「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(573ページ目) - Weblio英語例文検索

In the plasma display device in which 1 field has a plurality of sub-fields weighted correspondingly to emission luminance, and which performs video display by varying the emission luminance in each of the sub- fields SF1-SF8 in 1 field according to the video signal levels, the emission luminance in the sub-field SF1 weighted according to the minimum emission luminance is kept unchanged according to the video signal levels.例文帳に追加

１フィールドは、発光輝度に対応して重み付けされたサブフィールドを複数有し、１フィールド内の各サブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８における発光輝度を映像信号レベルに応じて変化させて映像表示を行うプラズマディスプレイ装置において、最小の発光輝度に対応して重み付けされたサブフィールドＳＦ１における発光輝度を、映像信号レベルに応じて変化させないようにする。 - 特許庁

The member for a semiconductor processing apparatus having corrosion resistance and plasma erosion resistance in combination is created by a base material, and a vapor phase precipitated vapor deposition film of a chemically stable amorphous carbon-hydrogen solid material containing 15 to 40at.% hydrogen formed on the surface of the base material, and by dispersively incorporating superfine particles of a metal oxide into the vapor phase precipitated vapor deposition film of the amorphous carbon-hydrogen solid material.例文帳に追加

基材と、その表面に形成された１５〜４０ａｔ％の水素を含有する化学的に安定なアモルファス状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜と、そのアモルファス状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜中には金属酸化物の超微粒子を分散含有させることによって、耐食性と耐プラズマエロージョン性を兼備した半導体加工装置用部材をつくる。 - 特許庁

This infective medical waste treatment method comprises an incinerating step of incinerating the flame retardant medical wastes, a melting step of using a plasma heating device for improving the combustibleness of combustion improver to heat/burn unburnt components of flame retardant materials remaining in incinerated ashes and heat/melt non-flammable materials into a slug form, and an exhaust gas treatment step of rendering harmless harmful gas generated in the incinerating step and the melting step.例文帳に追加

感染性医療廃棄物を焼却する焼却行程、および、プラズマ加熱装置により助燃材の燃焼性を向上させ、これにより焼却灰に残存する難燃物の未燃分を加熱・燃焼すると共に不燃物を加熱・溶融してスラグ化する溶融行程、および前記焼却行程および溶融行程にて発生した有害ガスを無害化する排ガス処理工程を有する。 - 特許庁

This dry etching method repeatedly executes a step of generating plasma in a vacuum tank to etch a substrate and a step of sputtering a sold material disposed oppositely to the substrate to form a protective film on the side wall of an etching pattern, wherein a mixed gas obtained by adding a reaction gas for forming a protective film to a noble gas is used as a sputter gas in the protective film forming step.例文帳に追加

本発明のドライエッチング方法は、真空槽内でプラズマを発生させて、基板をエッチングする工程と、基板に対向して配置された固体材料をスパッタして、エッチングパターンの側壁部に保護膜を形成する工程を、交互に繰り返して行うドライエッチング方法であって、保護膜の形成工程では、スパッタガスとして、希ガスに保護膜形成用の反応ガスを添加した混合ガスを用いる。 - 特許庁

Both surfaces of the boards 7 are simultaneously processed by plasma by the use of a glow discharge generated between the boards 7 and the ground-side electrode plates 9 by high-frequency potential difference between the boards 7 and the ground-side electrode plates 9 in the presence of a reactive gas while a microwave generated by a magnetron 3 is applied into the metal chamber 1 from the top of the metal chamber.例文帳に追加

そして、金属製チャンバ−１の上部からマグネトロン３によって発生されたマイクロ波を金属製チャンバ−１内に照射しながら反応ガスの存在下に被処理基板７とグランド側電極板９との間の高周波電位差により被処理基板７とグランド側電極板９の間に発生するグロ−放電を利用して多数の被処理基板７の両面を同時に所要のプラズマ加工処理する。 - 特許庁

To provide a noise reduction circuit for a semiconductor device that can reduce a high level noise caused by concentrated flowing of a momentary transient current (peak current) through power lines of IO buffers when many outputs are inverted in each semiconductor, using the IO buffer with an output in a plurality of bits and capable of a high output current capability, such as a data control circuit for plasma display and liquid crystal display.例文帳に追加

プラズマ表示や液晶表示のデータ制御回路のような複数ビットの出力をもち、出力電流能力の高いＩＯバッファを使用している半導体で出力の多数が反転した場合、出力ＩＯバッファで瞬間的な過渡電流(ピーク電流)が電源線に集中的に流れることにより発生する大きなノイズを低減する半導体装置のノイズ低減回路を提供する。 - 特許庁

After a film is formed on a substrate by means of the CVD device by producing a fluorine gas component and other components by making a fluorine compound act by imparting energy to the fluorine compound and refining the produced fluorine gas component after separating the fluorine gas component from the other components, the by-products adhering to the internal wall of the reaction chamber are removed by generating plasma from the separated and refined fluorine gas component.例文帳に追加

フッ素化合物にエネルギーを付与して、フッ素化合物を反応させて、フッ素ガス成分とフッ素ガス成分以外の成分を生成し、生成したフッ素ガス成分とフッ素ガス成分以外の成分とを分離して、フッ素ガス成分を分離精製して、ＣＶＤ装置によって基材の成膜処理を行なった後に、分離精製したフッ素ガスをプラズマ化して、反応チャンバー内に付着した副生成物を除去する。 - 特許庁

Supplying a predetermined halogen-based gas with coexisting hydrogen and/or helium from a duct 110 to a reactor 101 while exhausting the same from a duct 111, the alternating current power is supplied between an anode 102 and a cathode 107 from an alternating current power source 109 to generate plasma, thereby removing metal and metal oxide adhered to the carbon nanotube on a substrate 105 to perform a modifying treatment for the carbon nanotube.例文帳に追加

水素及び／又はヘリウムを共存させた所定のハロゲン系ガスを管１１０から反応容器１０１に供給すると共に管１１１から排出させながら、交流電源１０９からアノード１０２とカソード１０７間に交流電力を供給してプラズマを発生させ、これにより、基板１０５上のカーボンナノチューブに被着している金属や金属酸化物を除去してカーボンナノチューブの改質処理を行う。 - 特許庁

In the compressor housing 1 for a turbo supercharger provided with the friction coating 7 on the inside wall 8 cooperating with a compressor wheel 4, when manufacturing the friction coating 7 with a plasma display method, activation such as rough lathing to be directly performed to a surface of the compressor housing wall 8 in the depth direction is unnecessary, and the coating 7 has a fixed porosity and relatively small grain size.例文帳に追加

圧縮機ホイール４と共働する内側壁８上に摩耗コーティング７が設けられたターボ過給機の圧縮機ハウジング１であり、プラズマスプレー法による摩耗コーティング７の製造では、例えば粗い旋盤加工のような表面の深さ方向であって圧縮機ハウジング壁８に直接施される活性化を必要とせず、コーティング７は一定の気孔率および相対的に小さな粒子サイズを有する。 - 特許庁

To the phosphor layer 24 to be laminated on respective spaces including address electrodes 23 therein among ribs 22 on a back plate 20 which is opposed to a frontal plate 10 of a plasma display panel 1, an inorganic phosphor which has been used in constituting a blue phosphor and emits a blue color by ultraviolet irradiation and copper or a copper compound and, in addition, phosphorus or a phosphorus compound are added.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル１の前面板１０と対向する背面板２０上の各リブ２２間に、アドレス電極２３上も含めて積層される蛍光体層２４中に、従来、青色蛍光体を構成するために使用している、紫外線照射により青色に発光する無機蛍光体、および銅又は銅化合物以外に、さらに、リンまたはリン化合物を加えることにより、上記の課題を解決することができた。 - 特許庁

The method for manufacturing iron oxide particulate red pigment is characterized in that, after brown iron oxide fine particles having γ-Fe2O3 crystalline structure are manufactured by the DC arc plasma method by using an iron source material as a consumptive anode electrode, the iron oxide fine particles are calcined in an oxygen-containing atmosphere to obtain red fine particles each having α-Fe2O3 crystalline structure.例文帳に追加

鉄原料を消費アノード電極として、直流アークプラズマ法で製造したγ−Ｆｅ_2 Ｏ_3 の結晶構造を持つ略褐色酸化鉄微粒子を製造した後、該酸化鉄微粒子を用いて、酸素含有雰囲気中で焼成することによりα−Ｆｅ_2 Ｏ_3 の結晶構造を持つ赤色微粒子を得ることを特徴とする酸化鉄微粒子赤色顔料の製造方法に関する。 - 特許庁

The method for manufacturing a single-walled carbon nanotube comprises the steps of: forming a buffer layer on a glass substrate; forming a catalyst metal layer on the buffer layer; introducing the glass substrate having the catalyst metal formed thereon into a vacuum chamber to generate an H_2O plasma in the vacuum chamber; and supplying a source gas into the vacuum chamber to grow a carbon nanotube on the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上にバッファー層を形成するステップと、前記バッファー層上に触媒金属層を形成するステップと、前記触媒金属が形成されたガラス基板を真空チャンバに導入し、真空チャンバ内にＨ_２Ｏプラズマを発生させるステップと、真空チャンバ内にソースガスを供給しガラス基板上にカーボンナノチューブを成長させるステップと、を含むことを特徴とする単層カーボンナノチューブの製造方法である。 - 特許庁

In the gas-barrier film having a silicon oxide film formed by a plasma CVD method at least on one side of a base material, the silicon oxide film comprises 170-200 oxygen atoms and 30 or below carbon atoms per 100 silicon atoms and has IR absorption based on Si-O-Si stretching vibration in a range of 1,055-1,065 cm-1.例文帳に追加

基材の片面または両面に、プラズマＣＶＤ法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Ｓｉ原子数１００に対してＯ原子数１７０〜２００およびＣ原子数３０以下の成分割合からなっており、さらに１０５５〜１０６５ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the rare earth magnet includes a step of forming a protective layer containing an oxygen and/or a nitrogen near the front surface of the metal layer, by bringing a mixed chemical seed containing plasma-excited oxygen and/or the nitrogen and a rare gas into contact with the metal layer provided on the front surface of a magnet element containing the rare earth element.例文帳に追加

上記課題を解決する本発明の希土類磁石の製造方法は、希土類元素を含有する磁石素体の表面上に設けられた金属層に、プラズマ励起された酸素及び／又は窒素並びに希ガスを含有する混合化学種を接触させることにより、金属層の表面近傍部に酸素及び／又は窒素を含有する保護層を形成する工程を有するものである。 - 特許庁

To appropriately keep the permeability of a semipermeable membrane by reducing the total hydraulic permeability of the semipermeable membrane to control the danger of back filtration and independently adjusting the properties of (hydraulic permeability, transmittance) of the semipermeable membrane in a range so that the hydraulic permeability of the semipermeable membrane is low, middle, or high in fluidity when blood or plasma is treated by extracorporeal circulation.例文帳に追加

体外循環によって血液又は血漿を処理する際に、逆濾過の危険性を制限するために半透膜の全体的液圧浸透率を低下させるとともに、その半透膜の液圧浸透率が低流動、中流動又は高流動になるような範囲に、半透膜の諸特性［液圧浸透率、透過率］を互いに独立的に調整し、その透過率を満足できる値に維持する。 - 特許庁

To diffusibly introduce processing gas while dispersing the gas, by making use of the porousness of a ceramic body, homogenize the processing gas in a vessel, homogenize the density of plasma generated in a vessel by the homogenization of the processing gas in the vessel, reduce processing unevenness on the surface of a substrate for raising processing quality, and improve workability by enhancing processing speed.例文帳に追加

セラミック体の多孔質性により処理用ガスを分散して拡散導入することができ、容器体内の処理用ガスの均一化を図ることができ、処理用ガスの均一化により容器体内に発生するプラズマのプラズマ密度の均一化を図ることができ、基板表面の処理むらを抑制して処理品質を高めることができると共に処理速度を高めて作業性を向上することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing a master mold for nanoimprint comprises forming a pattern on a resist-applied silicon substrate by electron beam drawing to prepare a silicon master, separating a master mold having a rugged pattern reverse to a resist pattern of the silicon master formed by electroforming, from the silicon master, and then eliminating resist residue on the surface of the master mold by irradiation of plasma containing atomic hydrogen.例文帳に追加

レジストを塗布したシリコン基板に電子線描画によってパターンを形成してシリコン原盤を作製した後、電鋳により形成された前記シリコン原盤のレジストパターンと逆の凹凸パターンを有するマスターモールドを前記シリコン原盤から剥離した後、原子状水素を含むプラズマの照射で前記マスターモールドの表面のレジスト残渣を除去することを特徴とするナノインプリント用マスターモールドの製造方法。 - 特許庁

The substrate 1 for the plasma display panel has barrier ribs 2... partitioning discharge cells 6 formed on the substrate 4, the the barrier ribs 2 are formed with thin barriers 4 formed on at least one-end side of the barrier libs 2 by forming a recessed groove 3 and thick barriers 5 continuing to the thin barriers 4 and thicker than the thin barriers 4.例文帳に追加

この発明のプラズマディスプレイパネル用基板１は、基板上に放電セル６を区画する隔壁２…が形成されてなるプラズマディスプレイパネル用基板において、前記隔壁２は、該隔壁２の少なくとも一方の側面に凹溝３が設けられることによって形成された薄壁部４と、該薄壁部４に連接された薄壁部厚さよりも厚さの大きい肉厚壁部５とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a cleaning composition, a cleaning method using the same, and a manufacturing method of a semiconductor device, capable of solving a problem particular to a cleaning composition containing a specific detergent adjusted substantially to neutral, preventing corrosion by washing not only a semiconductor substrate and a metal layer but also a silicon, and sufficiently removing a plasma etching residue and an ashing residue generated during a manufacturing process.例文帳に追加

実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The electrode pattern composed of the ink is formed on the substrate by offset printing using the ink for forming the plasma display panel electrode, containing conductive powders, a resin composition removable by baking and a thixotropy-imparting agent having 200-450°C pyrolysis temperature, wherein the ratio of the thixotropy-imparting agent is 0.1-5 wt.% of the whole, followed by baking the printed electrode pattern.例文帳に追加

導電性粉体と、焼成により除去可能な樹脂分と、熱分解温度が２００〜４５０℃であるチキソトロピー性付与剤と、を含み、かつ当該チキソトロピー性付与剤の含有割合が全体の０．１〜５重量％である、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの電極形成用インキを用いて、当該インキからなる電極パターンをオフセット印刷によって基板上に形成し、次いでこの電極パターンを焼成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the adhesive optical retardation film by laminating the adhesive layer to at least one surface of the optical retardation film obtained by stretching a norbornene-based film, is characterized by making the surface free energy of the optical retardation film surface to which the adhesive layer is to be laminated 60 mN/m or higher with plasma irradiation under atmospheric pressure and subsequently laminating the adhesive layer thereto.例文帳に追加

ノルボルネンを延伸して得られる位相差板の少なくとも片面に粘着剤層を積層して粘着型位相差板を製造する方法において、粘着剤層を積層する前記位相差板の表面を、大気圧下で、プラズマ照射によって表面自由エネルギー６０ｍＮ／ｍ以上とした後に粘着剤層を積層することを特徴とする粘着型位相差板の製造方法。 - 特許庁

The protective film for a plasma display panel is produced by an electron beam deposition method, an ion irradiation deposition method, or a sputtering method using the single crystal magnesium oxide sintered compact as a target material.例文帳に追加

焼結体の相対密度が５０％以上９０％未満であり、酸化マグネシウム純度が９７質量％以上であり、かつ、粒径２００μｍ以上の粗大粒子を含むことを特徴とする単結晶酸化マグネシウム焼結体、及び、この単結晶酸化マグネシウム焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したプラズマディスプレイパネル用保護膜である。 - 特許庁

To provide an inspecting device and a manufacturing method for a plasma display panel rear plate which can perform image processing by selecting and switching some of plural video signals, reduce the number of expensive image processors and the memory capacity in the image processors, lower the device cost, facilitate replacing operation in maintenance by decreasing the wiring quantity of a movable part, and perform inspection with high precision.例文帳に追加

複数の映像信号から一部を選択して切り換えて画像処理することが可能で、高価な画像処理装置の数を低減したり、画像処理装置内のメモリー容量を低減することができ、装置コストを抑えることが可能な、かつ、可動部の配線量を減らしメンテナンス時の交換作業を容易化可能な、しかも、高精度な検査が可能なプラズマディスプレイパネル背面板の検査装置と製造方法を提供する。 - 特許庁

A first oxide layer 4 is provided on a substrate 1, a capacitor having a metal oxide containing capacitor material layer 32 separated on a downside electrode and upside electrodes 31, 33 is formed thereon, and the first oxide layer 4 is doped prior to forming the capacitor, and a barrier substance forming a hydrogen diffusion barrier 7A is doped in the first oxide layer under the use of a plasma doping method.例文帳に追加

サブストレート１の上に第一の酸化物層４を設け、その上に下側電極及び上側電極３１、３３及びこれらの間に析出した金属酸化物含有コンデンサー材料層３２を有するコンデンサーを形成させ、コンデンサーの形成の前に、第一の酸化物層４を、プラズマドープ法の使用下に、第一の酸化物層中で水素拡散バリア７Ａを形成するバリア物質をドープする。 - 特許庁

In an electron beam treatment device which has electron beam quantity detection components 2 that detect the quantity of the electron beams emitted from the electron beam tubes 1 with the electron emission windows 11 outside them, connection lines 3 which transmit detection signals detected by the electron beam quantity detection components 2 are insulated and coated so as not to be affected at least by the electron beams and the plasma generated by them.例文帳に追加

電子放射窓１１を備えた電子線管１から放射される電子線量を検出する電子線量検出部２を電子放射窓１１の外部に備えた電子ビーム処理装置において、電子線量検出部２で検出された検出信号を伝達する接続線３は、少なくとも、前記電子線や前記電子線によって生成されたプラズマによる影響を受けないように絶縁被膜する。 - 特許庁

To provide a vessel for inspecting blood that can fully exhibit an expected medicine performance without decreasing the performance of a medicine by preventing the contact between a medicine such as a blood coagulation accelerator and a blood anticoagulant, and serum or a plasma separating medium, and at the same time, preventing the medicine such as the blood coagulation accelerator and blood anticoagulant from being mixed into the separating medium.例文帳に追加

血液凝固促進剤や血液抗凝固剤などの薬剤と、血清または血漿分離剤との接触を防止すると共に、血液凝固促進剤や血液抗凝固剤などの薬剤が分離剤中へ混入するのを防止することにより、かかる薬剤の性能を低下させることなく、所期の薬剤性能を十分に発揮することができる血液検査用容器を提供する。 - 特許庁

The energy recovery system for the plasma display panel relating to a first embodiment is equipped with a resonance circuit which generates the voltage boosted up to the voltage twice the sustaining voltage by resonating the sustaining voltage, a diode which limits the voltage formed by the resonance circuit so as not to exceed the sustaining voltage and a panel to which the sustaining voltage is supplied from the resonance circuit under the control of the diode.例文帳に追加

本発明の第１実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのエネルギー回収装置は、サステイン電圧を共振させて前記サステイン電圧の２倍の電圧まで上昇する電圧を発生させる共振回路と、前記共振回路で生成される電圧が前記サステイン電圧を超えないように制限するダイオードと、前記ダイオードの制御下に前記共振回路から前記サステイン電圧を供給されるパネルと、を備える。 - 特許庁

The system for fabricating an electronic device comprises a processing chamber employing a fluorine based gas for removing an insulating film between interconnect line layers and oxides on the contact surface of a semiconductor, a conveyor for conveying the semiconductor in order to remove fluorine remaining on the contact surface after the insulating film is removed, equipment for heat treating the semiconductor, and a system performing hydrogen based plasma processing of the semiconductor.例文帳に追加

半導体のコンタクト表面の配線層間絶縁膜と酸化物を除去するためのフッ素系ガスを用いた処理チャンバと、絶縁膜を除去した後、コンタクト表面に残留するフッ素を除去するために前記半導体を搬送する搬送装置と、前記半導体を加熱処理するための加熱処理装置と、前記半導体を水素系のプラズマ処理をするためのプラズマ処理装置を用いる。 - 特許庁

This plasma discharge purification device has an inflow solenoid valve 1 arranged on the inside, a metal-meshed filter 3 having an electromagnetic wave discharging function and a carbon fiber filter 4 arranged successively on the flowing-in water hole 2 side of the valve 1 and an activated stone catalyst 6 and pieces of photocatalyst 7 arranged on the flowing-out water hole 5 side of the valve 1.例文帳に追加

内部に流入電磁弁１を備えたプラズマ放電浄化装置であって、前記流入電磁弁１よりも流入水孔２側に、電磁波放電機能を有する金属メッシュフィルター３とカーボン繊維フィルター４とを順次配置すると共に、前記流入電磁弁よりも流出水孔５側に、活性石触媒６を配置し、さらに光触媒７を複数個配置してなるプラズマ放電浄化装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the metal film forming method includes a process to form a photo resist pattern of a desired shape on the metal film divided into a plurality of areas and the resin film, and a process to form the metal film pattern of a desired shape by removing a part of the metal film divided into a plurality of areas by the chemical etching method, a plasma etching method or the ion beam etching method.例文帳に追加

さらに、上記複数の領域に分けて形成した金属膜および樹脂フィルム上に、所望形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、化学エッチング法またはプラズマエッチング法もしくはイオンビームエッチング法により、上記複数の領域に分けて形成した金属膜の一部を除去し、所望形状の金属膜パターンを形成する工程とを含む金属膜の形成方法とする。 - 特許庁

In the transparent gas barrier polyamide film constituted by successively laminating a polyamide film base material having a plasma RIE treatment surface, the transparent vapor deposition thin film layer comprising an inorganic oxide provided on the treatment surface of the base material and a gas barrier film layer, the polyamide film base material is constituted by providing a polyester resin film at least to one side of the polyamide resin film and the surface thereof is an RIE treatment surface.例文帳に追加

プラズマＲＩＥ処理面を有するポリアミド系フィルム基材、その処理面上に無機酸化物からなる透明蒸着薄膜層、さらにガスバリア性被膜層を順次積層している透明ガスバリア性ポリアミド系フィルムにおいて、ポリアミド系フィルム基材がポリアミド系樹脂フィルムの少なくとも一方の面にポリエステル系樹脂フィルムを設けて、その表面がＲＩＥ処理面である技術を提供するものである。 - 特許庁

This melt discharge mechanism is formed of a combination of a melt discharge port provided at a bottom part of the rotary hearth type plasma fusion treating apparatus for fusion-treating radioactive miscellaneous solid waste, to transfer the melt to the receiving container, a cylindrical ceramic guide interposed between the melt discharge port and the receiving container, and a plurality of resistance heating heaters arranged around the ceramic guide.例文帳に追加

放射性雑固体廃棄物を溶融処理する回転炉床式プラズマ溶融処理装置において、溶融処理装置の底部に設けられ、溶融物を受け容器に移すための溶融物排出口と、溶融物排出口と受け容器の間に介在させる筒状のセラミック製ガイドと、該セラミック製ガイドの周囲に配置される複数本の抵抗加熱ヒータとを組み合わせた溶融物排出機構。 - 特許庁

In the apparatus and the method for depositing the film on the base material by the microwave plasma CVD method by introducing the microwave into the discharge space via the dielectric window, a plurality of thin plate-like members are disposed on the discharge space side of the dielectric window so as to form a space partitioned across the direction of the electric field by the plurality of thin plate-like members.例文帳に追加

誘電体窓を介して放電空間内にマイクロ波を導入し、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、前記誘電体窓の前記放電空間側に複数の薄板状部材を有し、該複数の薄板状部材によって電界方向を横切る向きに仕切られた空間が形成されるように構成する。 - 特許庁

A lower electrode 1 arranged parallel to an upper electrode and generating plasma between it and the upper electrode is formed of a center coating film 20 of which center part of the surface of the electrode is composed of a metal or an alloy consists essentially of aluminum, body 2 and the peripheral part of the surface of the electrode body 2 is formed of a peripheral coating film 19 composed of ceramic melt-sprayed coating.例文帳に追加

上部電極１０に対し平行に配置して上部電極１０との間にプラズマを発生させるための下部電極１１を、電極本体２の表面中央部がアルミニウムを主成分とする金属または合金からなる中央被覆膜２０で形成され、電極本体２の表面周辺部がセラミック溶射膜からなる周辺被覆膜１９で形成された構成とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of ≤135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

The negative charge type toner is obtained by externally adding a plurality of hydrophobed external additives to spherical polyester resin particles containing colored particles, wherein at least negative charge type silicon oxide particles, rodlike polyhedral hexagonal zinc oxide particles obtained by evaporating metal zinc with plasma and oxidizing the resultant vapor, and titanium oxide particles are externally added as the external additives.例文帳に追加

本発明の負帯電性トナーは、着色粒子を含有する球形ポリエステル系樹脂粒子に、複数の疎水化された外添剤を外添して得られる負帯電性トナーにおいて、該外添剤として少なくとも負帯電性酸化シリコン粒子、金属亜鉛をプラズマで蒸発させ蒸気を酸化して得られる棒状多面体六方晶系酸化亜鉛粒子、および酸化チタン粒子を外添したことを特徴とする。 - 特許庁

This method for analyzing the protein contained in the specimens is provided by adding a polynucleotide having a clear base sequence of an optimal kind and having an affinity to the protein to the living body-originated specimen such as serum, plasma, urine, etc., binding the polynucleotide with the protein, then separating non-bonded polynucleotide from the protein-polynucleotide, amplifying the polynucleotide bonded with the protein, and identifying and determining the polynucleotide.例文帳に追加

蛋白質を含有する血清、血漿、尿、その他の生体由来試料に、蛋白質に親和性を有する任意の種類の塩基配列が明らかなポリヌクレオチドを添加し、ポリヌクレオチドと蛋白質を結合させた後に非結合ポリヌクレオチドと蛋白質−ポリヌクレオチドとを分離した後、蛋白質に結合したポリヌクレオチドを増幅し、ポリヌクレオチドを特定、 定量することにより、試料中の蛋白質を解析する。 - 特許庁

The implant material 1 for regeneration of a biological tissue comprises a tubular member 2 made of a material allowing at least either oxygen or nourishment from a liquid flowing in the inside to permeate to the outside, a mixture 3 of the biological tissue prosthesis, stem cells and platelet-rich plasma, disposed around the tubular member 2, and a membrane 4 made of a biocompatible material covering the above.例文帳に追加

内部に流通させる液体から外部へ少なくとも酸素または栄養分のいずれか一方を透過可能な材質からなる管状部材２と、該管状部材２の周囲に配置された生体組織補填材、幹細胞および多血小板血漿の混合物３と、これらを被覆する生体適合性材料からなる膜４とを備える生体組織再生用移植材１を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass layer capable of forming a uniform glass layer on an electrode with high workability so as not to adversely influence a discharge characteristic without mixing bubbles in a part where copper contacts glass in baking even if a dielectric layer is formed on the electrode mainly containing copper; and to provide a front plate of a plasma display panel having an accurate and uniform glass layer on an electrode.例文帳に追加

銅を主体とした電極上に誘電体層を形成しても焼成時に銅とガラスの接触した部分に気泡が混入することなく放電特性に悪影響が生じないように電極上に均一なガラス層を作業性良く形成できるガラス層の製造方法を提供し、また、電極上に高精度で均一なガラス層を備えたプラズマディスプレイパネル用前面板を提供する。 - 特許庁

Into a plant for manufacturing a cooking oil to manufacture it by treating at least one of a seed material and a material oil, inductively coupled plasma emission spectrometry system 100 is established for simultaneously measuring plural elements contained in at least one of crude oil and a material oil wrung from a seed material and in at least one of an intermediate product and a final product in the plant.例文帳に追加

種子原料及び原料油のうち少なくとも一方を処理して食用油を製造する食用油製造プラントに、種子原料から搾油された原油及び原料油のうち少なくとも一方と当該プラントにおける中間製品及び最終製品のうち少なくとも一方とに含まれる複数の元素を同時測定する誘導結合プラズマ発光分析システム１００を併設した。 - 特許庁

In the plasma display device, the packaging structure of an IC chip in a gang bonding system address driver module (GB-ADM60) comprises a flexible substrate 61 manufactured in continuous long a tape shape, an IC chip 62 packaged on a flexible substrate 61, and a protection cover 63 that covers the IC chip 62 packaged on the flexible substrate 61 and protects at least the IC chip 62.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、ギャングボンディング方式によるアドレスドライバモジュール（ＧＢ−ＡＤＭ６０）におけるＩＣチップの実装構造は、テープ状で長尺に連続させた形で製造されたフレキシブル基板６１と、このフレキシブル基板６１上に搭載されたＩＣチップ６２と、フレキシブル基板６１上に搭載されたＩＣチップ６２上を覆い、少なくともＩＣチップ６２を保護する保護カバー６３とを有して構成される。 - 特許庁

The dielectric paste of the present invention for forming a dielectric layer of a plasma display panel is characterized in that: it contains a dielectric glass material, a solvent, and a binder component; the binder component has such a molecular weight as to provide a viscosity of 20-200 cps inclusive; and a content of the binder component in the paste is 4-10% inclusive by volume fraction.例文帳に追加

本発明の誘電体ペーストは、プラズマディスプレイパネルの誘電体層を形成する誘電体ペーストであって、誘電体ガラス材料、溶剤およびバインダ成分を含み、前記バインダ成分は粘度２０ｃｐｓ以上２００ｃｐｓ以下となる分子量であって、前記ペースト中前記バインダ成分の体積分率で表記した含有量が４％以上１０％以下であることを特徴とする。 - 特許庁

An yttria coating 50 covering a chamber 11 that the substrate treatment apparatus performing plasma etching on the wafer has comprises: an yttria base layer 51 laminated on an internal wall; and an yttria upper layer 52 laminated on at least part of the yttria base layer 51, wherein the structure of the yttria upper layer 52 is coarser than the structure of the yttria base layer 51 since sizes of particles constituting the yttria layer is ≥250 nm.例文帳に追加

ウエハＷにプラズマエッチングを施す基板処理装置が備えるチャンバ１１を被覆するイットリア皮膜５０は、内壁に積層されたイットリア基層５１と、該イットリア基層５１の少なくとも一部に積層されたイットリア上層５２とからなり、イットリア上層５２の構造は、イットリア層を構成する粒子の大きさが２５０ｎｍ以上であることによりイットリア基層５１の構造よりも疎である。 - 特許庁

This method for forming fluorescent pattern in a barrier plate of a plasma display panel, comprises forming a reflective layer (A) containing inorganic compound (a) selected from alumina, titanium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, calcium oxide, tantalum oxide, silicon oxide, barium oxide and recovered phosphors, and a layer (B), including the phosphor are successively in the barrier plate, and executing exposure, development and baking.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの隔壁内に蛍光体パターンを形成するに当たり、該隔壁内に、アルミナ、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化タンタル、酸化ケイ素、酸化バリウム、回収蛍光体より選ばれる無機化合物（ａ）を含んでなる反射層（Ａ）、及びその上に蛍光体含有層（Ｂ）を設けてなる層を形成させた後、露光、現像、焼成を行う蛍光体パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide an EUV source module which appreciably improves the ratio of resources to results in the transfer of radiation from a primary source location (plasma 3) to a secondary source location (output opening (6) of a source module (1)/intermediate focus plane (62)) as to an arrangement for generating EUV radiation particularly for source modules in exposure installations for EUV lithography for semiconductor chip fabrication.例文帳に追加

特に半導体チップの製造に用いられるＥＵＶリソグラフィ露光装置の線源モジュール用にＥＵＶ放射線を生成するための配列に関し、一次線源位置（プラズマ３）から二次線源位置［線源モジュール（１）の出口開口部（６）／中間焦点面（６２）］に放射線を伝送する際の費用対成果比が大幅に改善されるＥＵＶ線源モジュールを実現する新しい可能性を見出すことを課題とする。 - 特許庁