「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(571ページ目) - Weblio英語例文検索

The plasma display panel comprises transparent electrodes forming a pair at each discharge cell; protruded transparent electrodes protruding from each transparent electrode in a shape of jointing each rectangular shape in trapezoidal shape; and connecting parts for connecting the transparent electrodes disposed respectively at adjacent discharge cells and expanding from side parts of the transparent electrodes positioned near to the central parts of the discharge cells.例文帳に追加

本発明に係るプラズマディスプレイパネルは放電セルのそれぞれで対を成す透明電極と、台形形態に四角形形態が連結された形態で前記透明電極のそれぞれから突出される突出透明電極と、隣接の放電セルにそれぞれ配置された前記突出透明電極を連結して前記放電セルの中心部の近くに位置する前記突出透明電極の側部から延びる連結部とを具備する。 - 特許庁

High voltage is applied across the upstream electrode 8 and the downstream electrode 9 to produce plasma in the through-holes (cells) 4a of the honeycomb structures 4 and the space gaps between the honeycomb structures 4.例文帳に追加

このハニカム構造体４のうち最も上流に配置されるハニカム構造体４−１の上流側に上流側電極８を配置し、最も下流に配置されるハニカム構造体４−４の下流側に下流側電極９を配置し、上流側電極８と下流側電極９との間に高電圧を印加し、ハニカム構造体４の貫通孔（セル）４ａとハニカム構造体４間の空間ギャップ１２にプラズマを発生させる。 - 特許庁

A method for processing the organic material film comprises a step of forming a resist film 13 on a partial area of a substrate, a step of forming an organic material film 11 on the substrate according to a plasma CVD method so as to cover the film 13, and a step of releasing and removing the film 11 disposed on the film 13 together with the film 13 by removing the film 13.例文帳に追加

基板上の一部の領域にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を覆うようにプラズマＣＶＤ法によって、基板上に有機材料膜１１を形成する工程と、レジスト膜１３を除去することによって、レジスト膜１３とともにレジスト膜１３上に位置する有機材料膜１１を剥離除去する工程とを包含する、有機材料膜の加工方法である。 - 特許庁

To provide an AC type plasma display device, capable of realizing high light emission efficiency by suppressing power consumption as for an AC type display device in a M×L matrix structure, which has a plurality of sustaining blocks having as one unit connection groups, where a plurality of sustaining electrodes are connected in common, and a plurality of scan drivers having a multistage output for applying a discharge voltage to the plurality of scanning electrodes.例文帳に追加

複数のサステイン電極を共通接続した結線群を１単位とする複数の維持ブロックと、複数のスキャン電極に放電電圧を印加するための多段出力を持つ複数のスキャンドライバを有する、Ｍ×Ｌマトリクス構造のＡＣ型プラズマディスプレイ装置において、消費電力を抑制し、高い発光効率を実現することができるＡＣ型プラズマディスプレイ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

With the manufacturing method of the watertight insulated wire with an insulation layer coated around the outer periphery of a stranded conductor composed of a plurality of stranded wires and at same time, with a gap between the element wires of the stranded conductor and the gap between the stranded conductor and the insulation layer filled with a watertight compound, the surface of the element wires is subjected to plasma treatment.例文帳に追加

複数の素線が撚り合わせてなる撚線導体の外周に絶縁層が被覆し、前記絶縁層の被覆と同時に前記撚線導体の素線相互間の空隙部および前記撚線導体と絶縁層間の空隙部に水密コンパウンドを充填する水密絶縁電線の製造方法において、前記素線の表面をプラズマ処理することを特徴とする水密絶縁電線の製造方法で解決できる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element comprises the steps of introducing a material gas between facing electrodes under a pressure near atmospheric pressure, in the case of forming the interlayer insulating film and/or the passivation film of the element, applying a pulse-like electric field between the opposed electrodes, thereby generating the glow discharge plasma in the material gas, and forming the interlayer insulating film and/or the passivation film.例文帳に追加

半導体素子における層間絶縁膜及び／又はパシベーション膜のプラズマＣＶＤ法による形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより、原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、層間絶縁膜及び／又はパシベーション膜の形成を行うことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 特許庁

The plasma display panel includes a first discharge cell with a first phosphor formed among a plurality of phosphors, a second discharge cell with a second phosphor formed among the plurality of phosphors, a pair of first sustaining electrodes formed on the first discharge cell and having a first area, and a pair of second sustaining electrodes formed on the second discharge cell and having a second area narrower than the first area.例文帳に追加

複数の蛍光体のうち第１の蛍光体が形成された第１の放電セルと、前記複数の蛍光体のうち第２の蛍光体が形成された第２の放電セルと、前記第１の放電セル上に形成され、第１の面積を有する第１の維持電極対と、前記第２の放電セル上に形成され、前記第１の面積よりも狭い第２の面積を有する第２の維持電極対と、を含む。 - 特許庁

The treatment agent for rheumatoid arthritis, juvenile chronic arthritis, and Castleman's disease which has, as an active ingredient, the IL-6 receptor antibody having improved material properties, safety, immunogenicity, pharmacokinetics (retentivity in blood plasma), and antigen neutralization which are superior to tocilizumab, provided by properly combining CDR region amino acid sequence modification, variable region amino acid sequence modification, and constant region amino acid sequence modification.例文帳に追加

ＣＤＲ領域アミノ酸配列の改変、可変領域アミノ酸配列の改変、定常領域アミノ酸配列の改変を適切に組み合わせることでＴＯＣＩＬＩＺＵＭＡＢより優れた抗原中和能、薬物動態（血漿中滞留性）、免疫原性、安全性、物性が改善された抗ＩＬ−６受容体抗体を有効成分とする関節リウマチ、小児慢性関節炎またはキャッスルマン病の治療剤。 - 特許庁

To provide a reformer capable of reforming a surface in response to a change in a thickness of a workpiece, an image forming device having this reformer and a postprocessing device of the image forming device, in the reformer for reforming the surface by contacting plasma with a processing object surface of the sheet-like workpiece formed by applying the image formation in the image forming device.例文帳に追加

画像形成装置において画像形成が施されること等により形成されたシート状の被加工物の被加工面にプラズマを接触させて同面の改質を行う改質装置であって、被加工物の厚みの変化に対応して表面改質を行うことが可能な改質装置、この改質装置を備えた画像形成装置、画像形成装置の後処理装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of injecting impurities into a portion of the surface of at least a substrate (silicon substrate 100) or an insulating film (SiO_2 film 102) on the substrate, subjecting the silicon substrate 100 containing impurities to plasma treatment 108 using noble gas without applying a bias voltage to the silicon substrate 100, and forming a resist on the silicon substrate 100 containing impurities.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、少なくとも基板（シリコン基板１００）または基板上の絶縁膜（ＳｉＯ_２膜１０２）の表面の一部に不純物を注入する工程と、シリコン基板１００にバイアス電圧を印加せずに、不純物を含むシリコン基板１００に対して、希ガスを用いたプラズマ処理１０８を行う工程と、不純物を含むシリコン基板１００上にレジストを形成する工程と、を備える。 - 特許庁

According to one embodiment, the method has steps of: providing a substrate containing a metal-containing barrier layer having the oxidized surface layer; exposing the oxidized surface layer to a flow of a first process gas containing plasma-excited argon gas to activate the oxidized surface layer; and applying substrate bias electric power during the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas.例文帳に追加

一の実施例によると、当該方法は、酸化表面層を有する金属含有バリア層を含む基板を供する工程、前記酸化表面層を活性化させるために、プラズマ励起されたアルゴン気体を含む第1処理気体流へ前記酸化表面層を曝露する工程、及び、前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程中に基板バイアス電力を印加する工程を有する。 - 特許庁

To provide dielectric formation glass paste for a plasma display panel treatable as a non-hazardous material without using an aqueous solvent as a solvent which can provide a coating film having a uniform thickness without increasing an amount of the solvent, hardly causes discoloration due to a reaction with an Ag electrode even if calcinated, and can provide a dielectric layer having high transmittance, a thin film thickness, and a low dielectric constant.例文帳に追加

溶剤として水系溶剤を用いなくても、非危険物として取り扱うことができ、また、溶剤の量を増やさなくても、均一な厚みを有する塗布膜を得ることができ、焼成しても、Ａｇ電極との反応による変色が起こり難く、高い透過率を有し、しかも、膜厚が薄く、低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電形成ペーストを提供することである。 - 特許庁

The carbon material made by a first step to fill a mixed powder of a carbon aggregate and a binder in a mold and a second step to sinter the mixed powder by the spark plasma sintering method while pressing the mixed powder is characterized by having an HSD value in Shore hardness of 60 or more and an anisotropic ratio of coefficient of thermal expansion, electric resistivity or thermal conductivity of 1.5 or more.例文帳に追加

型内に炭素骨材及びバインダーを混合した混合粉を充填する第１ステップと、上記混合粉を加圧しつつ、放電プラズマ焼結法にて焼結する第２ステップと、により作製される炭素材料であって、ショア硬さのＨＳＤ値が６０以上で、熱膨張率の異方比、電気抵抗率の異方比、又は熱伝導率の異方比が１．５以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The total number of carbon atoms Cn and the total number of oxygen atoms On in a mixed gas of at least one compound gas selected from a group of compound gases consisting of gases of hydrocarbons, alcohols, ethers, aldehydes, carboxylic acids, esters and geons with oxygen gas meets a relation On/Cn>1 and the magnetic material layer or the diamagnetic material layer is etched in a plasma atmosphere formed with the mixed gas.例文帳に追加

炭化水素類ガス、アルコール類ガス、エーテル類ガス、アルデヒド類ガス、カルボン酸類ガス、エステル類ガス及びジオン類ガスからなる化合物ガス群から選択された少なくとも一種の化合物ガス、及び酸素ガスを有する混合ガス中の全炭素原子数Ｃｎと全酸素原子数ＯｎとがＯｎ／Ｃｎ＞１の関係を満たし、該混合ガスを用いて形成したプラズマ雰囲気下で、磁性体層又は反磁性体層をエッチングする。 - 特許庁

There are provided a battery separator and a secondary battery using the battery separator in which a polyethylene resin surface is formed on a nonwoven fabric, which is made of polypropylene resin as a main component material and structured with bonded pieces of the polypropylene resin, and the polyethylene resin surface is then subjected to a hydrophilization treatment, such as a corona discharging treatment, a plasma treatment, a UV ozone treatment, or a sulfonation treatment.例文帳に追加

ポリプロピレン系樹脂を主構成材料とし前記ポリプロピレン系樹脂同士が結着することによって構成された不織布に、ポリエチレン系樹脂表面を形成し、次いで、ポリエチレン系樹脂表面に親水化処理、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理やスルホン化処理を施したことを特徴とする電池セパレータ及び該電池セパレータを用いた二次電池を提供する。 - 特許庁

In one embodiment, a method for forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer comprises: dynamically ramping up a silane gas supplied in a gas mixture to a surface of a substrate disposed in a processing chamber; dynamically ramping down an RF power applied in the gas mixture supplied to the processing chamber to form a plasma in the gas mixture; and forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer on the substrate.例文帳に追加

一実施形態では、真性微結晶シリコン層を形成する方法は、加工チャンバ内に配置された基板の表面へガス混合物中で供給されるシランガスを動的に増加させるステップと、加工チャンバへ供給されるガス混合物中で印加されるＲＦ電力を動的に減少させて、ガス混合物中でプラズマを形成するステップと、基板上に真性微結晶シリコン層を形成するステップとを含む。 - 特許庁

When an interlayer insulation film LI2 is formed by a plasma CVD method, the flow rate of porogen supplied into a CVD device is adjusted to 30% or more but not exceeding 60% of the total flow rate of porogen and methyl diethoxysilane to reduce the size of holes 10 formed within the interlayer insulation film LI2, thereby preventing an altered layer CL from being formed on the surface of the interlayer insulation film LI2 by process damage.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法によって層間絶縁膜ＩＬ２を形成する際にＣＶＤ装置内に供給するポロジェンの流量を、ポロジェンおよびメチルジエトキシシランの合計の流量の３０％以上６０％以下とすることで、層間絶縁膜ＩＬ２内に形成される空孔１０の大きさを小さくし、プロセスダメージによって層間絶縁膜ＩＬ２の表面に変質層ＣＬが形成されることを防ぐ。 - 特許庁

The method for examining an object with complication risk in heart failure includes: (a) obtaining a biological sample from the object, preferably serum or plasma derived from peripheral blood; (b) measuring the level of galectin-3 as a non-myocyte marker in the sample; (c) comparing the level of the marker with the standard level; and (d) determining that an increase in the marker level shows the complication risk in heart failure.例文帳に追加

ａ）対象の生体試料、好ましくは末梢血液に由来する血清または血漿、を入手し、ｂ）該試料中の非筋細胞マーカーとしてガレクチン−３のレベルを測定し；ｃ）該マーカーのレベルを標準のレベルと比較し、次いで、ｄ）該マーカーのレベル上昇が心不全の合併症の危険性を判断することを特徴とする、心不全の合併症の危険性がある対象の検査方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of a plasma display panel comprising a front plate with electrodes and a dielectric layer formed on a glass substrate and a back plate, which are arranged to be opposed to each other, a plurality of layers of electrode paste are applied to defective parts in the pattern of the electrodes, thereby repairing the defective parts.例文帳に追加

上記目的を達成するため、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、ガラス基板上に電極および誘電体層を形成する前面板と、背面板とを、対向配置して形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記電極のパターンの欠陥部に対して、複数層の電極ペーストを塗布することによって補修することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。 - 特許庁

To solve the problem, in the plasma display panel, electrodes and a dielectric layer are formed on at least one substrate in which the paste used for forming the dielectric layer contains a glass material and a binder resin, and content represented by the volume fraction to a dielectric glass material of the binding resin contained in the paste is 35-50%.例文帳に追加

上記の課題を解決するために、本発明のプラズマディスプレイパネルは、少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記誘電体層の形成に用いるペーストが、ガラス材料およびバインダー樹脂を含み、かつ、ペーストに含まれるバインダー樹脂の誘電体ガラス材料に対する体積分率で表記した含有量が３５％以上５０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

A hemoglobin material intermediate product is provided, which is used for producing an artificial oxygen carrier of a hemoglobin base and is characterized in that the pH is 7.1 to 7.5 in a thawed solution after freeze-preservation of a red blood cell liquid attained by cleaning and removing plasma, leukocytes and blood platelets, by using an isotonic cleaning solution containing a pH adjuster, from a red blood cell concentrated liquid.例文帳に追加

ヘモグロビンベースの人工酸素運搬体製造に用いるヘモグロビン原料の中間生成物であって、赤血球濃厚液から、ｐH調整剤を含有する等張の洗浄液を用いて血漿、血小板、白血球を洗浄除去して得た赤血球液を、凍結保存した後解凍した液のpHが7.1〜7.5である事を特徴とするヘモグロビンベースの人工酸素運搬体製造に用いるヘモグロビン原料中間生成物。 - 特許庁

To provide a display surface protection panel which cleans foreign matters such as dust of a display surface of a liquid crystal display device without reducing work efficiency and reduces the possibility that foreign matters such as dust penetrate a gap immediately after being cleaned, and to provide a display device and a method for manufacturing the display device, with respect to various image display devices displaying images by liquid crystal, plasma, and organic EL display panels.例文帳に追加

液晶、プラズマ、有機ＥＬなどの表示パネルにより画像を表示することができる各種の画像表示装置において、作業効率を低下させずに液晶表示装置の表示面のごみや埃など異物を清掃し、また清掃した直後にごみや埃など異物が入り込んでしまう可能性を低減する表示面保護パネル、表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface processing method has a third step to introduce an ion source 31 of a gaseous carbon cluster into a vacuum chamber 12 in which the workpiece 32 is contained without using a carrier gas, subsequently to apply a high frequency voltage to the ion source and making it into plasma to generate a carbon cluster ion 33, and to apply a negative voltage to the workpiece 32 and to ion process it by making its surface irradiated with the carbon cluster ion 33.例文帳に追加

被加工物３２が収容された真空槽１２中に、キャリアガスを用いずに気体状の炭素クラスターイオン源３１を導入後、高周波電圧を印加してプラズマ化して炭素クラスターイオン３３を生成させ、被加工物３２に負電圧を印加して表面に炭素クラスターイオン３３を照射することによりイオン加工する第３工程とを有することを特徴とする表面加工方法。 - 特許庁

After that, the copolymer thin film is further treated by an electric discharge with oxygen or an oxygen-containing gas as a plasma source, and the polymer component originated from the hydrocarbon-based monomer is removed by etching, and simultaneously, the silicon-based polymer part is oxidized and converted into silicon oxide to obtain the porous silicon oxide thin film.例文帳に追加

一定割合のケイ素系モノマーと炭化水素系モノマーの混合ガスのプラズマ重合によって共重合薄膜を形成したのち、該共重合薄膜を更に酸素乃至は酸素含有ガスをプラズマ源とする放電にて処理を行い、炭化水素系モノマー由来ポリマー成分をエッチング除去すると同時にケイ素系ポリマー部を酸化して酸化ケイ素に変換して得られることを特徴とする多孔性酸化ケイ素薄膜。 - 特許庁

In a device for performing a chemical vapor deposition on a substrate 18 placed in a processing chamber by supplying a processing gas to the substrate 18 from a shower head electrode 20 and by generating a plasma trenches 74 having a large aspect ratio are made on the insulating surface 72 of the outside surface of an insulating member 70 supporting the shower head electrode 20.例文帳に追加

処理室１０内に配置された基体１８に対し、絶縁状態で配置されたシャワーヘッド電極２０から処理ガスを分散供給して発生したプラズマによる化学蒸着処理によって基体１８を蒸着する装置において、本発明はシャワーヘッド電極２０を支持する絶縁部材７０の外面である絶縁面７２に高いアスペクト比を有する溝のような造作７４を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The optical element has at least one layer made of low refractive index material 105 and a layer made of high refractive index material 107 formed alternately as a damage suppression film, on a substrate 101 made of a thermoplastic transparent resin cycloolefin polymer having oxidation preventive function, wherein at least the layers made of high refractive index material are formed on the condition that the plasma is generated.例文帳に追加

低屈折率材料（１０５）から成る層および高屈折材料（１０７）から成る層を、交互に少なくとも一層ずつ、酸化防止機能を有する熱可塑性透明樹脂シクロオレフィンポリマーから成る基板（１０１）上に損傷抑制膜として形成した光学素子であって、少なくとも高屈折率材料から成る層がプラズマ状態を発生させた条件で成膜されたものである。 - 特許庁

A method of a semiconductor device including a semiconductor chip mounted on a wiring board by flip-chip bonding method includes steps of plasma-treating at least one surface of the semiconductor chip, a mounting board and a bump, before or after the mounting of the semiconductor chip on the wiring board, and then injecting an epoxy-based underfill into a gap between the semiconductor chip and the mounting board.例文帳に追加

半導体チップをフリップチップボンディング方式により配線基板に実装する半導体装置において、半導体チップを配線基板に実装する前、または実装後に、半導体チップ、実装基板又はバンプの少なくとも一つの表面をプラズマ処理し、次いで、半導体チップと実装基板との間隙にエポキシ系アンダーフィル材を注入することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The separating material for plasma or blood serum produced by a fiber assembly forming process for separating and dispersing a fiber group mainly composed of extremely thin drawn fibers with a fiber diameter of 4 μm or less by use of a gas as a dispersion medium, and integrating the dispersed individual fibers to form a fiber assembly and a molding process for molding the fiber assembly into a desired shape.例文帳に追加

本発明の血漿又は血清用分離材は、気体を分散媒体として使用して、繊維径が４μｍ以下の極細延伸繊維を主体とする繊維群を個々の繊維に分離させるとともに分散させ、この分散した個々の繊維を集積して繊維集合体を形成する繊維集合体形成工程と、前記繊維集合体を所望形状に成形する成形工程、により製造したものである。 - 特許庁

This method has a surface treating process wherein the solid material projecting from the surface of the base 10 containing this material and a thermoplastic binder resin is removed by applying a plasma discharge treatment to the surface and a molding process wherein a sheet member is stacked integrally on the surface of the surface treated base 10 simultaneously with pressure molding of the surface treated base 10.例文帳に追加

本発明では、固形材料と、熱可塑性のバインダ樹脂とを含む基材１０の表面をプラズマ放電処理して、この表面より突出する固形材料を除去する表面処理工程と、表面処理した基材１０の加圧成形と同時に、表面処理された基材１０の表面にシート部材を積層一体化する成形工程とを備える積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The polarizing plate is obtained by sticking a surface of a film subjected to a plasma discharge treatment under a pressure of 20-200 kPa on a polarizer in which iodine or a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol film, under the presence of substituents selected from at least a hydroxyl group, carboxyl group and epoxy group, and a reactive gas containing an organic compound having an unsaturated bond.例文帳に追加

少なくとも水酸基、カルボキシル基、エポキシ基から選ばれる置換基および、不飽和結合を有する有機化合物を含有する反応性ガス存在下で、２０〜２００ｋＰａの圧力にてプラズマ放電処理が施されたフィルムのプラズマ放電処理面を、ポリビニルアルコール系フィルムに沃素あるいは２色性色素を吸着させ配向させた偏光子に貼合して得られたことを特徴とする偏光板。 - 特許庁

Provided are generation systems 22 and 38 each of which is equipped with a plasma-type gasification melting furnace 1 for gasifying objective combustibles 23 under temperatures and oxygen concentrations favorable for gasification; a gas refiner 26 for refining the gases obtained by the gasification to form a refined gas 27 devoid of harmful things; and generators 30 and 43 each of which generates electricity by using the gas 27.例文帳に追加

炭素と水素とを含有する燃焼対象物２３を、ガス化に適した温度と酸素濃度下においてガス化するプラズマ式ガス化溶融炉１と、このガス化によって得られたガス化ガス２５を精製することによって有害物を除去した精製ガス２７にするガス精製器２６と、該精製ガス２７を用いて発電を行う発電装置３０，４３とを有するプラズマ式ガス化溶融炉を備えた発電システム２２，３８である。 - 特許庁

The titanium oxide film having a multilayer structure, in which an upper layer film containing the rutile type titanium oxide less in the crystal defects is formed on an under layer film, can be obtained by sputtering a target containing titanium in a plasma containing oxygen while controlling the substrate temperature and the sputtering pressure on the surface of the substrate, on which the under layer film composed of crystal oriented rutile type titanium oxide is formed.例文帳に追加

結晶配向したルチル型酸化チタンからなる下層膜が形成された基板表面に、基板温度及びスパッタリング圧を制御した状態で、酸素を含むプラズマ中でチタンを含むターゲットをスパッタリングすることによって、前記下層膜の表面に結晶欠陥少ないルチル型酸化チタンが含まれた上層膜を形成した複層構造を有する酸化チタン膜を得ることができる。 - 特許庁

A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment.例文帳に追加

排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the adhesive optical retardation film by laminating the adhesive layer to at least one surface of the optical retardation obtained by stretching a polycarbonate-based film, is characterized by making the surface free energy of the optical retardation film surface to which the adhesive layer is to be laminated 50 mN/m or higher with plasma irradiation under atmospheric pressure and subsequently laminating the adhesive layer thereto.例文帳に追加

ポリカーボネートを延伸して得られる位相差板の少なくとも片面に粘着剤層を積層して粘着型位相差板を製造する方法において、粘着剤層を積層する前記位相差板の表面を、大気圧下で、プラズマ照射によって表面自由エネルギー５０ｍＮ／ｍ以上とした後に粘着剤層を積層することを特徴とする粘着型位相差板の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of assembling and forming a plasma display panel constructed by arranging in opposition a front face side board forming a front face side group of electrodes and a back face side board forming a back face side group of electrodes and a process of aging by passing electricity between the front face side group of electrodes and the back face side group of electrodes in charged gas atmosphere after the assembly and forming.例文帳に追加

表面側電極群を形成してなる表面側基板と、背面側電極群を形成してなる背面側基板とを放電空間を形成するように対向配置してなるプラズマディスプレイパネルを組み立て形成する工程と、前記組み立て形成後、帯電ガス雰囲気中で、前記表面側電極群と前記背面側電極群との間で通電し、エージングを行う工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the drive circuit of a plasma display device being a matrix display device, power consumption in data drivers for supplying address pulses corresponding to display picture data is detected and a display control means such as controller 70 controls power consumption so as to always become below a prescribed value by eliminate specific components such as the high frequency range component of input picture data in accordance with the detected value.例文帳に追加

マトリクス表示装置であるプラズマディスプレイ装置の駆動回路において、表示装置のアドレス電極配線に表示画像データに応じたアドレスパルスを供給するデータドライバ９における消費電力を検出し、その値に応じてコントローラ７０などの表示画像制御手段が入力画像データの例えば高域成分などの特定成分を除去し、常時に消費電力が所定値以下となるように制御する。 - 特許庁

The plasma display panel includes a first and a second substrates oppositely disposed each other with a fixed distance, a partition for dividing a plurality of discharge cells disposed between the first and second substrates, an electrode sheet having a discharge electrode pair for discharging in a discharge cell, and a fixing member disposed on the side plane of the electrode sheet for fixing the electrode sheets between the first and second substrates.例文帳に追加

所定の間隔で相互対向して配置される第１基板及び第２基板と、第１基板と第２基板との間に配置され、複数の放電セルを区画する隔壁と、放電セルで放電を起こす放電電極対を備える電極シートと、電極シートを第１基板と第２基板との間に固定するように、電極シートの側面に配置される固定部材と、を備えるプラズマディスプレイパネルである。 - 特許庁

An amount of current supplied between electrodes 36a, 36b of a plasma jet torch 12a is automatically adjusted according to a program of a current switching indication means 22 since it is made to automatically adjust a standard voltage output by a standard voltage output means 38 by switching the variable standard voltage output means 38 by a switching signal output from the current switching indication means 22 according to a prescribed program.例文帳に追加

電流切替指示手段22が所定のプログラムに沿って出力する切替信号で可変式の基準電圧出力手段38を切替操作し、基準電圧出力手段38の出力する基準電圧を自動的に調節するようにしているので、プラズマジェットトーチ12aの電極36a,36b間に供給する電流の量は電流切替指示手段22のプログラムに沿って自動的に調節される。 - 特許庁

In this method, prescribed thickness of glass paste for PDP partition dissolved in organic solvent having a boiling point of not less than 200°C is applied to the work 15 of plasma display panel, and heated at about 160°C to dry it in a conveyer type multistage drier 13 after the work is heated up from room temperature to predetermined temperature and kept at the latter temperature in advance.例文帳に追加

２００℃以上の沸点をもつ有機溶剤を主溶媒としたＰＤＰ隔壁用ガラスペーストを所定厚さに塗布したプラズマディスプレイパネルのワーク１５を、コンベア搬送式多段乾燥装置１３により約１６０℃に高温乾燥するプラズマディスプレイパネルのペースト乾燥方法において、前記ワーク１５を高温乾燥する前に、室温から所定温度に保持して予備昇温することを特徴とする。 - 特許庁

The crack repairing method for metal parts 13 having cracks 15, whereby the crack is washed and oxide layer is removed, and a repairing alloy 17 is applied by at least either of the cathode arc evaporation process and low-pressure plasma metallization so as to cover the crack 15, and the work 13 is heated at a temperature and with pressure enough to block the crack 15.例文帳に追加

金属部品（１３）のクラック修繕方法であって、このクラック修繕方法は、クラック（１５）を有する金属部品（１３）を提供し、クラック（１５）を洗浄して酸化物層を除去し、カソードアーク蒸着および低圧プラズマ溶射の少なくとも一方によって修繕合金（１７）を施してクラック（１５）を覆い、クラック（１５）を塞ぐのに十分な温度および圧力で部品（１３）を加熱することを含む。 - 特許庁

The insulating layer 11 containing silicon oxide of an insulating substance as a main constituent, a conductive layer 12 with silicon oxide of an insulating substance and molybdenum or tungsten of a conductive substance mixed therein, and an intermediate layer 13 gradually changing a coefficient of thermal expansion by mixing silicon oxide of an insulating substance and molybdenum or tungsten of a conductive substance therein are integrally connected by using a discharge plasma sintering device.例文帳に追加

絶縁性物質の酸化ケイ素を主成分とする絶縁層１１、絶縁性物質の酸化ケイ素および導電性物質のモリブデンまたはタングステンを混合した導電層１２、絶縁性物質の酸化ケイ素および導電性物質のモリブデンまたはタングステンを混合し、熱膨張率を段階的に変えた中間層１３を放電プラズマ焼結装置を用いて一体的に結合する。 - 特許庁

In the method for producing an optical article having an antireflection layer, a formed part having a three-dimensional shape is arranged on the space between a discharge electrode and a counter electrode arranged so as to be confronted, and discharge plasma is generated to form an antireflection layer on the surface of the formed part, the discharge electrode and the counter electrode have the shape to be screwed onto the formed part.例文帳に追加

対向して配置された放電電極及び対向電極の間に、三次元形状を有する成形品を配置し、放電プラズマを発生させて該成形品の表面に反射防止層を形成する光学物品の製造方法において、放電電極及び対向電極が該成形品と嵌合する形状を有していることを特徴とする反射防止層を有する光学物品の製造方法。 - 特許庁

Using a gas material of hydride, fluoride or chloride of silicon atoms, an amorphous semiconductor film is formed by the plasma CVD, using intermittent discharge at a repetition frequency of 10 kHz or lower and a duty ratio of 50% or less, and an element for accelerating the crystallization of the amorphous semiconductor film is introduced into the surface of this film to obtain a semiconductor film having a crystal structure for utilizing this element.例文帳に追加

これは珪素原子の水素化物またはフッ化物または塩化物によるガスを原料として、繰り返し周波数１０ｋＨｚ以下、デューティー比５０％以下の間欠放電を用いたプラズマＣＶＤ法により非晶質半導体膜を形成し、その表面に該非晶質半導体膜の結晶化を助長する元素を導入し、当該元素を利用して結晶構造を有する半導体膜を得る。 - 特許庁

A plasma display device which lights a display cell of a display panel 4 synchronizing with a frequency of a maintaining discharge waveform is provided with an integrating means 10 to integrate the number of pixel signals given for a predetermined period by each bit signal for gradation display, and a frequency changing means 11 to change the frequency of the maintaining discharge waveform based on the result of the integration by the integrating means 10.例文帳に追加

本発明は、維持放電波形の周波数に同期させて表示パネルの表示セルを点灯させるプラズマディスプレイ装置において、所定期間中に与えられる画素信号数を階調表示のためのビット信号単位で積算する積算手段と、該積算手段の積算結果に基づいて前記維持放電波形の周波数を変更する周波数変更手段とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display device includes a plurality of display cells and has a first sustain electrode, a second sustain electrode which is connected to a reference potential and which carries out sustain discharge with the first sustain electrode through a discharge space, and an address electrode, wherein electric capacitance between the second sustain electrode and the discharge space is controlled to be larger than electric capacitance between the first sustain electrode and the discharge space.例文帳に追加

複数の表示セルを含むプラズマディスプレイ装置であって、第１の維持電極と、この第１の維持電極との間で、放電空間を通じて維持放電を行う電極であって、基準電位に接続された第２の維持電極と、アドレス電極と、を備え、第２の維持電極と放電空間との間の電気容量を、第１の維持電極と放電空間との電気的容量よりも大きくした。 - 特許庁