, is deposited on the chip material to form a film and then the chip material is dissolved and removed to form a recess matching the substance being detected.例文帳に追加

バイオセンサーにおいて生体成分中の目的とする被検出物質を捕捉して検出するセンサーチップは陽電極及び陰電極が所定の間隔をおいて相対配置され、該陰電極上に被検出物質からなるチップ素材が電気的絶縁状態で配置された反応容器内に有機又は無機化合物の原料ガスを導入して所定のガス圧に調整した状態で陽電極及び陰電極間に印加された電圧により発生するグロー放電により原料ガス中の有機又は無機物質をプラズマ化してチップ素材に付着堆積させて製膜した後、チップ素材を溶解除去して被検出物質に一致する凹部を有して形成する。 - 特許庁

A model baked article is formed by baking a molded article containing inorganic components of a barrier rib provided for a plasma display substrate and baking conditions are determined so as to make the bulk density of the model baked article becomes 89-98% of a theoretical density by changing a baking temperature and a time.例文帳に追加

上記課題は、無機成分を含む成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、同条件で焼成を行った基板上パターンの物性とモデル焼成物のかさ密度を予め関連付けた上で、特定の焼成条件で得られるモデル焼成物のかさ密度から同条件で焼成を行った際の基板上パターンの物性を予測することにより、また、プラズマディスプレイ基板に設ける隔壁の無機成分を含有する成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、焼成温度、時間を変更してモデル焼成物のかさ密度が理論密度の８９〜９８％となるように焼成条件を決定することによって解決することができる。 - 特許庁

The thin film is formed by heating the vapor deposition material storage container at the temperature above the temperature at which the vapor deposition material is evaporated, applying the positive electric potential to the vapor deposition material storage container, and emitting the electrons emitted from the plasma gun to the vapor deposition material.例文帳に追加

アノード電極を有するプラズマガンを備えた真空成膜装置を用いて、該真空成膜装置内の蒸着材料収納容器に保持された蒸着材料を蒸発させ、基材の被成膜面に薄膜を形成する第一薄膜形成工程と、第一薄膜形成工程と同様にして、上記薄膜上にさらに薄膜を形成する第二薄膜形成工程と、を備える多段蒸着フィルムの製造方法を採用し、薄膜の形成を、蒸着材料収納容器を上記蒸着材料が蒸発する温度以上に加熱するとともに、蒸着材料収納容器に正電位を印加してプラズマガンから放出される電子を蒸着材料に照射しながら行なう。 - 特許庁

Thus, a problem of a conventional plasma display apparatus, asynchronization between video and audio because of different processing time between video and audio signals can be solved.例文帳に追加

Ｉ／Ｐ変換回路１１、信号処理回路１２及び駆動回路１３を備え入力される映像信号に基づいてプラズマディスプレイパネル１４を表示駆動させるための映像信号処理回路部と、前記映像信号に同期して入力される音声信号に基づいて音声を出力する音声信号処理回路部とを有し、前記音声信号処理回路部に、映像信号の種類に応じて前記映像信号処理回路部の最終段における映像信号と音声信号処理回路部の最終段の音声信号とを同期させるように音声信号を所定時間遅延させるため、メモリー１６、遅延時間制御装置１７による遅延手段を設けた。 - 特許庁

The method is for manufacturing a plasma display member comprising a first dielectric layer to cover an electrode pattern, a second dielectric layer to cover the first dielectric layer, and a third dielectric layer to cover the second dielectric layer.例文帳に追加

電極パターンを覆う第一の誘電体層、該第一の誘電体層を覆う第二の誘電体層、および該第二の誘電体層を覆う第三の誘電体層を有するプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、軟化点がＴｓ１（℃）である第一の誘電体前駆体層、該第一の誘電体前駆体層を覆い、軟化点がＴｓ２（℃）であるガラス粉末を全無機成分中８５体積％以上含む第二の誘電体前駆体層、および該第二の誘電体前駆体層を覆い、有機成分と無機成分からなり、軟化点がＴｓ３（℃）であるガラス粉末を全無機成分中８５体積％以上含む第三の誘電体前駆体層を形成した後、該三層の誘電体前駆体層を同時焼成する。 - 特許庁

In the method for driving the plasma display panel, a plurality of first electrodes and second electrodes are arranged parallel to each other adjacently, a plurality of third electrodes are arranged to cross the first and second electrodes.例文帳に追加

並行する第１および第２の電極が互いに隣接して複数配置されると共に、該第１および第２の電極に交差するように第３の電極が複数配置されてなるプラズマディスプレイパネルの駆動方法において、各第２の電極と、該各第２の電極に隣接する一方の各第１の電極との間の放電により表示を行う第１フィールドと、各第２の電極と、該各第２の電極に隣接する他方の各第１の電極との間の放電により表示を行う第２フィールドとを、時間的に分離してなり、該第１および第２フィールドは、それぞれ前フィールド終了時に残留する壁電荷を消去するための放電を行うフィールドリセット期間と、複数のサブフィールドとを有し、該複数のサブフィールドの各々は、リセット期間と、アドレス期間と、維持放電期間とを含むように駆動する。 - 特許庁