「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(565ページ目) - Weblio英語例文検索

The device is provided with a discharge lamp La equipped with an airtight vessel 1 with gas as a discharge medium sealed in, an anode electrode 2a as well as a cathode electrode 2b arranged inside the airtight vessel 1, and a discharge plasma generating auxiliary device arranged inside the airtight vessel 1 and equipped with an electron source 10 supplying electrons into the gas above and a grid electrode 20 set in opposition to the electron source 10.例文帳に追加

放電媒体であるガスが封入された気密容器１と、気密容器１の内部に配置されたアノード電極２ａおよびカソード電極２ｂと、気密容器１内に配置され上記ガス中へ電子を供給する電子源１０および電子源１０に対向配置されるグリッド電極２０を有する放電プラズマ生成補助装置とを備えた放電ランプＬａを備えている。 - 特許庁

In the magnetic recording medium 10 constructed by successively forming a magnetic layer 2 composed of a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film 3 on a nonmagnetic supporting body 1, the surface of the carbon protective layer 3 is plasma treated and the protective layer 3 retains a lubricant formed by combining an ester compound of perfluoropolyether having a terminal hydroxyl group with a long chain carboxylic acid and an alkyl ester of a partially fluorinated carboxylic acid.例文帳に追加

非磁性支持体１上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層２、カーボン保護膜３が順次形成されて成る磁気記録媒体１０において、カーボン保護層３表面をプラズマ処理し、保護層３に、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物、および部分フッ化カルボン酸アルキルエステルを組み合わせた潤滑剤を保持させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the plasma display panel has a front face plate including a display electrode formed on a front face substrate, a dielectric layer formed to cover the display electrode, and the protection layer formed to cover the dielectric layer, and the front face plate is put under a moisture-less atmosphere, only in a period when a front face plate temperature is 400°C or less, after forming the protection layer.例文帳に追加

前面基板上に形成した表示電極と、この表示電極を覆うように形成した誘電体層と、さらにこの誘電体層を覆うように形成した保護層とを備える前面板を有するパネルの製造方法であって、前面板は、保護層の形成後、前面板温度が４００℃以下である期間のみ、水分レス雰囲気下とすることを特徴とする。 - 特許庁

In the plasma display panel, as the protective film 14 of magnesium oxide (MgO) formed on the dielectric glass layer 13, by forming the protective film 14 of magnesium oxide (MgO) to which oxide containing an element having electric negativity of 1.4 or more is added, adsorption of impure gas to the protective film 14 is suppressed, and stabilization of the discharge sustaining voltage and reduction of the panel brightness deterioration can be realized.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体ガラス層１３上に形成される酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の保護膜１４として、電気陰性度が１．４以上の元素を含む酸化物を添加した酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の保護膜１４を形成することによって、保護膜１４の不純ガス吸着を抑制し、放電維持電圧の安定化と、パネル輝度劣化の低減を図ることができる。 - 特許庁

This photocatalytic body 10 comprises a substrate 1 and a photocatalyst film 2 consisting essentially of Ti, O and C, formed on the substrate in such a way that fine TiO_2 particles are mixed within the range of 30-90 mass% (expressed in terms of oxide) and metal cluster fine particles are dispersed and having an absorption peak of visible light due to plasma resonance of the metal cluster fine particles.例文帳に追加

光触媒体１０は、基体１と；Ｔｉ、Ｏ、Ｃを主成分とし、ＴｉＯ_2微粒子が酸化物換算質量比で３０〜９０質量％の範囲内となるように混合され、かつ金属クラスター微粒子が分散されて基体上に製膜され、この金属クラスター微粒子のプラズマ共鳴による可視光の吸収ピークを有する光触媒膜２と；を具備している。 - 特許庁

A continuous film forming apparatus 12 by Plasma CVD comprises an introduction tube 13 for introducing a gas containing a film forming substance, several reaction tubes 5 for decomposing each introduced gas and forming a film on a substance to be treated 1, which are arranged along the substance to be treated 1 which is arranged to face the tube 13, and a buffering box 16 connected among an introduction tube 13 and several reaction tubes 5.例文帳に追加

成膜物質を含有するガスを導入する導入管１３と、対向配置した被処理体１に沿って配置され、導入されたガスをそれぞれ分解して被処理体１上に成膜する複数の反応管５と、導入管１３と複数の反応管５との間に接続された緩衝ボックス１６とを有するプラズマＣＶＤ連続膜形成装置１２。 - 特許庁

Here, when forming the second insulating film, a cycle is repeated that consists of six steps, the six steps of supplying to a deposition system deposition materials for the second insulating film, purging the deposition materials supplied into the deposition system, supplying oxidizer for oxidizing the deposition materials, purging the oxidizer, supplying active species produced by generating a reduced gas plasma, and purging excessive active species.例文帳に追加

ここで、第２の絶縁膜形成の際、成膜装置内への第２の絶縁膜の成膜原料の供給、成膜装置内に供給された前記成膜原料のパージ、成膜原料を酸化させる酸化剤の供給、酸化剤をパージ、還元ガスプラズマの発生により生成した活性種の供給、過剰の活性種をパージの６工程からなるサイクルを繰り返し行う。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The apparatus includes an air flow passage 111 shutting off outside air and circulating inside air, a high-frequency applying part 130 arranged at the outside of the air flow passage 111 and generating plasma by applying high frequency waves inside the air flow passage 111, and a contaminated air introducing part 118 introducing contaminated air containing the contaminated particles to the air flow passage 111, and makes the introduced air plasmatic.例文帳に追加

外部の気体を遮断し、内部に気体を流通させる気体流通路１１１と、気体流通路１１１の外部に配置され、気体流通路１１１内に高周波を印加してプラズマを発生させる高周波印加部１３０と、汚染粒子を含む汚染気体を気体流通路１１１に導入する汚染気体導入路１１８と、を備え、導入気体をプラズマ化する。 - 特許庁

The plasma display panel comprises a first base plate 2 and a second base plate 4 facing each other, an address electrode 8 formed on the first base plate 2, separation walls 12 located at a space between the first base plate 2 and the second base plate 4 and forming discharge cells, fluorescent layers 14 formed in the respective discharge cells, and discharge sustaining electrodes 20 made of metal formed on the second base plate 4.例文帳に追加

互いに対向配置される第１基板２及び第２基板４と、前記第１基板２に形成されるアドレス電極８と、前記第１基板２と第２基板４との間の空間に配置されて放電セルを形成する隔壁１２と、前記各々の放電セル内に形成される蛍光層１４及び前記第２基板４に金属製放電維持電極２０を含む。 - 特許庁

This application provides this plasma display panel having a front substrate and a back substrate arranged oppositely to each other, and provided with barrier ribs composed of a plurality of first barrier ribs extended in a first direction, and an plurality of second barrier ribs extended in a second direction crossing the first direction for forming a plurality of discharge cells by partitioning an area between the front substrate and the back substrate.例文帳に追加

相互に対向配置された前面基板と背面基板とを有し、第１方向に延設された複数の第１隔壁と、第１方向と交差する第２方向に延設された複数の第２隔壁とにより構成され、前面基板と背面基板との間を区画して複数の放電セルを形成するための隔壁を備えたプラズマ表示装置が提供される。 - 特許庁

A cleaning device is provided with a cleaning vessel housing materials to be cleaned, a gas introducing hole for introducing a gas to the cleaning vessel, an exhaust hole for exhausting the gas from the cleaning vessel, an exhaust pump connected to the exhaust hole and an ultraviolet light source for irradiating the materials to be cleaned with ultraviolet-rays, and a mechanism for generating plasma is installed in the cleaning vessel.例文帳に追加

被洗浄物を格納する洗浄槽と、該洗浄槽にガスを導入するためのガス導入口と、該洗浄槽からガスを排出するための排気口と、該排気口に接続された排気ポンプと、前記被洗浄物に紫外線を照射するための紫外光源と、を備えた洗浄装置であって、前記洗浄槽内にプラズマを発生させる機構を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The transparent barrier film including a carbon deposition layer having a thickness of 0.5 to 10 nm at least on one face of the substrate comprising a plastic material and laminating an aluminium oxide layer having a thickness of 3 to 500 nm thereon, the transparent barrier film in which the carbon deposition face of the substrate is a treated face utilizing plasma of a reactive ion etching (RIE) mode, and its production method are provided.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、厚さ０．５〜１０ｎｍのカーボン蒸着層を有し、その上に厚さ３〜５００ｎｍの酸化アルミ層を積層した透明バリアフィルムや上記基材のカーボン蒸着面がリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した処理済みの面である透明バリアフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The proliferation auxiliary is a glycosaminoglycan in which the 6-position of D-glucosamine constituting a heparin is substantially desulfated and has ≤50 s APTT (activated partial thromboplastin time) when measurement is made by adding the glycosaminoglycan to the standard plasma at 30 μg/ml final concentration and ≤100 s, more preferably ≤80 s APTT when the measurement is made by adding the glycosaminoglycan at 100 μg/ml final concentration.例文帳に追加

ヘパリンを構成するＤ−グルコサミンの６位を実質的に脱硫酸したグリコサミノグリカンであり、標準血漿に最終濃度３０μｇ／ｍｌで添加して測定した際のＡＰＴＴ時間が５０秒以下、好ましくは、最終濃度１００μｇ／ｍｌで添加して測定した際のＡＰＴＴ時間が１００秒以下であり、更に好ましくは８０秒以下である。 - 特許庁

A substrate is placed direct below a magnetron type discharge electrode where a high frequency electric field applied from the outside intersects a stationary magnetic field at a right angle, a metallic catalyst supported on a support is fixed on the substrate, magnetron plasma is produced under the coexistence of a hydrocarbon gas while heating the substrate by a heater and the single-wall carbon nanotube is formed on the metallic catalyst under the DC bias control of the substrate.例文帳に追加

外部印加の高周波電場と定常磁場とが直交するマグネトロン型放電電極の直下に基板を設置すると共に、該基板上に担体に担持された金属触媒を固定し、該基板をヒーターで加熱しながら炭化水素ガスの共存下にマグネトロンプラズマを発生し、該基板の直流バイアス制御のもとに前記金属触媒上に単層カーボンナノチューブを生成する。 - 特許庁

The treatment method involves steps of decomposing a halogen compound by bringing a gas current containing the halogen compound into contact with electric discharge plasma and forming a salt of the halogen and a metal for halogen fixation by bringing a gas current containing the decomposition product produced in the decomposition step into contact with a chemical solution containing the metal ion.例文帳に追加

この発明の処理方法は、ガス状ハロゲン化合物を含むガス流を放電プラズマと接触させてハロゲン化合物を分解する分解処理工程と、前記分解処理で生成した分解生成物を含むガス流を、金属イオンを含有した薬液と接触させることによって前記ハロゲンと金属との塩を形成せしめるハロゲン固定工程とを包含することを特徴とする。 - 特許庁

To realize a narrow frame without losing the reliability of a connection part between a flexible substrate and a plasma display panel (PDP).例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル１と、プラズマディスプレイパネル１の非表示面との間にシリコンシート１３を介してプラズマディスプレイパネル１と一体化した補強プレート２と、プラズマディスプレイパネル１に電気的に接続されたフレキシブル基板３を有するドライバ基板２０を具備するＰＤＰモジュールにおいて、プラズマディスプレイパネル１と補強プレート２の熱による線膨張差によって、フレキシブル基板３のプラズマディスプレイパネル１との接続部にストレスが加わる。 - 特許庁

In the method and the device for generating the plasma through electric discharge in a discharge space including at least two electrodes, at least one of the electrodes is formed from a matrix material or a carrier material so as to make an erosion-susceptible range with an evaporation spot formed by at least current flow.例文帳に追加

本発明は、少なくとも２つの電極を含む放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置であって、前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が、少なくとも電流フローによって形成されるように、マトリックス材料又はキャリア材料から構成されている方法及び装置に関する。 - 特許庁

The plasma display panel includes: the first and second substrates arranged to overlap by shifting each other and sealed along a sealing line formed on the mutually overlapped section; a metal layer formed on at least one substrate side between the first and second substrates in response to the sealing line; and a frit layer formed on the metal layer.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイパネルは、互いにずれて重なって配置され、互いに重なった部分に形成される封着ラインに沿って装着される第１基板と第２基板、前記封着ラインに対応して前記第１基板および前記第２基板のうちの少なくとも一つの基板側に形成されるメタル層、および前記メタル層上に形成されるフリット層を含む。 - 特許庁

The waveform of a driving voltage outputted from a driving part of the plasma display device comprises a sustaining period for alternately applying sustaining pulse voltage for sustaining the discharge to scanning electrodes and sustaining electrodes, and a removal period for applying sloping waveform voltage differing in polarity from the sustaining pulse voltage to an electrode different from the one to which the last sustaining pulse voltage is applied.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置の駆動部が出力する駆動電圧の波形が、放電を維持するための維持パルス電圧を走査電極と維持電極に対して交互に印加する維持期間と、維持パルス電圧とは極性が異なる傾斜波形電圧を最後の維持パルス電圧を印加した電極とは異なる電極に対して印加する除去期間とを有する。 - 特許庁

The method and kit for ameliorating or maintaining vascular health conditions include preventing the myocardial infarction or stroke, maintaining or ameliorating the vascular reactivity, treating the acute or chronic renal failure, peripheral arterial occlusive diseases, coronary artery diseases or Raynaud's phenomenon or lowering plasma levels of Lp(a) and uses an estrogen/antagonist.例文帳に追加

本発明は、エストロゲンアゴニスト／アンタゴニストを用いる、心筋梗塞または発作の予防；血管反応性の維持または改善；急性もしくは慢性腎不全、末梢動脈閉塞性疾患、冠状動脈疾患、またはレイノー現象の治療；あるいはＬｐ（ａ）の血漿レベルの低減を含めた、血管の健康状態を改善または維持するための方法およびキットを提供する。 - 特許庁

In a plasma display substrate formed with a plurality of electrodes, a dielectric layer covering the electrodes and a plurality of barriers for partitioning a discharge space in order to improve a problem which blue brightness of a PDP is low and to become red, a PDP member is characterized in that the barriers are blue and a PDP uses the PDP member for a backborde.例文帳に追加

ＰＤＰの青色輝度が低く、赤っぽくなるという課題を改善するために、基板上に、複数の電極およびその電極を覆う誘電体層、放電空間を仕切るための複数の隔壁が形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ用基板において、隔壁が青色であることを特徴とするＰＤＰ用部材、およびそれを背面板として用いたＰＤＰ。 - 特許庁

The ionic mobility spectrometer comprises an inlet for introducing a sample molecule in itself, a drift part installed separately from the inlet, a capturing electrode purposing to capture ionized molecules moving inside the drift part, and a reaction chamber having an electronic means installed between the inlet and the drift part, purposing to generate an ionic plasma of thermal neutron from the sample molecule.例文帳に追加

サンプル分子をイオントラップ移動度スペクトロメータに導入するための入口と、該入口と離間して設けられたドリフト部を、該ドリフト部中を移動するイオン化された分子を捕集するための捕集電極と、前記入口とドリフト部との間に設けられ、サンプル分子から熱中性子化されたイオンのプラズマを電子的に発生させるための手段を有する反応室とからなることを特徴とする。 - 特許庁

The placing stand 12 of a plasma treatment apparatus 10 includes: a lower electrode 20 connected to a first high frequency power supply 28 and a second high frequency power supply 29; a dielectric layer 21 embedded at the center of the upper surface of the lower electrode 20; and an electrostatic chuck 22 placed on the dielectric layer 21.例文帳に追加

プラズマ処理装置１０の載置台１２は、第１の高周波電源２８及び第２の高周波電源２９に接続される下部電極２０と、該下部電極２０の上面中央部分において埋設される誘電体層２１と、該誘電体層２１の上に載置される静電チャック２２とを有し、該静電チャック２２が有する電極膜３７は以下の条件を満たす。 - 特許庁

The blood component sampling system 1 has a first liquid sending pump 11 for removing the air in the blood platelet sampling bag 26 and is constituted to carry out an air removing operation to remove the air in the blood platelet sampling bag 26 and the blood plasma sampling bag 25 by the first liquid sending pump 11 after sampling the blood platelets in the blood platelet sampling bag 26.例文帳に追加

また、この血液成分採取装置１は、血小板採取バッグ２６内の空気を除去する第１の送液ポンプ１１を有し、血小板採取バッグ２６内に血小板を採取した後に、第１の送液ポンプ１１により血小板採取バッグ２６および血漿採取バッグ２５内の空気を除去する空気除去操作を行うように構成されている。 - 特許庁

The steam barrier film is composed of two types of oxides, and formed by a co-evaporation method in which an evaporation material composed of a first oxide (X) and an evaporation material composed of a second oxide (Y) are used and simultaneously evaporated by reactive plasma evaporation.例文帳に追加

第１酸化物（Ｘ）からなる蒸着材と第２酸化物（Ｙ）からなる蒸着材を用い、反応性プラズマ蒸着法によって同時に蒸着する共蒸着法で成膜した、２種類の酸化物から構成された水蒸気バリア膜であって、バリア膜の膜厚が３０〜５００ｎｍの範囲内であるとき、θ×ΔＢ≧５０（但し、５０°≦θ≦１２５°、ΔＢ＞０．４）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

Relating to a plasma display device that one field is constituted of plural subfields and gradation display is performed by selecting arbitrary subfields, this device is provided with a selecting means selecting an arbitrary driving sequence between a plurality of driving sequences in which the one field is constituted of numbers different with each other of subfields and is constituted so as to perform gradation display, based on the selected driving sequence.例文帳に追加

１フィールドを複数のサブフィールドにて構成し、任意のサブフィールドを選択することにより階調表示を行うプラズマディスプレイ装置において、それぞれ異なるサブフィールド数にて前記１フィールドを構成する複数の駆動シーケンスのうち任意の駆動シーケンスを選択する選択手段を備え、選択した前記駆動シーケンスに基づいて階調表示を行うように構成した。 - 特許庁

While a specified gas is introduced from a gas feeder 2 into a vacuum chamber 1, a pump 3 being evacuating means evacuates this chamber to keep a fixed pressure therein, a high-frequency power source 4 feeds an antenna 5 projecting in the vacuum chamber 1 with a high-frequency power of 100 MHz, to generate a plasma in the chamber 1.例文帳に追加

真空容器１内に、ガス供給装置２から所定のガスを導入しつつ、排気装置としてのポンプ３により排気を行い、真空容器１内を所定の圧力に保ちながら、アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に突出して設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生する。 - 特許庁

With respect to the plasma display panel equipped with a scanning electrode and an address electrode by which the address discharge is generated, a plurality of the address electrodes are formed in the inside of a discharge cell, any one of the address electrodes is formed so that it may be shared by the discharge cells adjoining one on top of another, and a priming discharge is generated before the address discharge using the shared electrodes.例文帳に追加

アドレス放電を起こす走査電極とアドレス電極を備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、アドレス電極を放電セルの内側に複数本形成し、その中の何れか１本のアドレス電極が、上下に隣接した放電セルに共有されるように形成し、その共有された電極を利用してプライミング放電をアドレス放電の前に生じさせる。 - 特許庁

The gate insulation film forming method includes a process for preparing a substrate, a process for forming a silicon dioxide layer on the top surface of the substrate, a process for exposing the silicon dioxide layer to a plasma-nitride forming process in order to change the silicon dioxide layer into a silicon nitride oxide layer, and a process for subjecting the silicon nitride oxide layer to spike-like rapid annealing.例文帳に追加

基板を準備し、基板の上表面に二酸化シリコン層を形成し、二酸化シリコン層を窒化酸化シリコン層に変換するためにプラズマ窒化物形成工程に二酸化シリコン層を露出し、および窒化酸化シリコン層にスパイク状急熱アニ−ルを実施することを含むゲート絶縁膜の形成方法により信頼性の高いゲート絶縁膜を提供する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction to generate plasma 12, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current density distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing the plasma display device includes: a first-panel preparing step of preparing the first panel; a heat radiation layer forming step of applying a graphite liquid substance onto the first panel, using an application device, to form the heat radiation layer; and a chassis base adhering step of making a chassis base adhere to the first panel, to be opposed to the heat radiation layer.例文帳に追加

プラズマ表示装置の製造方法は、第１パネルを準備する第１パネル準備段階と、塗布装置を用いて上記第１パネルにグラファイト（ｇｒａｐｈｉｔｅ）液状物質を塗布して放熱層を形成する放熱層形成段階及びシャーシベースを上記放熱層に対向するように上記第１パネルに付着するシャーシベース付着段階とを含む。 - 特許庁

To provide a near infrared absorbing resin composition which has suppressed deterioration of near infrared absorption to improve durability, can form a near infrared absorbing coating film and heat ray absorbing film having reduced change in the film external appearance (peeling, cracking, foaming, and clouding), and is suitably used in the tack and adhesion application of a layer material forming an electronic display such as a plasma display.例文帳に追加

近赤外線吸収性が劣化することが抑制されて耐久性が向上し、フィルムの外観（ハガレ、クラック、発泡、白濁）変化が少ない近赤外線吸収性塗膜や熱線吸収フィルムを形成することができるうえ、プラズマディスプレイ等の電子ディスプレイを形成する層状の材料の粘接着用途に好適である近赤外線吸収性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The electrode paste composition for the plasma display panel includes a binder polymer for augmenting viscosity, either a multifunctional monomer or a multifunctional oligomer coupling with a chain figure reacting to a radical, metal powder, frit glass for adhering the metal powder, a photo initiator for generating the radical in reaction to light, and a solvent.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレーパネルの電極用ペースト組成物は、粘度を増加させるためのバインダーポリマ、ラジカルに反応してチェーン形態に結合する多機能性モノマーと多機能性オリゴマーの中のずれか一つ、金属粉末、金属粉末を接着させるためのフリットガラス、光に反応してラジカルを生成させるためのフォトイニシエータ及び溶剤を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an exterior container which constitutes a vacuum heat insulating material improving the effect on an ethylene/vinyl ester copolymer saponified film due to plasma etching, preventing the yellowing thereof and the formation of a weak interface layer and superior in its adhesion and gas barrier properties.例文帳に追加

エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムへのプラズマエッチングによる影響を改善し、その黄変、弱界面層の形成を防止し、エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物フィルムと無機酸化物からなる薄膜層との密着強度等を改良し、その密着性に優れ、かつ、ガスバリア性に優れ、更に、これを使用した真空断熱材を構成する外装容器を提供する。 - 特許庁

In a semiconductor device having a heat resistant resin film formed on a semiconductor element and an epoxy based resin compound formed thereon, surface of the heat resistant resin film on which the epoxy based resin compound is formed is subjected to plasma processing by using nitrogen atom containing gas which contains at least one kind of nitrogen, ammonia and hydrazine.例文帳に追加

半導体素子上に形成する耐熱性樹脂膜とその上に積層するエポキシ系樹脂化合物層とを有する半導体装置において、エポキシ系樹脂化合物層を積層する耐熱性樹脂膜の表面を、窒素、アンモニア、ヒドラジンの少なくとも１種を含有する窒素原子含有ガスを用いてプラズマ処理を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

On the manufacturing method of the plasma display panel 1 having a dielectric layer 7 covering a plurality of display electrodes 6 composed of scanning electrodes 4 and sustaining electrodes 5, the dielectric layer 7 is formed by baking a precursor material thereof in an atmosphere of including oxygen by 40 vol.% or more.例文帳に追加

走査電極４と維持電極５とからなる表示電極６を複数形成し、その表示電極６を覆って誘電体層７を形成した前面板２を有するプラズマディスプレイパネル１の製造方法において、誘電体層７は、その前駆体材料を４０ｖｏｌ％以上の酸素雰囲気中にて焼成して形成することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a surface-treating method by which, when the surface of a polyester substrate is treated by an atmospheric pressure plasma treatment, the flotation of oligomers on the surface of the substrate with the passage of time after the surface treatment can be prevented, and a high quality surface treatment capable of improving the adhesiveness of the substrate to a functional membrane can efficiently continuously be performed.例文帳に追加

ポリエステル基板の表面を大気圧プラズマ処理により表面処理する際に、表面処理からの時間経過によって、基板表面にオリゴマーが泣き出しすることを防止することにより、基板と機能膜との密着性を向上させることができる高品質な表面処理を、効率よく連続的に行なうことができる表面処理方法を提供する。 - 特許庁

This dry etching device for applying etching processing to a wafer WF by arranging the wafer WF in a processing chamber and converting an introduced reaction gas to plasma includes: an annular first ring 110 arranged in the outside to surround the wafer WF and formed of a conductive material; and an annular second ring 120 arranged in the outside to surround the first ring 110 and formed of an insulating material.例文帳に追加

処理室内にウエハーＷＦが置かれ、導入される反応ガスをプラズマ化してウエハーＷＦにエッチング処理を施すドライエッチング装置であって、ウエハーＷＦを取り囲むように外側に配置され、導電性材料からなる環状の第１リング１１０と、第１リング１１０を取り囲むように外側に配置され、絶縁性材料からなる環状の第２リング１２０と、を備えた。 - 特許庁

The method is used for manufacturing the plasma display panel, including: a coating step of coating a solvent including microcrystal of components of a dielectric protective film on a front plate; a drying step of drying the front plate; a pressing step of pressing unevenness on a surface of a film including the microcrystal via a liquid using a roller after being dried; and a burning step of burning the film including the microcrystal.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、誘電体保護膜の構成材料の微結晶を含む溶媒を前面板に塗布する塗布ステップと、前記前面板を乾燥する乾燥ステップと、乾燥後、ローラを用いて、前記微結晶を含む膜の表面の凹凸に液体を介して圧力をかける加圧ステップと、前記微結晶を含む膜を焼成する焼成ステップと、を備える。 - 特許庁

This method for forming a metal oxide film with predetermined patterns on a substrate comprises: a first step of applying a liquid form matter containing a metal salt on the substrate and forming a metal salt film; a second step of providing predetermined patterns to the metal salt film; and a third step of subjecting the metal salt film to thermal oxidation treatment or predetermined plasma oxidation treatment to convert it into a metal oxide film.例文帳に追加

基材上に、所定パターンを有する金属酸化膜の形成方法等であって、基材に対して、金属塩を含有する液状物を塗布して金属塩膜を形成する第１工程と、金属塩膜に対して、所定パターンを設ける第２工程と、金属塩膜に対して、熱酸化処理または所定のプラズマ酸化処理を行い、金属酸化膜とする第３工程と、を含む。 - 特許庁

The semiconductor film forming method includes a particle applying step of applying silicon particles 13 with dopant doped thereon to a substrate 10 being a flexible substrate formed with general-purpose engineering plastics as a material and a film forming step of forming a silicon film 14 on the substrate 10 with the silicon particles 13 applied thereon by plasma CVD in the atmosphere of mixed gas containing hydrogen gas.例文帳に追加

ドーパントがドープされたシリコン粒子１３を汎用エンジニアリングプラスチックを材料として形成された可撓性を有するフレキシブル基板である基板１０に塗布する粒子塗布工程と、シリコン粒子１３が塗布された基板１０上に、水素ガスを含む混合ガスの雰囲気中でのプラズマＣＶＤによってシリコン膜１４を成膜する成膜工程と、を含む。 - 特許庁

When thin film transistors such as a switch transistor 5 and a drive transistor 6 used as driving elements in an EL panel 1 are manufactured, semiconductor films 5b and 6b which are enhanced in crystallinity are formed by subjecting a base film 16 to plasma processing as preprocessing for forming a semiconductor layer 9b of crystalline silicon to serve as semiconductor films 5b and 6b where channels are formed.例文帳に追加

ＥＬパネル１において、駆動素子として用いるスイッチトランジスタ５、駆動トランジスタ６などの薄膜トランジスタを製造する際に、チャネルが形成される半導体膜５ｂ、６ｂとなる結晶性シリコンの半導体層９ｂを成膜する前処理として下地膜１６にプラズマ処理を施すことによって、結晶化度を高めた半導体膜５ｂ、６ｂを形成することができる。 - 特許庁

The apparatus 1 for manufacturing metal-supported material for producing a metal-supported material by performing prescribed treatment to a solution includes: a container 30 in which the solution is stored; a microwave generator 10 which outputs microwaves; and an electrode 42 which supplies the microwaves to the solution to excite plasma in the solution, wherein the solution has carriers dispersed therein and has metal ions projected thereinto.例文帳に追加

溶液に所定の処理を行って金属担持物を生成する金属担持物製造装置１であって、溶液が収められた容器３０と、マイクロ波を出力するマイクロ波発振器１０と、マイクロ波を溶液に与えて該溶液内にプラズマを励起させる電極４２とを備え、溶液は、担体が分散されているとともに、金属イオンが投与された溶液である。 - 特許庁

The atmospheric plasma apparatus has: an electrode for treatment disposed at a periphery of a drum electrode so that it faces the drum electrode and is located upstream of a film deposition electrode in the delivery direction of the substrate; a power source for treatment, which applies voltage to the electrode for treatment; and a reactive gas-feeding means that is disposed between the drum electrode and the electrode for treatment and feeds a reactive gas used in the surface treatment.例文帳に追加

基材の搬送方向において、成膜用電極よりも上流側に、ドラム電極の周面に対面して設けられる処理用電極と、処理用電極に電圧を印加する処理用電源と、ドラム電極と処理用電極との間に、表面処理用の反応性ガスを供給する反応性ガス供給手段とを有することで上記課題を解決する。 - 特許庁