「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(564ページ目) - Weblio英語例文検索

This manufacturing method comprises the steps of depositing a silicon oxide film 450 on the surface of the semiconductor substrate 100 having the convex 300 on this surface according to high density plasma chemical vapor deposition and etching the silicon oxide film according to isotropic etching so that the deposited silicon oxide film has a height less than that of the summit of the convex portion.例文帳に追加

表面に凸状部３００を有する半導体基板１００の前記表面に高密度プラズマ−化学気相成長法によりシリコン酸化膜４５０を堆積させる堆積工程と、堆積させたシリコン酸化膜の表面が前記凸状部の頂上よりも低い高さになるように等方性エッチングにより前記シリコン酸化膜をエッチングするエッチング工程とを備える。 - 特許庁

Raw material powder as the P type electrothermal conversion semiconductor 1 and raw material powder as the N type electrothermal conversion semiconductor 2 are molded so as to be bonded to each other, and the moldings are burnt by the electric discharge plasma method, and the N type electrothermal conversion semiconductor and the P type electrothermal conversion semiconductor are directly bonded to each other.例文帳に追加

前記Ｐ型熱電変換半導体１となる原料粉末と前記Ｎ型熱電変換半導体２となる原料粉末とが接合した状態となるように成形して、当該成形物を放電プラズマ法により焼結させて、前記第Ｎ型の熱電変換半導体および前記Ｐ型の熱電変換半導体を直接接合したものであることを要旨とする。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming an amorphous silicon film on a substrate; forming a polycrystalline silicon film by crystallization of the amorphous silicon film; injecting ions into the polycrystalline silicon film by using a plasma doping method; and polishing the surface of the polycrystalline silicon film into which the ions are injected.例文帳に追加

本実施形態によれば、半導体装置の製造方法は、基板上に非晶質シリコン膜を形成する工程と、前記非晶質シリコン膜を結晶化して多結晶シリコン膜を形成する工程と、プラズマドーピング法を用いて、前記多結晶シリコン膜にイオンを注入する工程と、前記イオンを注入した前記多結晶シリコン膜の表面を研磨する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide an electric discharge gas treatment apparatus and method capable of certainly developing the synergistic effect due to a combination of non-equilibrium plasma discharge treatment and an adsorbing catalyst to enhance the removal capacity of a substance to be treated in gas to be treated and using the adsorbing catalyst inexpensive and long in life as compared with a case using a metal oxide catalyst.例文帳に追加

非平衡プラズマ放電処理と吸着触媒との組み合わせによる相乗効果を確実に発揮させて、被処理ガス中の被処理物質の除去性能を高めることができ、しかも金属酸化物系触媒を用いる場合に比べて吸着触媒が安価かつ長寿命である放電ガス処理装置および放電ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

This layer is formed by sputtering at a substrate temperature of 200°C higher or depositing through sputtering at a substrate temperature lower than 200°C and heat treating at temperatures of 200°C higher, or depositing through sputtering at a substrate temperature of 200°C or higher and exposing the Ta film to a nitrogen plasma for nitrifying it.例文帳に追加

このバリア層は、基板温度２００℃以上の条件でスパッタリングにより形成されるか、または基板温度２００℃未満の条件でスパッタリングにより堆積した後に２００℃以上の温度で熱処理して形成されるか、または基板温度２００℃以上の条件でＴａ膜をスパッタリングにより堆積した後に該Ｔａ膜を窒素プラズマに晒して窒化して形成される。 - 特許庁

The apparatus for driving the plasma display panel includes an inverse gamma control block for performing an inverse gamma correction process on stored data inputted from the outside by using two or more gamma values, and a selection part for outputting one of two or more output data on which the inverse gamma correction operation is performed, and which is outputted from the inverse gamma control block.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルの駆動装置は、外部から入力される格納データを少なくとも２つ以上のガンマ値を用いて逆ガンマ補正するための逆ガンマ調整ブロックと、逆ガンマ調整ブロックから逆ガンマ補正されて出力される少なくとも２つ以上の出力データのうちいずれか一つを出力するための選択部と、を備える。 - 特許庁

A method of manufacturing a solar cell for forming an antireflection film 8 on a surface of a semiconductor 9 comprises: a surface treatment step of exposing the surface of the semiconductor 9 to a plasma generated using gas containing hydrogen; and an antireflection film formation step of forming the antireflection film 8 on the treated surface of the semiconductor 9 by a sputtering method.例文帳に追加

半導体９の表面に反射防止膜８を形成する太陽電池の製造方法であって、前記半導体９の表面を、水素を含むガスを用いて発生させるプラズマに曝して処理する表面処理工程と、前記半導体９の処理された表面に前記反射防止膜８をスパッタリング法により形成する反射防止膜形成工程とを含む。 - 特許庁

After an auburn fine particle iron oxide having γ-Fe2O3 crystal structure is generated by the DC arc plasma method using an iron raw material for consuming anode, the black fine particle having Fe3O4 crystal structure is made by the burning of the fine particle iron oxide in a reducing atmosphere.例文帳に追加

鉄原料を消費アノード電極として、直流アークプラズマ法で製造したγ−Ｆｅ_2 Ｏ_3 の結晶構造を持つ赤褐色酸化鉄微粒子を製造した後、該酸化鉄微粒子を用いて、還元性雰囲気中で焼成することによりＦｅ_3 Ｏ_4 の結晶構造を持つ黒色微粒子を得ることを特徴とする酸化鉄微粒子黒色顔料の製造方法に関する。 - 特許庁

The electrochemical cell 10 includes: the solid electrolyte 11 made by the electron-beam physical deposition method or the discharge plasma sintering method, endowed with oxide ion conductivity or protonic conductivity, and containing columnar crystal with crystal orientation controlled; and a pair of electrodes 12, 13 formed on a pair of opposed main surfaces of the solid electrolyte 11.例文帳に追加

電子ビーム物理蒸着法あるいは放電プラズマ焼結法などを用いて作製された、酸化物イオン導電性あるいはプロトン導電性を有し、結晶配向を制御された柱状結晶を含む固体電解質１１と、固体電解質１１の相対向する一対の主面上に形成された一対の電極１２，１３と、を具えるようにして形成された電気化学セル１０。 - 特許庁

Hydrogen having entered into the titanium alloy in the carburizing treatment process can be removed by subjecting the titanium alloy which has been subjected to the plasma carburizing treatment after solution heat treating and age hardening to the baking treatment comprising keeping the titanium alloy at a temperature of not lower than 200°C to the lower temperature in the carburizing treatment for 30 min to 10 h.例文帳に追加

溶体化及び時効処理後にプラズマ浸炭処理を施したチタン合金を、プラズマ浸炭処理後に１５Ｐａ以下の真空下で、２００℃以上時効処理の下限温度の範囲に３０分から１０時間の範囲の所要時間保持するベーキング処理を実施して、前記浸炭処理過程でチタン合金内に侵入した水素を除去するようにしたのである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fluoride coated biomedical device, including a process of exposing the surface of a biomedical device to plasma in the presence of a solid supply source of fluorine, wherein the species of fluorine is generated from the solid supply source of fluorine to interact with the surface of the biomedical device, and the biomedical device.例文帳に追加

フッ化物被覆型の生物医学装置を製造するための方法であって、フッ素の固体供給源の存在下にプラズマに対して生物医学装置の表面を曝露する処理、を含み、この場合に、フッ素の種が前記フッ素の固体供給源から発生して、前記生物医学装置の表面に対して相互作用する、方法、およびその生物医学装置を提供する。 - 特許庁

A method of repairing a pattern comprises a step of making a portion of the pattern to be removed contain nitrogen and hydrogen, and a step of etching the portion to be removed by exposing the pattern to an atmosphere containing excited oxygen, wherein the hydrogen is introduced into the portion to be removed by ion implantation or laser doping, and the atmosphere contains plasma containing the excited oxygen.例文帳に追加

パターンのうちで除去すべき部分に窒素と水素とを含有させる工程と、パターンを励起された酸素を含む雰囲気に晒すことにより、除去すべき部分をエッチングする工程と、を備え、前記水素は、イオン注入またはレーザドーピングによって除去すべき部分に導入され、雰囲気は、励起された酸素を含有したプラズマを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To prevent unnecessary electric charges and spread charge on the address electrode in the longitudinal direction due to the unnecessary charges and to provide a stable discharge display with no discharge error by deforming the configuration of the address electrode between barrier ribs on the backside substrate of a pair of substrates facing each other in a plasma display panel(PDP).例文帳に追加

本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関し、対向配置された一対の基板の裏面側の基板上の隔壁間に配設されるアドレス電極の配設形状を変形した構成にして、不必要な電荷の発生と、それに起因するアドレス電極の長手方向への電荷の広がりを防止して、誤放電のない安定した放電表示を得ることを目的とする。 - 特許庁

A method of coating a surface with a polymer layer comprises exposing the surface to a pulsed plasma comprising a monomeric saturated organic compound, the compound comprises an optionally substituted alkyl chain of at least 5 carbon atoms optionally interposed with a heteroatom, such as a halo substituted alkane; so as to form an oil or water repellent coating on the substrate.例文帳に追加

ポリマー層により表面をコーティングする方法であって、該方法はモノマー飽和有機化合物を含むパルスされたプラズマに前記表面を曝露することを含んでなり、前記化合物がハロ置換アルカン等の任意にヘテロ原子により介在された少なくとも５個の炭素原子の任意に置換されたアルキル鎖を含んでなり、前記基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法。 - 特許庁

In the method for producing the inorganic material or the metallic material by supplying a raw material powder into high frequency plasma flame, by using a grain powder whose fluidity index is ≥50 as the raw material powder, the raw material can be stably supplied, and thus the inorganic material and the metallic material having satisfactory grain size distribution can be obtained.例文帳に追加

原料粉末を高周波プラズマフレーム中に供給して無機材料又は金属材料を製造する方法において、前記原料粉末として、流動性指数が５０以上である粒子粉末を用いることにより、原料を安定に供給することができるため、良好な粒子径分布を有する無機材料及び金属材料を得ることができる。 - 特許庁

In a plasma display substrate formed with a plurality of electrodes, a dielectric layer covering the electrodes and a plurality of barriers for partitioning a discharge space in order to improve a problem which blue brightness of a PDP is low and to become red, a PDP member is characterized in that the barriers are blue and a PDP uses the PDP member for a backborde.例文帳に追加

ＰＤＰの青色輝度が低く、赤っぽくなるという課題を改善するために、基板上に、複数の電極およびその電極を覆う誘電体層、放電空間を仕切るための複数の隔壁が形成されたことを特徴とするプラズマディスプレイ用基板において、隔壁が青色であることを特徴とするＰＤＰ用部材、およびそれを背面板として用いたＰＤＰ。 - 特許庁

The ionic mobility spectrometer comprises an inlet for introducing a sample molecule in itself, a drift part installed separately from the inlet, a capturing electrode purposing to capture ionized molecules moving inside the drift part, and a reaction chamber having an electronic means installed between the inlet and the drift part, purposing to generate an ionic plasma of thermal neutron from the sample molecule.例文帳に追加

サンプル分子をイオントラップ移動度スペクトロメータに導入するための入口と、該入口と離間して設けられたドリフト部を、該ドリフト部中を移動するイオン化された分子を捕集するための捕集電極と、前記入口とドリフト部との間に設けられ、サンプル分子から熱中性子化されたイオンのプラズマを電子的に発生させるための手段を有する反応室とからなることを特徴とする。 - 特許庁

The placing stand 12 of a plasma treatment apparatus 10 includes: a lower electrode 20 connected to a first high frequency power supply 28 and a second high frequency power supply 29; a dielectric layer 21 embedded at the center of the upper surface of the lower electrode 20; and an electrostatic chuck 22 placed on the dielectric layer 21.例文帳に追加

プラズマ処理装置１０の載置台１２は、第１の高周波電源２８及び第２の高周波電源２９に接続される下部電極２０と、該下部電極２０の上面中央部分において埋設される誘電体層２１と、該誘電体層２１の上に載置される静電チャック２２とを有し、該静電チャック２２が有する電極膜３７は以下の条件を満たす。 - 特許庁

The blood component sampling system 1 has a first liquid sending pump 11 for removing the air in the blood platelet sampling bag 26 and is constituted to carry out an air removing operation to remove the air in the blood platelet sampling bag 26 and the blood plasma sampling bag 25 by the first liquid sending pump 11 after sampling the blood platelets in the blood platelet sampling bag 26.例文帳に追加

また、この血液成分採取装置１は、血小板採取バッグ２６内の空気を除去する第１の送液ポンプ１１を有し、血小板採取バッグ２６内に血小板を採取した後に、第１の送液ポンプ１１により血小板採取バッグ２６および血漿採取バッグ２５内の空気を除去する空気除去操作を行うように構成されている。 - 特許庁

The plasma display panel includes: the first and second substrates arranged to overlap by shifting each other and sealed along a sealing line formed on the mutually overlapped section; a metal layer formed on at least one substrate side between the first and second substrates in response to the sealing line; and a frit layer formed on the metal layer.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイパネルは、互いにずれて重なって配置され、互いに重なった部分に形成される封着ラインに沿って装着される第１基板と第２基板、前記封着ラインに対応して前記第１基板および前記第２基板のうちの少なくとも一つの基板側に形成されるメタル層、および前記メタル層上に形成されるフリット層を含む。 - 特許庁

The waveform of a driving voltage outputted from a driving part of the plasma display device comprises a sustaining period for alternately applying sustaining pulse voltage for sustaining the discharge to scanning electrodes and sustaining electrodes, and a removal period for applying sloping waveform voltage differing in polarity from the sustaining pulse voltage to an electrode different from the one to which the last sustaining pulse voltage is applied.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置の駆動部が出力する駆動電圧の波形が、放電を維持するための維持パルス電圧を走査電極と維持電極に対して交互に印加する維持期間と、維持パルス電圧とは極性が異なる傾斜波形電圧を最後の維持パルス電圧を印加した電極とは異なる電極に対して印加する除去期間とを有する。 - 特許庁

The method and kit for ameliorating or maintaining vascular health conditions include preventing the myocardial infarction or stroke, maintaining or ameliorating the vascular reactivity, treating the acute or chronic renal failure, peripheral arterial occlusive diseases, coronary artery diseases or Raynaud's phenomenon or lowering plasma levels of Lp(a) and uses an estrogen/antagonist.例文帳に追加

本発明は、エストロゲンアゴニスト／アンタゴニストを用いる、心筋梗塞または発作の予防；血管反応性の維持または改善；急性もしくは慢性腎不全、末梢動脈閉塞性疾患、冠状動脈疾患、またはレイノー現象の治療；あるいはＬｐ（ａ）の血漿レベルの低減を含めた、血管の健康状態を改善または維持するための方法およびキットを提供する。 - 特許庁

The steam barrier film is composed of two types of oxides, and formed by a co-evaporation method in which an evaporation material composed of a first oxide (X) and an evaporation material composed of a second oxide (Y) are used and simultaneously evaporated by reactive plasma evaporation.例文帳に追加

第１酸化物（Ｘ）からなる蒸着材と第２酸化物（Ｙ）からなる蒸着材を用い、反応性プラズマ蒸着法によって同時に蒸着する共蒸着法で成膜した、２種類の酸化物から構成された水蒸気バリア膜であって、バリア膜の膜厚が３０〜５００ｎｍの範囲内であるとき、θ×ΔＢ≧５０（但し、５０°≦θ≦１２５°、ΔＢ＞０．４）を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

Relating to a plasma display device that one field is constituted of plural subfields and gradation display is performed by selecting arbitrary subfields, this device is provided with a selecting means selecting an arbitrary driving sequence between a plurality of driving sequences in which the one field is constituted of numbers different with each other of subfields and is constituted so as to perform gradation display, based on the selected driving sequence.例文帳に追加

１フィールドを複数のサブフィールドにて構成し、任意のサブフィールドを選択することにより階調表示を行うプラズマディスプレイ装置において、それぞれ異なるサブフィールド数にて前記１フィールドを構成する複数の駆動シーケンスのうち任意の駆動シーケンスを選択する選択手段を備え、選択した前記駆動シーケンスに基づいて階調表示を行うように構成した。 - 特許庁

While a specified gas is introduced from a gas feeder 2 into a vacuum chamber 1, a pump 3 being evacuating means evacuates this chamber to keep a fixed pressure therein, a high-frequency power source 4 feeds an antenna 5 projecting in the vacuum chamber 1 with a high-frequency power of 100 MHz, to generate a plasma in the chamber 1.例文帳に追加

真空容器１内に、ガス供給装置２から所定のガスを導入しつつ、排気装置としてのポンプ３により排気を行い、真空容器１内を所定の圧力に保ちながら、アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に突出して設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生する。 - 特許庁

With respect to the plasma display panel equipped with a scanning electrode and an address electrode by which the address discharge is generated, a plurality of the address electrodes are formed in the inside of a discharge cell, any one of the address electrodes is formed so that it may be shared by the discharge cells adjoining one on top of another, and a priming discharge is generated before the address discharge using the shared electrodes.例文帳に追加

アドレス放電を起こす走査電極とアドレス電極を備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、アドレス電極を放電セルの内側に複数本形成し、その中の何れか１本のアドレス電極が、上下に隣接した放電セルに共有されるように形成し、その共有された電極を利用してプライミング放電をアドレス放電の前に生じさせる。 - 特許庁

The gate insulation film forming method includes a process for preparing a substrate, a process for forming a silicon dioxide layer on the top surface of the substrate, a process for exposing the silicon dioxide layer to a plasma-nitride forming process in order to change the silicon dioxide layer into a silicon nitride oxide layer, and a process for subjecting the silicon nitride oxide layer to spike-like rapid annealing.例文帳に追加

基板を準備し、基板の上表面に二酸化シリコン層を形成し、二酸化シリコン層を窒化酸化シリコン層に変換するためにプラズマ窒化物形成工程に二酸化シリコン層を露出し、および窒化酸化シリコン層にスパイク状急熱アニ−ルを実施することを含むゲート絶縁膜の形成方法により信頼性の高いゲート絶縁膜を提供する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction to generate plasma 12, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current density distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing the plasma display device includes: a first-panel preparing step of preparing the first panel; a heat radiation layer forming step of applying a graphite liquid substance onto the first panel, using an application device, to form the heat radiation layer; and a chassis base adhering step of making a chassis base adhere to the first panel, to be opposed to the heat radiation layer.例文帳に追加

プラズマ表示装置の製造方法は、第１パネルを準備する第１パネル準備段階と、塗布装置を用いて上記第１パネルにグラファイト（ｇｒａｐｈｉｔｅ）液状物質を塗布して放熱層を形成する放熱層形成段階及びシャーシベースを上記放熱層に対向するように上記第１パネルに付着するシャーシベース付着段階とを含む。 - 特許庁

To provide a near infrared absorbing resin composition which has suppressed deterioration of near infrared absorption to improve durability, can form a near infrared absorbing coating film and heat ray absorbing film having reduced change in the film external appearance (peeling, cracking, foaming, and clouding), and is suitably used in the tack and adhesion application of a layer material forming an electronic display such as a plasma display.例文帳に追加

近赤外線吸収性が劣化することが抑制されて耐久性が向上し、フィルムの外観（ハガレ、クラック、発泡、白濁）変化が少ない近赤外線吸収性塗膜や熱線吸収フィルムを形成することができるうえ、プラズマディスプレイ等の電子ディスプレイを形成する層状の材料の粘接着用途に好適である近赤外線吸収性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a plasma processing apparatus, having a plurality of small electrodes arranged nearly in the same plane, when high frequency powers of different frequencies are applied to the electrodes adjacent to each other, the combination of the electric field strengths generated by respective electrodes can provide electric field strength which is uniform over a large area to improve film thickness distribution and etching speed distribution.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、反応容器内の略同一平面上に配置された複数の小電極に対して、互いに隣接する電極に異なる周波数の高周波電力を印加することで、各々の電極で生じる電界強度を合成して大面積にわたって均一な電界強度を生じさせることが可能となり、膜厚分布やエッチング速度の分布が改善される。 - 特許庁

In the production method for the visible light response type photocatalyst body, a skin layer part of the titanium oxide photocatalyst film is reformed to the visible light response type photocatalyst by nitriding-treating the titanium oxide photocatalyst film formed on the surface of the substrate in a plasma containing a nitrogen atom produced by dissociating, electro-dissociating and exciting the gas containing at least nitrogen.例文帳に追加

本発明の可視光応答型光触媒体の製造方法は、基材表面に形成された酸化チタン光触媒膜を、少なくとも窒素を含むガスを解離・電離・励起して生成された窒素原子を含むプラズマ中で窒化処理することにより、前記酸化チタン光触媒膜の表層部を可視光応答型光触媒に改質することを特徴とする。 - 特許庁

In the respective electrodes, glow plasma is formed and kept by supplying high frequency power forming glow discharge between the first and third electrodes 3, 11 and the sputtering of the insulating object bulk sample S arranged between the first and second electrodes is performed by applying DC bias voltage across the second and third electrodes 4, 11.例文帳に追加

各電極において、第１の電極３と第３の電極１１の間にグロー放電を生成する高周波電力を供給することによってグロープラズマの生成及び維持を行い、第２の電極４と第３の電極１１の間に直流のバイアス電圧を印加することによって、第１の電極と第２の電極との間に配置した絶縁物バルク試料Ｓのスパッタリングを行う。 - 特許庁

The packaging method for flip-chip packaging a semiconductor element on the substrate comprises processes of: joining an electrode on the substrate and an electrode of the semiconductor element; and forming a film at the junction part of the electrode on the substrate and the electrode of the semiconductor element with the aid of an atmospheric pressure plasma method.例文帳に追加

半導体素子を基板上にフリップチップ実装する半導体素子実装方法において、前記基板上の電極と前記半導体素子の電極とを接合する工程と、前記基板上の電極と前記半導体素子の電極とを接合した接合部に大気圧プラズマ法にて膜を形成する工程と、を有することを特徴とする半導体素子実装方法。 - 特許庁

Plasma distribution is controlled by an external annular inner electromagnet 60 in a first plane overlying the workpiece support surface, an external annular outer electromagnet 65 with a diameter greater than that of the inner electromagnet in a second plane overlying the workpiece support surface, and an external annular bottom electromagnet 401 in a third plane underlying the workpiece support surface.例文帳に追加

プラズマ分布は、加工物支持表面の上にある第１の平面内の外部環状内側電磁石６０と、加工物支持表面の上にある第２の平面内の、内側電磁石よりも大きな直径を有する外部環状外側電磁石６５と、加工物支持表面の下にある第３の平面内の外部環状底部磁石４０１とによって制御される。 - 特許庁

To provide a turbo fan jet engine to generate high pressure exhaust gas, improve a driving force including a propulsion force, realize low fuel consumption, and further reduce the generation of a noxious material in exhaust gas by producing a condition to promote combustion reaction in a combustion chamber by utilizing plasma and shortening a combustion period in a combustion engine in a turbo fan jet engine.例文帳に追加

プラズマを利用して、燃焼室などで燃焼反応を促進させる条件をつくりだし、ターボファンジェットエンジン内の燃焼室内での燃焼期間を短縮することにより、高圧の排気ガスを生成し駆動力を含めた推進力の向上と低燃費の実現とさらに排気ガス中の有害物質を低減するようにしたターボファンジェットエンジンを提供する。 - 特許庁

The exhaust gas containing ethylene oxide is once introduced into a buffer section 21 where the concentration of ethylene oxide in the exhaust gas is reduced, the exhaust gas containing a low concentration ethylene oxide is sent to photocatalyst members such as titanium oxide capable of adsorbing ethylene oxide or to a decomposition section 31 provided with the photocatalyst member and a plasma device, and ethylene oxide is decomposed here.例文帳に追加

エチレンオキサイドが含まれる排ガスを一旦、排ガス中のエチレンオキサイドの濃度を低減するバッファー部２１に導入し、ついでエチレンオキサイド濃度が低くなった排ガスをエチレンオキサイドを吸着する能力を有する酸化チタンなどの光触媒部材またはこの光触媒部材とプラズマ装置を備えた分解部３１に送り、ここでエチレンオキサイドを分解する。 - 特許庁

A wafer support device 20 includes an electrostatic chuck 22 capable of adsorbing a silicon wafer W as an object of plasma processing, a guard ring 30 mounted on a step 26 of the electrostatic chuck 22, a cooling plate 40 placed on a backside of the electrostatic chuck 22 for cooling the electrostatic chuck 22, and a coolant gas flow path 50 arranged to supply a flow of coolant gas for cooling the guard ring 30.例文帳に追加

ウエハ載置装置２０は、プラズマ処理を施すシリコン製のウエハＷを吸着可能な静電チャック２２と、この静電チャック２２の段差部２６に載置された保護リング３０と、静電チャック２２の裏面に配置された静電チャック冷却用の冷却板４０と、保護リング３０を冷却するための冷却用ガスを供給する冷却用ガス通路５０とを備えている。 - 特許庁

To provide an antistatic hard coat film which excels in mar resistance and antistatic properties, has a high total luminous transmittance and good adhesion between an electrically conductive layer and a hard coat layer, furthermore can impart antiglare properties without damaging the above properties, and is suitably used as a surface protecting film for various types of image displays such as liquid crystal displays and plasma displays or the like.例文帳に追加

耐擦傷性、帯電防止性に優れ、かつ高い全光線透過率を有する上、導電層とハードコート層との密着性が良好であって、さらには前記特性を損うことなく防眩性を付与することができ、液晶表示装置やプラズマディスプレイパネルなどの各種画像表示装置の表面保護フィルム用などとして好適な帯電防止性ハードコートフィルムを提供する。 - 特許庁

In this method of forming a fluorescent surface of a plasma display panel including a step of applying phosphor paste on cells zoned by a rib on the substrate, the top portion of the rib is polished with an abrasive having a particle size corresponding to 50 to 200% of the average phosphor particle size after applying phosphor paste to remove the phosphor adhered to the top portion of the rib.例文帳に追加

基板上のリブで区画されたセルに蛍光体ペ−ストを塗布する工程を行うプラズマディスプレイパネルの蛍光面形成方法において、蛍光体ペ−ストを塗布した後、蛍光体平均粒径の５０〜２００％の粒径を有する研磨材でリブ頂部を研磨し、リブ頂部に付着した蛍光体を除去することを特徴とする蛍光面形成方法。 - 特許庁

In the corrosion preventing method in the fluorocarbon decomposition apparatus wherein a fluorocarbon is decomposed by plasma in the decomposition chamber 1 and the decomposed gas is introduced into the treatment liquid in a treatment tank 12 provided under the decomposition chamber 1 to be subjected to detoxification treatment, gas for removing the residual decomposed gas is introduced into the decomposition chamber 1 for a predetermined time when the operation of the fluorocarbon decomposition apparatus is stopped.例文帳に追加

フロンを分解室１でプラズマによって分解し、この分解ガスを分解室１の下方に設けた処理槽１２の処理液に導入して無害化処理するフロン分解装置における腐食防止方法であって、前記フロン分解装置の運転休止時に、前記分解室１内に残留する分解ガスを除去するための気体を所定時間導入する。 - 特許庁

The plasma display device has LUTs 11A to 11D where pixel data and pixel drive data representing sub-fields are made to correspond to each other and a sequence control circuit 12 which generates a control pattern where four kinds of pieces of specification information are arranged, decides which position on the control pattern the input pixel data correspond to, and selects a LUT specified with specification information at the decided position.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置は、画素データとサブフィールドを表す画素駆動データとを対応させたＬＵＴ１１Ａ〜１１Ｄと、４種類の指定情報を配置した制御パターンを生成し、入力画素データが制御パターン上のどの位置に対応するかを判別し、判別した位置の指定情報で指定されるＬＵＴを選択するシーケンス制御回路１２を有する。 - 特許庁

The protective film for polarizer is characterized by having a reflection preventing layer, which is obtained with a method for generating discharge plasma for example by applying a pulsed electric field between electrodes placed opposite to each other under a pressure close to atmospheric pressure in an gaseous atmosphere containing a metal compound, formed on a substrate film whose absolute value of photoelastic constant is not more than 20×10-7 cm2/kgf.例文帳に追加

光弾性係数の絶対値が２０×１０^-7ｃｍ^2 ／ｋｇｆ以下である基材フィルム上に、例えば、大気圧近傍の圧力下、金属化合物を含むガス雰囲気中で、対向電極間にパルス化された電界を印可することにより、放電プラズマを発生させる方法で得られた反射防止層が形成されていることを特徴とする偏光子保護フィルム。 - 特許庁

A square groove is prepared respectively at butting end parts of a small diameter tube, after activating flux is applied/dried to the outer side of the butted part while these grooves are butted each other, the butted part is subjected to plasma welding on the activated flux coated part, after that the welded part is remelted so that reinforcement of weld is formed thereon.例文帳に追加

小口径管１の突き合わせ端部をそれぞれＩ型開先に加工し、この開先同士を突き合わせた状態で保持してその突き合わせ部の外側に活性化フラックス５を塗布・乾燥させた後、この活性化フラックス塗布部の上からその突き合わせ部をプラズマアークで溶接し、その後、さらにこの溶接部を再溶融してその溶接部に余盛りを形成する。 - 特許庁

As for a structure of this nickel-hydrogen secondary battery, a group of electrodes 5, in which low temperature plasma processing is applied to a separator 3 of synthetic resin fiber and it is interveningly mounted between a nickel electrode and a hydrogen storage alloy electrode, is sealed in a battery can 1 together with alkali electrolyte, and an area having different degrees of hydrophilic property is formed on the surface of the separator 3.例文帳に追加

ニッケル極２と水素吸蔵合金電極４の間に、合成樹脂繊維から成りかつ低温プラズマ処理されたセパレータ３が介装されている電極群５をアルカリ電解液と一緒に電池缶１に封入した構造のニッケル・水素二次電池であって、セパレータ３の表面には、親水性に程度差のある領域が形成されているニッケル・水素二次電池。 - 特許庁