「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(569ページ目) - Weblio英語例文検索

The device is provided with a discharge lamp La equipped with an airtight vessel 1 with gas as a discharge medium sealed in, an anode electrode 2a as well as a cathode electrode 2b arranged inside the airtight vessel 1, and a discharge plasma generating auxiliary device arranged inside the airtight vessel 1 and equipped with an electron source 10 supplying electrons into the gas above and a grid electrode 20 set in opposition to the electron source 10.例文帳に追加

放電媒体であるガスが封入された気密容器１と、気密容器１の内部に配置されたアノード電極２ａおよびカソード電極２ｂと、気密容器１内に配置され上記ガス中へ電子を供給する電子源１０および電子源１０に対向配置されるグリッド電極２０を有する放電プラズマ生成補助装置とを備えた放電ランプＬａを備えている。 - 特許庁

In the magnetic recording medium 10 constructed by successively forming a magnetic layer 2 composed of a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film 3 on a nonmagnetic supporting body 1, the surface of the carbon protective layer 3 is plasma treated and the protective layer 3 retains a lubricant formed by combining an ester compound of perfluoropolyether having a terminal hydroxyl group with a long chain carboxylic acid and an alkyl ester of a partially fluorinated carboxylic acid.例文帳に追加

非磁性支持体１上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層２、カーボン保護膜３が順次形成されて成る磁気記録媒体１０において、カーボン保護層３表面をプラズマ処理し、保護層３に、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルと長鎖カルボン酸とのエステル化合物、および部分フッ化カルボン酸アルキルエステルを組み合わせた潤滑剤を保持させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the plasma display panel has a front face plate including a display electrode formed on a front face substrate, a dielectric layer formed to cover the display electrode, and the protection layer formed to cover the dielectric layer, and the front face plate is put under a moisture-less atmosphere, only in a period when a front face plate temperature is 400°C or less, after forming the protection layer.例文帳に追加

前面基板上に形成した表示電極と、この表示電極を覆うように形成した誘電体層と、さらにこの誘電体層を覆うように形成した保護層とを備える前面板を有するパネルの製造方法であって、前面板は、保護層の形成後、前面板温度が４００℃以下である期間のみ、水分レス雰囲気下とすることを特徴とする。 - 特許庁

In the plasma display panel, as the protective film 14 of magnesium oxide (MgO) formed on the dielectric glass layer 13, by forming the protective film 14 of magnesium oxide (MgO) to which oxide containing an element having electric negativity of 1.4 or more is added, adsorption of impure gas to the protective film 14 is suppressed, and stabilization of the discharge sustaining voltage and reduction of the panel brightness deterioration can be realized.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体ガラス層１３上に形成される酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の保護膜１４として、電気陰性度が１．４以上の元素を含む酸化物を添加した酸化マグネシウム（ＭｇＯ）の保護膜１４を形成することによって、保護膜１４の不純ガス吸着を抑制し、放電維持電圧の安定化と、パネル輝度劣化の低減を図ることができる。 - 特許庁

This photocatalytic body 10 comprises a substrate 1 and a photocatalyst film 2 consisting essentially of Ti, O and C, formed on the substrate in such a way that fine TiO_2 particles are mixed within the range of 30-90 mass% (expressed in terms of oxide) and metal cluster fine particles are dispersed and having an absorption peak of visible light due to plasma resonance of the metal cluster fine particles.例文帳に追加

光触媒体１０は、基体１と；Ｔｉ、Ｏ、Ｃを主成分とし、ＴｉＯ_2微粒子が酸化物換算質量比で３０〜９０質量％の範囲内となるように混合され、かつ金属クラスター微粒子が分散されて基体上に製膜され、この金属クラスター微粒子のプラズマ共鳴による可視光の吸収ピークを有する光触媒膜２と；を具備している。 - 特許庁

A continuous film forming apparatus 12 by Plasma CVD comprises an introduction tube 13 for introducing a gas containing a film forming substance, several reaction tubes 5 for decomposing each introduced gas and forming a film on a substance to be treated 1, which are arranged along the substance to be treated 1 which is arranged to face the tube 13, and a buffering box 16 connected among an introduction tube 13 and several reaction tubes 5.例文帳に追加

成膜物質を含有するガスを導入する導入管１３と、対向配置した被処理体１に沿って配置され、導入されたガスをそれぞれ分解して被処理体１上に成膜する複数の反応管５と、導入管１３と複数の反応管５との間に接続された緩衝ボックス１６とを有するプラズマＣＶＤ連続膜形成装置１２。 - 特許庁

Here, when forming the second insulating film, a cycle is repeated that consists of six steps, the six steps of supplying to a deposition system deposition materials for the second insulating film, purging the deposition materials supplied into the deposition system, supplying oxidizer for oxidizing the deposition materials, purging the oxidizer, supplying active species produced by generating a reduced gas plasma, and purging excessive active species.例文帳に追加

ここで、第２の絶縁膜形成の際、成膜装置内への第２の絶縁膜の成膜原料の供給、成膜装置内に供給された前記成膜原料のパージ、成膜原料を酸化させる酸化剤の供給、酸化剤をパージ、還元ガスプラズマの発生により生成した活性種の供給、過剰の活性種をパージの６工程からなるサイクルを繰り返し行う。 - 特許庁

The manufacturing method of a plasma display panel and the green sheet include a step exposing a first green sheet containing a cover film using a first mask on which a black matrix pattern is formed, a black matrix dry film and a base film, a step removing the cover film and laminating the first green sheet on a substrate, and a step removing the base film and forming a black matrix on the substrate.例文帳に追加

本発明は、ブラックマトリックスパターンが形成された第１マスクを利用してカバーフィルム、ブラックマトリックスドライフィルム及びベースフィルムを含む第１グリーンシートを露光するステップと、前記カバーフィルムを除去して基板上に前記第１グリーンシートをラミネーティングするステップと、前記ベースフィルムを除去して前記基板上にブラックマトリックスを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The means 4 for plasma discharge treatment is capable of selectively conducting the cleaning treatment for cleaning by bringing the excited inert gas into contact with the base material L, the film deposition treatment for depositing the film by bringing the excited inert gas and the plasmatized reactive gas into contact with the base material L, and the etching treatment for etching by bringing the excited inert gas into contact with the base material L.例文帳に追加

プラズマ放電処理手段４は、励起不活性ガスを基材Ｌに接触させることによって洗浄を行う洗浄処理と、励起不活性ガスおよびプラズマ化した反応性ガスを基材Ｌに接触させることによって製膜する製膜処理と、励起不活性ガスを基材Ｌに接触させることによってエッチングを行うエッチング処理とを、選択的に行う。 - 特許庁

A magnetite-containing layer 13 is formed on the surface of the cast iron pipe 1 by irradiating the surface of the pipe 1 with plasma arcs 9 generated from oxygen 8 as working gas to melt the surface of the pipe 1 and to oxidize the surface at high temperature, thereby forming the layer 13 thicker than the case in which the surface of the pipe 1 is not oxidized without being melted.例文帳に追加

酸素８を作動ガスとして発生させたプラズマアーク９を鋳鉄管１の表面に照射し、鋳鉄管１の表面を溶融させて高温で酸化させることによって、鋳鉄管１の表面にマグネタイト含有層１３を形成することにより、鋳鉄管１の表面を溶融させないで酸化させた場合に比べてマグネタイト含有層１３を厚く形成する。 - 特許庁

The metal partition 16 with a lateral wall 16A extended in a line direction zoning between discharge cells C adjacent in a column direction between a front glass substrate and a rear glass substrate of the plasma display panel and with an outside surface coated with an insulating layer 16a has a groove 16Aa formed at least either on a front side face or a rear side face of the lateral wall 16A.例文帳に追加

行方向に延びてプラズマディスプレイパネルの前面ガラス基板と背面ガラス基板の間の列方向に隣接する放電セルＣの間を区画する横壁１６Ａを有し外表面が絶縁層１６ａによって被覆された金属製の隔壁１６であって、横壁１６Ａの表側の面または背面の少なくとも一方の面に、溝１６Ａａが形成されている。 - 特許庁

The discharge plasma cleaning device 1 is equipped with a dielectric 26 containing MgTiO_3 and CaTiO_3 as a crystal phase and Na_2O as an impurity; the dielectric 26 contains Mg of at least 1-15 wt.% in terms of MgO and Na_2O of at most 100 ppm and has tanδ of 3×10^-4 or lower.例文帳に追加

結晶相としてＭｇＴｉＯ_３及びＣａＴｉＯ_３を含有し、且つ、不純物としてＮａ_２Ｏを含有する誘電体２６を備えた放電プラズマクリーニング装置１において、誘電体２６のＭｇがＭｇＯ換算で１〜１５重量％以上含有するとともに、上記Ｎａ_２Ｏが１００ｐｐｍ以下とし、且つ、ｔａｎδが３×１０^−４以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The back base board of a plasma display panel is manufactured with a phase forming a complex function sheet 60 to make glaze and barrier rib materials in the shape of a sheet, a phase jetting glue material on a substrate provided between the complex function sheet 60 and the substrate 62, a phase bonding the complex function sheet 60 on the substrate 62, and a phase molding a partition pressurizing the complex function sheet 60.例文帳に追加

グレイズ及び隔壁材料をシート化して複合機能シート６０を形成する段階と、複合機能シート６０と基板６２間の間に設けるグルー材料を基板上に噴射する段階と、複合機能シート６０を基板６２上に接合する段階と、複合機能シート６０を加圧して隔壁を成形する段階とを行ってプラズマディスプレーパネルの背面基板を製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a plasma display panel(PDP) and a forming device of a phosphor layer, capable of accurately forming the phosphor layer in a groove between barrier ribs even in micro cell structure, forming the uniform phosphor layer in a stripe-shaped groove without scanning a nozzle at high speed, and relatively easily forming the phosphor layer even on the side of the groove.例文帳に追加

微細なセル構造の場合にも隔壁間の溝に精度良く蛍光体層を形成することができ、且つ、高速でノズル等を走査しなくてもストライプ状の溝に均一的な蛍光体層を形成することができ、更に、溝の側面にも比較的容易に蛍光体層を形成することのできるＰＤＰの製造方法及び蛍光体層形成装置を提供する。 - 特許庁

In the driving circuit of the plasma display device, the temperatures of respective components of entire MOS(metal oxide semiconductor) transistors 47a to 47h which are connected in parallel are uniformized by controlling heat evolution due to power losses of respective MOS transistors 47a to 47h while controlling electrically conductive times of the respective MOS transistors 47a to 47h by selecting individually gate resistances 48, 49 of them.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置の駆動回路において、並列に接続されたＭＯＳトランジスタ４７ａ〜４７ｈのゲート抵抗４８，４９を個別に選定し、それぞれのＭＯＳトランジスタ４７ａ〜４７ｈの導通時間を制御することによりそれぞれのＭＯＳトランジスタ４７ａ〜４７ｈでの電力損失による発熱を制御し、全てのＭＯＳトランジスタ４７ａ〜４７ｈの部品温度を均一にする。 - 特許庁

A substrate is heated to a predetermined temperature in a reaction chamber, silicon-containing gas and hydrogen gas are supplied between the substrate and a discharge electrode, a high frequency electric power of a source frequency of 100 MHz to 300 MHz is applied between the discharge electrode and the substrate to produce a discharge plasma, and a thin-film- crystal-like silicon thin film is stack-formed on the substrate.例文帳に追加

反応容器内で基板を所定温度に加熱し、基板と放電用電極との間にシリコン含有ガスおよび水素ガスを供給するとともに、電源周波数が１０ＭＨｚ以上３００ＭＨｚ以下の高周波電力を該放電用電極と基板との間に印加して放電プラズマを生成させ、基板上に薄膜結晶系シリコン薄膜を積層形成する。 - 特許庁

The plasma display module 105 includes a chassis base 150, a PDP 140 which is supported ahead of the chassis base 150 and by which images are embodied, a circuit board which is supported behind the chassis base 150 and on which a plurality of circuit elements for driving the PDP 140 are mounted, and wiring which electrically connects the circuit board and the PDP 140 and is directly grounded to the chassis base 150.例文帳に追加

シャーシベース１５０、前記シャーシベース１５０の前方に支持されて画像が具現されるＰＤＰ１４０、前記シャーシベース１５０の後方に支持されてＰＤＰ１４０を駆動する複数の回路素子が搭載された回路基板、及び回路基板とＰＤＰ１４０とを電気的に連結するものであって、シャーシベース１５０に直接接地された配線を具備するプラズマディスプレイモジュール１０５。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element including forming of the optical element of a desired shape by pressing a forming workpiece softened by heating by means of forming dies, and depositing the antireflection film on the surface of the obtained optical element, the optical element of ≥60 mJ/m^2 in surface free energy is subjected to the deposition of the antireflection film by UV ozone cleaning or plasma cleaning.例文帳に追加

加熱軟化した成形素材を成形型により加圧成形して、所望の形状の光学素子を成形し、得られた光学素子の表面に反射防止膜を成膜することを含む光学素子の製造方法であって、反射防止膜の成膜を、ＵＶオゾン洗浄又はプラズマ洗浄することにより表面自由エネルギーが60mJ/m^2以上である光学素子に対して行う。 - 特許庁

The plasma film deposition system comprises: a sample stand for installing at least a sample substrate inside a vessel holdable to a reduced pressure; a target having a through hole and arranged with a fixed interval from the sample stand or one or more sets of targets arranged so as to be confronted each other; and a mechanism for controlling the distribution of particles flying from the target to the sample substrate.例文帳に追加

本発明のプラズマ成膜装置は、減圧に維持できる容器内に、少なくとも、試料基板を設置するための試料台と、試料台から一定の間隔をおいて配置された、貫通溝を有するターゲットまたは１組以上の互いに相対向して配置されたターゲットと、ターゲットから試料基板に飛来する粒子分布を制御する機構とを有する。 - 特許庁

The film formation device is provided with: a high frequency power source 9; a matching circuit 23; an external electrode 5 of receiving electric power from the high frequency power source 9 via the matching circuit and generating plasma at the inside of a film formation chamber 11 storing a resin bottle 2 as the object for film formation; and a control part 26 for controlling the impedance of the matching circuit 23.例文帳に追加

本発明による成膜装置は，高周波電源９と，整合回路２３と，その整合回路を介して高周波電源９から電力を受け取り，その電力によって成膜対象である樹脂ボトル２を収容する成膜室１１の内部でプラズマを発生させる外部電極５と，整合回路２３のインピーダンスを制御するための制御部２６とを具備する。 - 特許庁

The apparatus includes an air flow passage 111 shutting off outside air and circulating inside air, a high-frequency applying part 130 arranged at the outside of the air flow passage 111 and generating plasma by applying high frequency waves inside the air flow passage 111, and a contaminated air introducing part 118 introducing contaminated air containing the contaminated particles to the air flow passage 111, and makes the introduced air plasmatic.例文帳に追加

外部の気体を遮断し、内部に気体を流通させる気体流通路１１１と、気体流通路１１１の外部に配置され、気体流通路１１１内に高周波を印加してプラズマを発生させる高周波印加部１３０と、汚染粒子を含む汚染気体を気体流通路１１１に導入する汚染気体導入路１１８と、を備え、導入気体をプラズマ化する。 - 特許庁

The plasma display panel comprises a first base plate 2 and a second base plate 4 facing each other, an address electrode 8 formed on the first base plate 2, separation walls 12 located at a space between the first base plate 2 and the second base plate 4 and forming discharge cells, fluorescent layers 14 formed in the respective discharge cells, and discharge sustaining electrodes 20 made of metal formed on the second base plate 4.例文帳に追加

互いに対向配置される第１基板２及び第２基板４と、前記第１基板２に形成されるアドレス電極８と、前記第１基板２と第２基板４との間の空間に配置されて放電セルを形成する隔壁１２と、前記各々の放電セル内に形成される蛍光層１４及び前記第２基板４に金属製放電維持電極２０を含む。 - 特許庁

This application provides this plasma display panel having a front substrate and a back substrate arranged oppositely to each other, and provided with barrier ribs composed of a plurality of first barrier ribs extended in a first direction, and an plurality of second barrier ribs extended in a second direction crossing the first direction for forming a plurality of discharge cells by partitioning an area between the front substrate and the back substrate.例文帳に追加

相互に対向配置された前面基板と背面基板とを有し、第１方向に延設された複数の第１隔壁と、第１方向と交差する第２方向に延設された複数の第２隔壁とにより構成され、前面基板と背面基板との間を区画して複数の放電セルを形成するための隔壁を備えたプラズマ表示装置が提供される。 - 特許庁

A cleaning device is provided with a cleaning vessel housing materials to be cleaned, a gas introducing hole for introducing a gas to the cleaning vessel, an exhaust hole for exhausting the gas from the cleaning vessel, an exhaust pump connected to the exhaust hole and an ultraviolet light source for irradiating the materials to be cleaned with ultraviolet-rays, and a mechanism for generating plasma is installed in the cleaning vessel.例文帳に追加

被洗浄物を格納する洗浄槽と、該洗浄槽にガスを導入するためのガス導入口と、該洗浄槽からガスを排出するための排気口と、該排気口に接続された排気ポンプと、前記被洗浄物に紫外線を照射するための紫外光源と、を備えた洗浄装置であって、前記洗浄槽内にプラズマを発生させる機構を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The transparent barrier film including a carbon deposition layer having a thickness of 0.5 to 10 nm at least on one face of the substrate comprising a plastic material and laminating an aluminium oxide layer having a thickness of 3 to 500 nm thereon, the transparent barrier film in which the carbon deposition face of the substrate is a treated face utilizing plasma of a reactive ion etching (RIE) mode, and its production method are provided.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、厚さ０．５〜１０ｎｍのカーボン蒸着層を有し、その上に厚さ３〜５００ｎｍの酸化アルミ層を積層した透明バリアフィルムや上記基材のカーボン蒸着面がリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した処理済みの面である透明バリアフィルムおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The proliferation auxiliary is a glycosaminoglycan in which the 6-position of D-glucosamine constituting a heparin is substantially desulfated and has ≤50 s APTT (activated partial thromboplastin time) when measurement is made by adding the glycosaminoglycan to the standard plasma at 30 μg/ml final concentration and ≤100 s, more preferably ≤80 s APTT when the measurement is made by adding the glycosaminoglycan at 100 μg/ml final concentration.例文帳に追加

ヘパリンを構成するＤ−グルコサミンの６位を実質的に脱硫酸したグリコサミノグリカンであり、標準血漿に最終濃度３０μｇ／ｍｌで添加して測定した際のＡＰＴＴ時間が５０秒以下、好ましくは、最終濃度１００μｇ／ｍｌで添加して測定した際のＡＰＴＴ時間が１００秒以下であり、更に好ましくは８０秒以下である。 - 特許庁

A substrate is placed direct below a magnetron type discharge electrode where a high frequency electric field applied from the outside intersects a stationary magnetic field at a right angle, a metallic catalyst supported on a support is fixed on the substrate, magnetron plasma is produced under the coexistence of a hydrocarbon gas while heating the substrate by a heater and the single-wall carbon nanotube is formed on the metallic catalyst under the DC bias control of the substrate.例文帳に追加

外部印加の高周波電場と定常磁場とが直交するマグネトロン型放電電極の直下に基板を設置すると共に、該基板上に担体に担持された金属触媒を固定し、該基板をヒーターで加熱しながら炭化水素ガスの共存下にマグネトロンプラズマを発生し、該基板の直流バイアス制御のもとに前記金属触媒上に単層カーボンナノチューブを生成する。 - 特許庁

This material is specified by coating the outside with a film of silicon oxide or silicon nitride using a high frequency plasma vapor growth method.例文帳に追加

支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤及び結合剤を含有する感光層と該感光層に隣接する保護層を有し、支持体に対して感光層側とは反対側にバッキング層を有する光熱写真画像形成材料において、最外層に酸化珪素又は窒化珪素の高周波数プラズマ気相成長薄膜を塗設したことを特徴とする光熱写真画像形成材料。 - 特許庁

At the time of plasma-etching a film of hard-to-etch material formed on a substrate using a mask formed on the film, the film is etched using a mask having a sidewall angling at less than 90° relative to the surface of the substrate so that the etched film has a taper angle relative to the surface of the substrate not smaller than the taper angle of the mask.例文帳に追加

基板上に形成された難エッチング材の膜とその上に形成したマスクを用いて、前記膜をプラズマを用いてエッチングする際に、前記マスクの側壁が前記基板の表面に対する角度が９０度未満のマスクを用いてエッチングし、それによりエッチング後の上記膜の前記基板の表面に対するテーパー角度を上記マスクのテーパー角度以上とする。 - 特許庁

In the magnetic recording medium 10 constructed by successively forming a magnetic layer 2 composed of a ferromagnetic metal thin film and a carbon protective film 3 on a nonmagnetic supporting body 1, the surface of the carbon protective layer 3 is plasma treated and the protective layer 3 retains a lubricant formed by combining a compound of perfluoropolyether having a terminal carboxyl group with an amine and an alkyl ester of a partially fluorinated carboxylic acid.例文帳に追加

非磁性支持体１上に、強磁性金属薄膜よりなる磁性層２、カーボン保護膜３が順次形成されて成る磁気記録媒体１０において、カーボン保護層３表面をプラズマ処理し、保護層３に、末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテルとアミンとの化合物と、部分フッ化カルボン酸アルキルエステルとを組み合わせた潤滑剤を保持させる。 - 特許庁

This film forming equipment 10 includes parallel plate electrodes 16, 22 provided in a reaction chamber 12, gas supply sources 20, 30 for introducing process gases containing SiH4, SiF4, and an oxygen source substance into the reaction chamber 12, valves 36, 38, 40, a gas mixing chamber 28 and a power source 44 for supplying RF power to generate plasma of the process gases.例文帳に追加

成膜装置１０は、反応チャンバ１２内に設けられた平行平板型電極１６、２２と、ＳｉＨ_4、ＳｉＦ_4および酸素ソース物質を含むプロセスガスを反応チャンバ１２内に導入するためのガス供給源２０、３２、３４、バルブ３６、３８、４０、およびガス混合室２８と、プロセスガスのプラズマを生成するためのＲＦ電力を供給する電力源４４と、を備える。 - 特許庁

A temperature rise suppression means 100A comprises a treatment gas cooler 101A for cooling treatment gas G supplied to the plasma generating nozzle 31; a chiller unit 102A; passages 103A and 104A for cooling water CW1 provided between the treatment gas cooler 101A and the chiller unit 102A; a treatment gas temperature measuring means 105A; and a gas temperature control circuit 97.例文帳に追加

昇温抑制手段１００Ａは、プラズマ発生ノズル３１に供給される処理ガスＧを冷却する処理ガス冷却器１０１Ａと、チラーユニット１０２Ａと、処理ガス冷却器１０１Ａとチラーユニット１０２Ａとの間に設けられた冷却水ＣＷ１の経路１０３Ａ，１０４Ａと、処理ガス温度測定手段１０５Ａと、ガス温調回路９７とを備える。 - 特許庁

In the plasma display panel having a substrate pair for sandwiching a gas filling space for matrix display and a plurality of electrodes extending in the horizontal direction of a matrix display range by being arranged on the substrate at the front side of the substrate pair, the plurality of electrodes are in a structure having a plurality of conductive shading bands arranged in parallel by preparing an interval between respective electrodes extending in the horizontal direction.例文帳に追加

マトリクス表示のためのガス封入空間を挟む基板対と、基板対の前面側の基板上に配列されてマトリクス表示領域の水平方向に延びる複数の電極とを有したプラズマディスプレイパネルにおいて、複数の電極のそれぞれを、水平方向に延びる互いの間に間隔を設けて平行に配列された複数の導電性遮光帯を有する構成とする。 - 特許庁

In a method of forming a photovoltaic element, which enables the precipitation of a silicon layer 110 on a substrate 103 by contacting the substrate 103 with a supersaturated solution obtained by dissolving a silicone in a metal solvent 109, before the substrate 103 contacts the supersaturated solution, a silicon thin film 107 is formed on the surface of the substrate 103 using a high-frequency plasma CVD method.例文帳に追加

金属溶媒１０９にシリコンを溶解した過飽和溶液に基板１０３を接触させることにより基板１０３上にシリコン層１１０を析出させる光起電力素子の形成方法において、過飽和溶液に基板１０３と接触させる前に、基板１０３表面にシリコン系薄膜１０７を高周波プラズマＣＶＤ法を用いて形成しておく。 - 特許庁

The apparatus is equipped with a pair of electrodes 11, 12 whose tips face each other and a power source 18 supplying voltage between the electrodes 11, 12 to form discharge plasma at a discharge region between the electrodes 11, 12, where at least one of the electrodes 11, 12 is made of a porous carbon material.例文帳に追加

少なくとも、最先端部が対向する２つの電極１１，１２と、電極１１，１２間の放電領域に放電プラズマを生成するべく電極１１，１２間に電圧を印加する電源１８とからなり、対向する２つの電極１１，１２のうち少なくとも一方が、多孔性炭素材料からなることを特徴とするカーボンナノチューブの製造装置および製造方法である。 - 特許庁

The washing treatment tank 10 is held to a pressure reduced state (reduced up to 70 Pa in this embodiment) through an exhaust port 15, a filter 16 and an exhaust vacuum pump 17 and, in this state, the sectors 1 are washed while reaction gas G comprising a mixture of oxygen and carbon tetrafluoride is ejected from the shower electrode 12 to generate plasma.例文帳に追加

そして、前記洗浄処理槽１０内を、排気孔１５，フィルタ１６，排気真空ポンプ１７を介して減圧状態（この実施形態では、７０Ｐａまで減圧させる）にし、この状態で、前記セクター１をプロファイル面１ａに、前記シャワー電極１２から酸素と四フッ化炭素との混合体から成る反応ガスＧを噴射させながらプラズマを発生させて洗浄させる。 - 特許庁

In the plasma display panel provided with a dielectric layer 9 formed so as to cover a scanning electrode 5 and a sustaining electrode 6 which are formed on a front substrate 4, and a protective layer 10 formed to cover the dielectric layer 9, the protective layer 10 includes silicon nitride, and is structured of magnesium oxide with concentration range of the silicon nitride from 20 weight ppm to 7500 weight ppm.例文帳に追加

前面基板４上に形成した走査電極５および維持電極６を覆うように誘電体層９を形成し、この誘電体層９を覆うように保護層１０を形成したプラズマディスプレイパネルであって、保護層１０は窒化珪素を含むものであり、保護層１０を、窒化珪素の濃度範囲が２０重量ｐｐｍ〜７５００重量ｐｐｍの酸化マグネシウムで構成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the light-emitting device equipped with a plurality of light-emitting elements each having an organic compound layer between an anode and a cathode, an organic compound layer is formed on the anode, and after that, plasma is made generated in an atmosphere containing hydrogen to terminate defects in the organic compound layer with the hydrogen and form a cathode on the organic compound layer.例文帳に追加

陽極と陰極との間に有機化合物層を有する発光素子を複数有する発光装置の作製方法であって、陽極上に有機化合物層を形成し、有機化合物層を形成した後に水素を含む雰囲気でプラズマを発生させて有機化合物層における欠陥を水素で終端させる処理を行い、有機化合物層上に陰極を形成する。 - 特許庁

The method is for manufacturing the semiconductor device for forming a diffusion layer by diffusing the phosphorus atom on the surface of the silicon substrate with a resist coated, and has steps of forming the diffusion layer, keeping the temperature of the silicon substrate lower than the alteration temperature of the resist, and forming an oxide film by supplying a plasma excitation gas on the surface of the formed diffusion layer.例文帳に追加

レジストが塗布されたシリコン基板の表面にリン原子を拡散させて拡散層を形成する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板の温度をレジストの変質温度よりも低く保ちながら拡散層を形成する拡散層形成工程と、形成した拡散層の表面にプラズマ励起ガスを供給して酸化膜を形成する酸化膜形成工程と、を有する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus comprises a base 5 for holding the substrate 4 on the upper surface, and a source 8 (inert gas supply means) for supplying inert gas between the lower surface of the substrate 4 and the upper surface of the substrate holding base 5 through a gas channel 7 comprising a sleeve 71 (tubular body) inserted into the substrate holding base 5.例文帳に追加

基板４を上面に保持する基板保持台５と、基板４の下面と基板保持台５の上面との間にガス流路７を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給源８（不活性ガス供給手段）とを備えたプラズマ処理装置において、不活性ガス供給源８のガス流路７を、基板保持台５に挿入されたスリーブ７１（筒状体）から構成した。 - 特許庁

The manufacturing method of the master disk for manufacturing the optical information recording medium has a main constitution such as featured by including processes: to form a resist film on the master disk; to expose the resist film; to develop the resist film; and to smooth micro unevenness of a resist surface by exposing the developed resist film to plasma.例文帳に追加

光情報記録媒体製造用原盤の製造方法であって、原盤上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程と、現像されたレジスト膜をプラズマに曝してレジスト表面の微小凹凸を平滑化する工程とを有する事を特徴とする光情報記録媒体製造用原盤の製造方法を主たる構成にする。 - 特許庁

In the process for manufacturing microchips, which have a running route structure composed of a channel and a port, the bonding of substrates and confronting members is carried out after improving the surface quality through the radiation of plasma or UV light onto the bonding surfaces of the substrates or the bonding surfaces of both the substrates and the confronting members under an atmospheric pressure.例文帳に追加

基板と対面部材とを貼り合わせることにより、チャネル及びポートからなる流路構造を有するマイクロチップを製造する方法において、基板の貼り合わせ面又は基板と対面部材の両方の貼り合わせ面に、大気圧下でプラズマ又はＵＶ光を照射して表面改質処理してから前記基板と対面部材を貼り合わせることを特徴とするマイクロチップの製造方法。 - 特許庁

In a sputtering device equipped with a MgO target 3 and a ferromagnetic target 4, and sputtering MgO and a ferromagnetic substance to a substrate 8, this low-resistance granular film including a MgO barrier layer having (111) orientation and ferromagnetic fine particles dispersed in the MgO barrier layer is formed on the substrate 8 while a plasma interference state is optimized.例文帳に追加

ＭｇＯターゲット３及び強磁性体ターゲット４を備え、基板８に対してＭｇＯ及び強磁性体をスパッタリングするスパッタリング装置において、プラズマ干渉状態を最適化した状態で、前記基板８上に（１１１）配向を有するＭｇＯバリア層と、前記ＭｇＯバリア層中に分散された強磁性体微粒子と、を含む低抵抗グラニュラ膜を形成する。 - 特許庁

To inspect the shape of a photosensitive film after exposure of the photosensitive film formed on either of substrates of a plasma display panel and before development thereof, and to determine a projection defect on a high-accuracy substrate at low cost and even in a complicated barrier rib shape without depending on transparency or opaqueness nor needing a lighting means comprising a plurality of directions.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのいずれかの基板に形成された感光性膜の露光後であって現像前に、当該感光性膜の形状が検査でき、隔壁層の透明、非透明に依存せず、また複数の方向からなる照明手段を必要とせず、低コストでかつ複雑な隔壁形状においても高精度基板上の突起欠陥の判定を行うことが可能になる。 - 特許庁

To provide a dielectric formation glass paste for a plasma display panel capable of providing a baked film hardly leaving a trace of a screen mesh even when dried and baked immediately after forming a coating film by a screen printing method, having a smooth and uniform film thickness, and hardly including remaining foam, and capable of forming a dielectric layer high in transparency and withstand voltage.例文帳に追加

スクリーン印刷法により、塗付膜を形成後、直ちに乾燥、焼成しても、スクリーンメッシュの跡が残り難く平滑で均一な膜厚を有し、しかも、残存する泡が殆どない焼成膜を得ることができ、透明性及び耐電圧の高い誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。 - 特許庁