「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(561ページ目) - Weblio英語例文検索

Pellet shaped ice or slush state water is used for fuel, laser beam 6 is supplied from the outside to fuel through condensing optical systems 7, 8 with a good efficiency, high energy is supplied, fuel is directly injected from a nozzle 5 in a plasma gas condition of a high temperature, and thereby, large thrust and high specific impulse are obtained.例文帳に追加

燃料としてペレット状の氷またはスラッシュ状態の水を用い、該燃料に外部からレーザー光６を集光光学系７、８を介して効率良く供給することにより高いエネルギーを供給し、燃料を直接高温のプラズマガス状態としてノズル５から噴射することにより、より大きな推力と高い比推力を得ることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste having conductive fine particles uniformly dispersed in a binder resin for forming a favorable coating film by using the photosensitive conductive paste and for forming an electrode by photolithography, in particular, a high-definition electrode for a plasma display panel, and to provide a method for forming an electrode and the obtained electrode.例文帳に追加

感光性導電ペーストを用いて良好な塗膜を形成し、フォトリソ法により電極、特に、高精細なプラズマディスプレイパネル用電極を形成することができ、バインダー樹脂中に導電性微粒子が均一に分散している感光性導電ペーストを提供し、電極の形成方法を提供し、得られた電極を提供する。 - 特許庁

To inexpensively provide an antireflection laminated film which is used appropriately for the display screen surfaces of various displays including a liquid crystal display, CRT display, projection display, plasma display, and EL display, has high antistatic and antireflection properties in particular, and is excellent in transparency, surface hardness, scratch resistance, and antifouling properties.例文帳に追加

本発明は、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイの表示画面表面に好適に使用される、特に高い帯電防止性と反射防止性を有し、かつ、高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れる反射防止積層フィルムを低コストで提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a formation method of a copper metal wiring of a semiconductor element which can improve burying of copper, by maximizing the suction site of chemical reinforcing agent on the surface of a diffusion barrier layer by carrying out a plasma treatment after chemical reinforcing agent deposition when a copper metal wiring is formed by using a CECVD method.例文帳に追加

ＣＥＣＶＤ法を用いて銅金属配線を形成する場合、化学的強化剤蒸着後プラズマ処理を行うことにより、拡散障壁層の表面に化学的強化剤の吸着サイトを極大化させ、これにより銅の埋込み特性を向上させることができる半導体素子の銅金属配線形成方法を提供すること。 - 特許庁

This is the plasma display panel 100 of a constitution that a pair of substrate 11, 21 are oppositely arranged by pinching a discharge space 30, that a first dielectric layer 13a and a plurality of electrode pairs 12 are arranged and installed at the main face of one substrate 11 in this order, and that a dielectric constant of the first dielectric layer 13a is made smaller than that of the substrate 11.例文帳に追加

一対の基板１１、２１が放電空間３０を挟んで対向配置され、一方の基板１１の主面に第１誘電体層１３ａと複数の電極対１２とがこの順で配設され、前記第１誘電体層１３ａの比誘電率は前記基板１１の比誘電率よりも小さい構成のプラズマディスプレイパネル１００とする。 - 特許庁

To reduce flicker while reflecting time information as to the driving method of a plasma display panel by shifting the sub-field group of odd numbered fields and the sub-field group of even numbered fields by an amount equivalent to a half frame and by performing the sub-field display of the odd numbered fields and the sub-field display of the even numbered fields alternately at the time of displaying a picture while performing interlaced scanning.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの駆動方法に関し、インターレース走査を行って画面を表示する際、奇数フィールドのサブフィールド群と偶数フィールドのサブフィールド群とを半フレーム分ずらすとともに、奇数フィールドのサブフィールド表示と偶数フィールドのサブフィールド表示とを交互に行い、これにより時間情報を反映しつつ、フリッカを低減する。 - 特許庁

In this plasma display panel, a phosphor layer is composed of a phosphor the surface of which is coated with a lanthanum compound, an aluminum compound, a magnesium compound, a calcium compound, and/or a barium compound, each compound comprising fluorine or nitrogen, so that degradation in various steps for manufacturing the phosphor layer can be prevented, and brightness, lifetime and reliability can be improved.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにおいて、蛍光体層を表面をフッ素または窒素を含有するランタン化合物、アルミ化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、バリウム化合物でコーティングした蛍光体で構成することにより、蛍光体層の各種工程での劣化を防止し、輝度および寿命並びに信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

In the method for producing the titanium base metallic material having the titanium oxide film, the titanium base metallic material is heated in the air to form a titanium oxide film having ≥5 μm thickness at least in a part of the surface of the material, and, thereafter, heating is executed by high-frequency induction heat plasma using an inert gas as a working gas.例文帳に追加

チタン酸化物被膜を有するチタン系金属材料の製造方法において、チタン系金属材料を大気中で加熱して該材料の表面の少なくとも一部に厚さ５μｍ以上のチタン酸化物被膜を形成した後、不活性気体を作動気体とする高周波誘導熱プラズマで加熱することを特徴とする前記方法。 - 特許庁

This plasma display device has barrier ribs 13 to partition a plurality of main discharge cells 15 each formed with a scanning electrode 6, a sustaining electrode 7 and a data electrode 10, and a plurality of priming discharge cells 16 each formed with the scanning electrode 6 and a priming electrode 12; and is provided with a second dielectric layer 20 covering the priming electrodes 12 and having a multilayer structure.例文帳に追加

走査電極６および維持電極７とデータ電極１０とで形成される複数の主放電セル１５と、走査電極６とプライミング電極１２とで形成される複数のプライミング放電セル１６とを区画するように形成した隔壁１３とを有し、プライミング電極１２を覆って多層構造の第２誘電体層２０を設ける。 - 特許庁

In the semiconductor manufacturing method including repeating insertion of a wafer W into a chamber 1 of a CVD (chemical vapor deposition) treatment apparatus and filming treatment to form a film over a plurality of wafers W, a reduced gas is fed into the chamber 1 for every filming and conditioning treatment is applied into the chamber 1 with a plasma resulting from applying a high frequency power.例文帳に追加

ＣＶＤ処理装置のチャンバ１内へのウエハＷ挿入と、成膜処理とを繰り返すことにより複数のウエハＷ上に成膜することを含む半導体製造方法において、成膜の毎にチャンバ１内に還元性ガスを供給し、高周波電力を印加して発生させたプラズマでチャンバ１内をコンディショニング処理する。 - 特許庁

With the manufacturing method of an electronic device or a plastic board for an organic EL element with a vapor barrier layer and a gas barrier layer, the vapor barrier layer and the gas barrier layer are made of inorganic/organic laminated films consisting of at least a pair of an inorganic layer and an organic layer, and that, the organic layer is formed by a thermochemical deposition method or a plasma polymerization method.例文帳に追加

水蒸気バリア層、及びガスバリア層を有する電子デバイス、又は有機ＥＬ素子用プラスチック基板の製造方法であって、水蒸気バリア層、及びガスバリア層を少なくとも一対の無機層と有機層とからなる無機／有機積層膜で形成し、且つ有機層を熱化学蒸着法、或いはプラズマ重合法を用いて形成することである。 - 特許庁

The method for manufacturing a crystalline optical element, has the step of the surface treatment of the crystalline optical materials is carried out at a temperature lower than the temperature that prevents damage which occurs at the time of surface treatment from being propagated to the inside of the crystalline optical materials, in a surface treatment method for the crystalline optical materials using a particle beam and plasma.例文帳に追加

粒子ビーム及びプラズマを用いた結晶性光学材料の表面処理方法において、表面処理時に発生する損傷の結晶性光学材料内部への伝搬を防ぐ温度以下の温度で、結晶性光学材料の表面処理を行う工程を特徴とする結晶性光学素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for peeling a photoresist by which a photoresist film and an etching residue after etching can be effectively removed without using O_2 plasma ashing even in a process of forming a fine pattern on a substrate having at least copper wiring and a low dielectric material layer, no adverse effect is given to the dielectric constant of the low dielectric material layer, and excellent corrosion resistance is obtained.例文帳に追加

少なくとも銅配線と低誘電体層を有する基板上の微細パターン形成において、Ｏ_２プラズマアッシング処理を行わないプロセスにおいても、エッチング後のホトレジスト膜、エッチング残渣物を効果的に剥離することができ、しかも低誘電体層の誘電率への悪影響を及ぼさず、防食性にも優れるホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

A reaction gas is supplied to the reaction tube 1, a high frequency power is supplied to the first electrode 5 by a high frequency power source 7, a low frequency power having a frequency lower than the high frequency power is supplied to the second electrode 6, and the resultant power of the high frequency power and the low frequency power excites the reaction gas to generate plasma.例文帳に追加

反応管１に反応ガスを供給し、第１の電極５に高周波電源７より高周波電力を供給し、第２の電極６にこの高周波電力よりも低い周波数の低周波電力を供給して、高周波電力と低周波電力との合成電力によって反応ガスを励起してプラズマを発生させる。 - 特許庁

In a discharge plasma sintering system, an Fe base material and an Fe-20%Si powder material having sulfuric acid corrosion resistance are held at high temperature under high pressure and are subjected to diffusion joining, thereby producing the structural material in which a gradient composite structure is formed on the joined boundary between the Fe base material and the Fe-Si corrosion resistant material.例文帳に追加

Ｆｅ基材と耐硫酸腐食性を有するＦｅ−２０％Ｓｉ粉末材料を放電プラズマ焼結装置において、高温、高圧下に保持して拡散接合を行うことを特徴とする、Ｆｅ基材とＦｅ−Ｓｉ耐食材との接合界面において傾斜複合組織が形成された構造材料を作製する方法。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating applicator capable of applying a fluorescent substance stably by preventing the clogging of a nozzle in the coating method for scanning a nozzle along a partition while discharging fluorescent paste from the nozzle thereby coating the inside of the partition, and to provide a panel on which a fluorescent layer is formed by using them and a high quality plasma display panel using the panel.例文帳に追加

蛍光体ペーストをノズルから吐出させながら隔壁にそって走査し、隔壁内に塗布する塗布方法において、ノズルの目詰まりを防止し、安定した蛍光体塗布が可能な塗布方法と塗布装置、および、それらを用いた蛍光体層が形成されたパネル、および、そのパネルを用いた高品質のプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To create a high-frequency power supply means effectively controlling standing wave generated among electrodes being a disincentive of generation of uniform plasm having large area and high density necessary to improve productivity in an application for a surface treatment of high-frequency plasma; and to provide an apparatus for a surface treatment for a thin film Si system solar cell, a TFT or the like with a high productivity.例文帳に追加

高周波プラズマの表面処理への応用での生産性向上に必要な大面積・高密度・均一のプラズマ生成の阻害要因である電極間に発生の定在波を、効果的に制御する高周波電力供給手段を創出し、薄膜Ｓｉ系太陽電池・ＴＦＴ等の高生産性の表面処理装置を提供すること。 - 特許庁

In a reset process to initialize the quantity of each wall electric charge of a plurality of discharge cells which form one pixel of the plasma display panel, the number of times of power reset discharge to be generated in a discharge cell responsible for at least one luminescent color in the pixel is increased than that of power reset discharge to be generated in discharge cells responsible for other luminescent colors.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの１画素を形成する複数の放電セル各々を内の壁電荷の量を初期化するリセット行程において、画素内の少なくとも１の発光色を担う放電セルで生起させるべきリセット放電の回数を他の発光色を担う放電セルで生起させるべきリセット放電の回数よりも多くする。 - 特許庁

The film deposition system is provided with a film deposition chamber 11, a plasma generation section which is disposed in the film deposition chamber 11 and has a first electrode 21 and a second electrode 22, and an energy distribution function variable section which is disposed inside the film deposition chamber 11, and causes the electron energy distribution function that the neutron particle moving inside the film deposition chamber 11 senses to change.例文帳に追加

成膜装置は、成膜室１１と、成膜室１１内に設けられた第１の電極２１と第２の電極２２とを有するプラズマ発生部と、成膜室１１の中に設けられ、成膜室１１内を運動する中性粒子が感ずる電子エネルギー分布関数を変化させるエネルギー分布関数可変部とを備えている。 - 特許庁

In a state in which an argon gas is supplied into a vacuum chamber 1, a relatively low level of high frequency power, for example, 300 W is supplied to a placement stage 2 (a lower electrode) from a high frequency power supply 11 to generate a weak plasma and act it to a semiconductor wafer W so as to control the state of the electric charge accumulated in the semiconductor wafer W.例文帳に追加

真空チャンバー１内にＡｒガスを供給し、この状態で、まず高周波電源１１から載置台２（下部電極）に、例えば、３００Ｗ等の比較的低い高周波電力を供給して、弱いプラズマを発生させ、半導体ウエハＷに作用させて半導体ウエハＷの内部に蓄積された電荷の状態を調整する。 - 特許庁

In the method where a base materia 14 is arranged inside a growth chamber 10, a gaseous starting material is fed thereto, and a carbon nanotube is oriented and grown on the base material 14 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, both of electric fields and plasma are not used for the growth of the carbon nanotube, and heat emitted by a filament 12 arranged inside the growth chamber is utilized.例文帳に追加

成長室１０内に基材１４を配置し、原料ガスを供給してＣＶＤ法により基材１４上にカーボンナノチューブを配向成長させる方法であって、カーボンナノチューブの成長に、電界及びプラズマのいずれも用いず、且つ成長室内に配置したフィラメント１２の発する熱を利用する方法とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical printer head that does not cause damage to a connector even when the top face of a head board is cleaned by plasma treatment after the head board on which the connector is arranged is bonded and fixed to a base plate, accurately mounts light-emitting elements and a driving IC chip on the head board and improves the reliability of electrical connections.例文帳に追加

コネタクを配設したヘッド基板をベースプレートに接着固定した後に、ヘッド基板上面をプラズマ処理にて洗浄処理を行っても、コネクタの損傷が一切発生することがなく、また、発光素子や駆動用ＩＣチップを精度高くヘッド基板に載置でき、しかも、電気的な接続信頼性も向上できる光プリンタヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the oscillation frequency of a high-frequency oscillation machine 12 for supplying a sinusoidal high-frequency voltage to the counter electrodes 2 is made to follow up the resonance frequency of a load side resonance circuit by a PLL (Phase Locked Loop) circuit 15 to prevent the distortion of the supply voltage and to suppress the generation of the microarcs by a steep noise component, thereby continuously forming the stable plasma.例文帳に追加

さらに、対向電極２に正弦波高周波電圧を供給する高周波発振機１２の発振周波数を、ＰＬＬ回路１５によって負荷側共振回路の共振周波数に追従させ、供給電圧の歪を防止し、急峻なノイズ成分によるマイクロアークの発生を抑止し、安定したプラズマを継続的に生成する。 - 特許庁

The surface of substrate 12 of hyperfine-grained high cemented carbide alloy with a large content of Co is subjected to roughening treatment to the prescribed surface roughness, thereafter, an intermediate layer 18 of TiAlN is formed by a PVD method without performing removal treatment of Co by means of acid treatment, etc., and the diamond film 16 is applied on the intermediate layer 18 by using a microwave plasma CVD device.例文帳に追加

Ｃｏの含有量が多い超微粒子超硬合金の基材１２の表面を所定の面粗さに荒し加工した後、酸処理等によるＣｏの除去処理を行うことなく、ＰＶＤ法によりＴｉＡｌＮの中間層１８を設け、その中間層１８の上にマイクロ波プラズマＣＶＤ装置を用いてダイヤモンド被膜１６をコーティングした。 - 特許庁

After forming a bonding part made of metal in a contour-like shape and etching (surface activation processing) the bonding part by plasma, by bonding objects to be bonded each other by pushing and breaking a deposition layer which re-adhered to the bonding part, a space formed by being surrounded in the contour-like shape by the bonding part between bonding surfaces can be sealed into a predetermined atmosphere.例文帳に追加

金属からなる接合部を輪郭状に形成し、該接合部をプラズマによりエッチング（表面活性化処理）した後、接合部に再付着した付着物層を押し破って被接合物どうしを接合することで、接合面間に接合部によって輪郭状に囲まれて形成される空間を所定の雰囲気に封止することができる。 - 特許庁

A K-ZSM-5 catalyst 12 with a particle diameter of 1-2 mm and ion exchange ratio of 80% is arranged on the downstream of an exhaust pipe 11 and an electric voltage of 9 kV/cm and 25 kHzAC is applied and discharged on an exhaust gas at 250°C with a flow rate of SV=60,000/hr and plasma is generated to perform depuration treatment of NOX.例文帳に追加

排気管１１の下流に、粒径１〜２ｍｍのイオン交換率８０％のＫ−ＺＳＭ−５触媒１２を配置し、２５０℃の排気ガスがＳＶ＝６０，０００／ｈｒの割合で流れているところに、９ｋＶ／ｃｍ、２５ｋＨｚＡＣの電圧を印加して放電し、プラズマを発生せしめてＮＯ_X 浄化処理を行った。 - 特許庁

To provide copper foil for a plasma display panel (PDP) which excels in shielding characteristics of effectively shielding electromagnetic waves, near IR rays, stray light, external light, etc., and has characteristics, such as a uniform surface of a blackening treatment film free of occurrence of uneven stripes, good etching properties, absence of peeling off by powder drop, and sufficient blackening, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

電磁波、近赤外線、迷光、外光等を効果的に遮断するシールド特性に優れ、かつ黒化処理被膜の面が均一でスジむらの発生が少ないこと、エッチング性が良好であること、粉落ちによる剥離がないこと、黒化が十分である等の特性を持つプラズマディスプレーパネル（ＰＤＰ）用銅箔及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A protection tube 36 comprising a silica glass pipe for corrosion resistance is attached at a tip of a plasma generating nozzle 31, a thermocouple 38 is attached on an outer peripheral surface of the protection tube 36, a start-up voltage is input to a whole control part 90 with analog/digital conversion by a sensor input part 98, and a flow control valve 923 of processing gas carries out feedback control.例文帳に追加

プラズマ発生ノズル３１の先端に、防蝕のために石英ガラスパイプから成る保護管３６を取付け、その保護管３６の外周面に熱電対３８を取付け、その起電圧をセンサ入力部９８でアナログ／デジタル変換して全体制御部９０へ入力し、処理ガスの流量制御弁９２３をフィードバック制御する。 - 特許庁

The forming method comprises a process of oxidizing the semiconductor surface of a substrate (9) to be processed on which a semiconductor element is formed with an oxygen atom active species produced by a plane parallel type plasma generation apparatus excited by a high frequency power supply (6) of a predetermined frequency, and hereby forming a first insulating film (18) on the substrate (9) to be processed.例文帳に追加

半導体素子が形成される被処理基板（９）の半導体表面を、所定の周波数の高周波電源（６）によって励振される平行平板型のプラズマ生成装置によって発生させた酸素原子活性種によって酸化することにより、被処理基板（９）に第１の絶縁膜（１８）を形成する工程を有する。 - 特許庁

To provide a near-infrared ray shielding composition which does not cause reduction or disappearance of near-infrared shielding power, efficiently shields heat rays to be emitted from a display and the like, particularly a plasma display, particularly infrared rays in the near-infrared region, and can be produced at a low cost, and a near-infrared ray shielding laminated product to be obtained by using this composition.例文帳に追加

近赤外線遮蔽能の低下又は消失がなく、ディスプレイ等、特にプラズマディスプレイから放出される熱線、特に近赤外領域の赤外線を効率よく遮蔽し、安価に製造できる近赤外線遮蔽性樹脂組成物及びこの組成物を用いて得られる近赤外線遮蔽性積層物を提供する。 - 特許庁

The etching residue can be suppressed and the taper angle can be controlled by a plasma-etching a wiring formed on an active matrix substrate and having the titanium film, the aluminum film and the titanium nitride film using a gas formed by mixing argon gas with chlorine gas in the ratio of the partial pressure of the argon gas to the mixed gas formed by mixing argon gas with chlorine gas of 10/100 to 60/100.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板に形成された、チタン膜、アルミニウム膜及び窒化チタン膜を有する配線を塩素ガスにアルゴンガスを混合したガスを用い、アルゴンガスの分圧と、アルゴンガスに塩素ガスを混合した混合ガスの割合が、１０／１００以上６０／１００以下でプラズマエッチングを行なうことにより、エッチング残渣を抑制しテーパ角を制御することができる。 - 特許庁

Before a dielectric film is formed, the components in the surface layer of a bus electrode are analyzed and a substrate is selected, in order to provide the plasma display panel which is not colored by a silver compound containing sulfur produced on the electrode surface by reacting with a sulfur compound in the atmosphere such as silver sulfide (Ag_2S), silver sulfite (Ag_2SO_3) or the like.例文帳に追加

誘電体膜が形成される前に、バス電極表面層の成分分析を行い、基板選別をすることにより、大気中の硫黄化合物と反応して電極表面に生成した硫黄を含有する硫化銀（Ａｇ_２Ｓ）や亜硫酸銀（Ａｇ_２ＳＯ_３）などの銀化合物による着色のないプラズマディスプレイパネルを実現する。 - 特許庁

In the method for producing a medical treatment apparatus wherein a fluorine-containing layer is formed on the medical liquid contacting surface, a liquid fluorinated polymer is coated over the medical treatment apparatus wherein at least a fluorine-containing layer fixed on the medical liquid contacting surface is formed and at least one of the medical liquid contacting surface of the medical treatment apparatus, and then processed with plasma.例文帳に追加

少なくとも薬液接触面に固着したフッ素含有層が形成されていることを特徴とする医療用機器及び医療用機器の少なくとも薬液接触面に液状フッ素系ポリマーをコーティングし、次いでプラズマ処理することを特徴とする薬液接触面にフッ素含有層が形成された医療用機器の製造方法。 - 特許庁

The method and equipment of the hybrid welding is for welding a metallic work piece, a tailored blank for example, by using a laser beam and an electric arc, a plasma arc in particular, by which method the laser beam 3 is transmitted to a radiation-absorbing means, an absorption cavity 2 for example, which absorbs the radiation of the laser beam and/or deflected after the weld joint is formed.例文帳に追加

金属製ワークピースたとえばテーラードブランクを、レーザービームと電気アーク特にプラズマアークとを用いて溶接するためのハイブリッド溶接方法および装置であって、溶接継手を形成した後にレーザービーム３を、前記レーザービームの放射を吸収可能な放射吸収手段たとえば吸収キャビティ２に送りおよび／または偏向する方法。 - 特許庁

A method for manufacturing a flexible metal-clad laminate includes: (a) forming on a metal layer a first polyimide layer having a coefficient of linear thermal expansion of 25 ppm/K or less; (b) plasma-treating a surface of the first polyimide layer; and (c) forming on the first polyimide layer a second polyimide layer having a coefficient of linear thermal expansion of 25 ppm/K or less.例文帳に追加

フレキシブル金属積層板の製造方法は、（ａ）金属層の上部に線熱膨張係数が２５ｐｐｍ／Ｋ以下の第１ポリイミド層を形成する段階と、（ｂ）第１ポリイミド層の表面をプラズマ処理する段階と、（ｃ）第１ポリイミド層の上部に線熱膨張係数が２５ｐｐｍ／Ｋ以下の第２ポリイミド層を形成する段階と、を含む。 - 特許庁

In forming the fluorescent face in the cell space, because a fluorescent material paste filled into the cell space becomes hard to flow down from the side parts of the barrier rib part 12 in drying and calcining, the fluorescent material layer 13 is formed thick and uniform, the manufactured plasma display panel becomes superior in the light emitting efficiency, and so that the brightness unevenness or the color unevenness does not occur.例文帳に追加

セル空間に蛍光面を形成するに際し、セル空間に充填した蛍光体ペーストが乾燥時や焼成時に隔壁部分１２の側部から流れ落ち難くなるため、蛍光体層１３が厚くしかも均一に形成されることから、製品化されたプラズマディスプレイパネルは、発光効率が良好で、輝度ムラや色ムラを生じないものとなる。 - 特許庁

The respective fine powders of metallic nano-crystalline bulk material forming components are subjected to mechanical alloying (MA) using a ball mill etc. to prepare metal nano-powder, and the powder is then subjected to hot compaction, such as sheath rolling, spark plasma sintering and extrusion, or compaction treatment such as explosive forming to manufacture the tenacious metallic nano-crystalline bulk material having high hardness and high strength.例文帳に追加

ナノ金属バルク材形成成分の各微粉末を、ボールミル等を用いてメカニカルアロイング（ＭＡ）することによって、ナノ金属粉末を製造した後、粉末をシース圧延、放電プラズマ焼結、押出し成形等の熱間固化成形又は爆発成形などの固化成形処理して高硬度・高強度で強靱なナノ結晶金属バルク材となす。 - 特許庁

The amorphous hard carbon film is formed on the sliding surface of the sliding member of the compressor by accommodating the sliding member in a holding electrode so that the sliding surface of the sliding member and the electrode surface of the holding electrode are located in nearly same plane, and generating glow discharge plasma between the holding electrode and a gas supply electrode body by applying an alternating current voltage at a pressure close to atmospheric pressure.例文帳に追加

保持電極に圧縮機の摺動部材を圧縮機の摺動部材の摺動面と保持電極の電極面とが略同一面状に収容させ、大気圧近傍で交流電圧を印可して保持電極とガス供給電極体との間にグロー放電プラズマを発生させ、摺動面に非晶質硬質炭素皮膜を成膜する。 - 特許庁

The manufacturing method has a first working process in which a nozzle plate constituting member with the water repellent film 2 of at least one or more layers set on the base 1 is worked from the base 1 side, and the base material 1 is mainly etched; and a second working process in which the water repellent film 2 is mainly etched with the use of plasma having oxygen after the first working process is finished.例文帳に追加

基材１上に少なくとも１層以上からなる撥水膜２を有するノズルプレート構成部材を、基材１側から加工するとともに、主に基材１をエッチングする第１の加工工程と、第１の加工工程終了後、主に上記撥水膜２を酸素を有するプラズマを用いてエッチングする第２の加工工程を備える。 - 特許庁

Top surfaces (sticking-preventive surfaces) of an aluminum-made outer liner 40 and an inner liner 42 fitted as sticking-preventive plates in the chamber of the plasma etching device are roughened to surface roughness within a certain range without being subjected to alumite treatment, and thus a reaction product deposited film 50 is prevented from being peeled off, thereby reducing the contamination of a treated body 16 with particles.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバ内に防着板として取付されるアルミニウム製のアウターライナー４０およびインナーライナー４２のおもて面（防着表面）をアルマイト処理せずに一定範囲内の表面粗さに粗面化することにより、反応性生物堆積膜５０の剥離を防止し、被処理体１６のパーティクル汚染を低減する。 - 特許庁

Furthermore, in the method of manufacturing the titanium alloy material used for manufacturing the alloy, fusion raw material constituted from sponge titanium, aluminum-vanadium base alloy or metal aluminum and metal vanadium, and metal boron or boride of titanium is fused in a vacuum arc fusion furnace, a plasma arc fusion furnace, a floating fusion furnace or an electron beam fusion furnace.例文帳に追加

更に、この合金の製造に用いるチタン合金材の製造方法であって、スポンジチタン、アルミニウム−バナジウム母合金または金属アルミニウムと金属バナジウム、および金属ホウ素またはチタンのホウ化物から構成される溶解原料を、真空アーク溶解炉、プラズマアーク溶解炉、浮遊溶解法または電子ビーム溶解炉にて溶製することを特徴とする。 - 特許庁

In this ion implanter provided with an arc chamber 12 that is installed on an ion source body 11, has a filament 13 formed in its inside, and converts a gas into plasma, opening parts 14 are formed at one end part of the arc chamber 12, and the filament 13 is extended outside the arc chamber 12 with its non-contact state in relation to the opening parts 14 kept.例文帳に追加

イオン源本体１１に設けられかつ内部にフィラメント１３が設けられたもので、ガスをプラズマ化するアークチャンバ１２を備えたイオン注入装置において、アークチャンバ１２の一端部には開口部１４が設けられ、フィラメント１３はその開口部１４に対して非接触状態を保ってアークチャンバ１２の外部へ延出されているものである。 - 特許庁

The plasma display device having a protecting circuit which turns off the power source on detecting the component being broken is provided with an abnormality decision means 22 of turning off the power source if the protecting circuit has an abnormal operation history and configured to read the operation history of the protecting circuit from a memory 27 when the power source is turned on and switch the operation of the protecting circuit.例文帳に追加

部品の破壊を検出し電源をオフする保護回路を有するプラズマディスプレイ装置において、保護回路に異常動作履歴があったときに電源をオフする異常判定手段２２を設け、電源投入時にメモリ２７から保護回路の動作履歴を読み込み、動作履歴により保護回路の動作を切り替えるように構成した。 - 特許庁

The manufacturing method includes a sputtering step of causing the mold resin containing wax or fatty acid to sputter the ball surface of the semiconductor package exposed on the side of the ball surface by Ar plasma, a step of flip-chip-bonding the semiconductor package onto a wiring substrate after the sputtering step, and a step of filling the underfill resin between the semiconductor package and the wiring substrate.例文帳に追加

ワックス又は脂肪酸が含まれたモールド樹脂がボール面側に露出した半導体パッケージのボール面をＡｒプラズマによりスパッタするスパッタ工程と、スパッタ工程の後に、半導体パッケージを配線基板上にフリップチップ接合する工程と、半導体パッケージと配線基板の間にアンダーフィル樹脂を充填する工程とを有する。 - 特許庁

The filter structure creates flow resistance in a direction of the plasma 1 and a propagating direction of the radiation, the increased gas pressure of the buffer gas 5 remains limited to a predetermined volume layer of the debris filter to the pressure of a vacuum chamber, and the buffer gas 5 coming from the filter structure of the debris filter is suctioned from the vacuum chamber by a vacuum pump.例文帳に追加

フィルタ構造はプラズマ１の方向および放射線の伝播方向において流れ抵抗を生成し、真空室における圧力に対して、緩衝ガス５の増大したガス圧力がデブリフィルタの所定の体積層に制限されたままであり、デブリフィルタのフィルタ構造から出る緩衝ガス５は真空ポンプによって真空室から吸引される。 - 特許庁