「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(185ページ目) - Weblio英語例文検索

The suction part 31 is arranged at the center of the feed part of the cloth feeder, and spreading parts 42 and 42' having belt-like parts 45 and 46 to be in contact with the cloth W to shape it are arranged on the left and right of the feed part.例文帳に追加

吸い出し部３１は布類投入機の投入部の中央に配置し、布類Ｗに接触して整形するためのベルト状部４５、４６を有する拡げ部４２、４２′が投入部の左右に配置されている。 - 特許庁

The respective end parts 4 in the width direction and the intermediate part 32 of the dash cross member 6 are segmentized, and front surfaces of respective divided end parts 32a of the intermediate part 32 are joined and welded (W) to rear surfaces of divided end parts 4a of the respective end parts 4.例文帳に追加

ダッシュクロスメンバ６の上記幅方向の各端部４と、中途部３２とを互いに分断し、各端部４の分断端部４ａの後面に、中途部３２の各分断端部３２ａの前面を接合させて溶接Ｗした。 - 特許庁

Then, a time period from the time when the brush 16 is judged to be at the backside treatment time position to the time when the brush 16 starts to move away from the wafer W is measured, and the time period is accumulated and stored in a memory.例文帳に追加

そして、ブラシ１６が裏面側処理時位置に配置されたと判断された時点からブラシ１６がウエハＷからの離間のために移動し始めるまでの時間が計測され、その時間がメモリに累積して記憶される。 - 特許庁

This battery pack is formed by containing one or plural batteries and the accessories of the battery in the resin case, and the heat conductivity of a resin component used for the resin case is 0.4-1.2 W/m.K.例文帳に追加

１個又は複数個の電池と該電池の付属部品を樹脂製筐体に収容した電池パックであって、前記樹脂製筐体に用いられる樹脂成分の熱伝導率が０．４〜１．２Ｗ／ｍ・Ｋであることを特徴とする電池パック。 - 特許庁

Large friction is generated by riding and sliding and falling on a slope of a water cluster by the collision of waves W in the tilted wave-preventive wall 13, the energy of waves is damped, an impulse is relaxed, and the reflection of waves is decreased.例文帳に追加

傾斜した防波壁１３は波浪Ｗの衝突によって水塊が傾斜面に乗り上がったり滑落することによる大きな摩擦を発生し、波のエネルギを減衰させ、かつ衝撃を緩和し、波の反射を減少させる。 - 特許庁

When the delay time of the delay part 50 is set larger than c, the end surface echo is zero in the signal obtained by multiplying the signal branched to the path b by the window function W (t), and only the end surface eco is selectively removed.例文帳に追加

遅延部５０の遅延時間をｃよりも大きくしておくと、経路ｂへ分岐された信号と窓関数Ｗ（ｔ）とが乗算されて得られる信号において端面エコーはゼロとなり端面エコーだけが選択的に除去される。 - 特許庁

The X-ray imaging apparatus 10 comprises a photographing base 22 formed to allow the breast N of the subject W in a standing position abuts on a photographing surface 20, and a breast wall pad 30 detachably stuck to the subject sidewall surface of the photographing base.例文帳に追加

Ｘ線撮像装置１０は、立位の被験者Ｗの乳房Ｎが撮影面２０に当接する撮影台２２と、撮影台の被験者側の壁面に着脱自在に貼り付けられた胸壁パッド３０と、を備えている。 - 特許庁

In the projection system is provided with at least one projection equipment 10 which is constituted so that it receives a projection beam PB reflected from a first object MA, and projects the projection beam on a second object W.例文帳に追加

本発明は、第１物体ＭＡから来る投影ビームＰＢを受け取り、かつその投影ビームを第２物体Ｗに投影するように構成された少なくとも１つの投影装置１０を備える投影システムに関する。 - 特許庁

The conveying box is a casing 11 capable of loading a component W therein through an open top side, and a cutout part 14 cut out from the top side to a bottom 12 side is formed in a side face 13a and a side face 13b facing each other of the casing 11.例文帳に追加

上面を開口し内部に部品Ｗを載置可能な筐体１１であり、筐体１１の対向する側面１３ａおよび側面１３ｂには上面側から底面１２側へ切欠した切欠部１４を設ける。 - 特許庁

An article to be inspected W is supplied and put between the upper chamber 1 and the lower chamber 2 of a leak inspecting machine, and in that state minute-pressure checking air is supplied directly to this is measured by a pressure sensing sensor 10, and whether the pressure sensing sensor is normal is judged.例文帳に追加

漏洩検査機の上室１と下室２との間に被検査品Ｗを供給載置した状態で、感圧センサー１０でこれに直接供給される微圧チェックエアーを測定し、感圧センサーが正常か判定する。 - 特許庁

The condensed water W stored in a drain tank 32 constituting a drain pot 23 is dispensed through a pipeline 47 for pumping based on a differential pressure between pipeline ends of the pipeline 47 for pumping to be discharged into a first tank 45.例文帳に追加

ドレンポット２３を構成するドレンタンク３２内に貯留された凝縮水Ｗは、汲出し用管路４７の管路両端の圧力差に基づき汲出し用管路４７を通じて取り出され、第一タンク４５内に排水される。 - 特許庁

Switch rails 71 at front and rear ends in a work conveying direction are situated on the extension of the conveyance rail 73 when the work W is conveyed and when the empty conveyance carriage 41 is forwarded, the switch rail is situated on the extension of the forwarding rail 75.例文帳に追加

ワーク搬送方向の前後両端の切換レール７１は、ワークＷを搬送する際には搬送レール７３の延長上にあり、空の搬送台車４１を回送する際には回送レール７５の延長上にある。 - 特許庁

Related to an interface position IP1, that gives/receives a substrate W among a plurality of transfer robots 30, a substrate-holding part 51 is made movable by an operation of an air cylinder 53 within a range, corresponding to the size of other processing units arranged in a laminate.例文帳に追加

複数の移載ロボット３０同士の基板Ｗの授受を担うインタフェースポジションＩＰ１において、基板支持部５１を、積層配置された他の処理ユニットのサイズに応じた範囲で、エアシリンダ５３の動作にて可動にする。 - 特許庁

Since an electrolytic bath 11 is formed in a sealed shape, there is no need to take into consideration spilling of cooling water W to the outside of the electrolytic bath 11, and there is no restriction on the installation place of the device and arrangement of the electrolytic bath 11 and a cooling tower 3.例文帳に追加

電解槽１１を密閉式としたから、冷却水Ｗが電解槽１１の外側にこぼれてしまうことを考慮する必要がなく、装置の設置場所や電解槽１１とクーリングタワー３との配置に制約がない。 - 特許庁

A second stage S2 where half-blanking work is performed from the direction opposite to the first half-blanking work to the half-blanked part 15 of the sheet W with a second punch 28 and a second die 25 in the second working unit 14.例文帳に追加

また、第２加工ユニット１４では、第２パンチ２８及び第２ダイ２５によって、板材Ｗの半抜き部１５に対して第１工程半抜き加工とは逆方向から半抜き加工を施す第２工程Ｓ２が実行される。 - 特許庁

For the puncher P for piercing the workpiece W by a pierce punch 2 while pressing the workpiece by a stripper 3, a cover 1 is formed of a metal, and the diameter of one end through hole 10 and the diameter of a cover part in a vicinity thereof are smaller than that of other cover parts.例文帳に追加

ワークＷをストリッパー３で押圧しながらピアスパンチ２でピアス加工するパンチャーＰにおいて、カバー１は金属製であって一端開放孔１０及びその近傍のカバー部分を他のカバー部分よりも小径としてある。 - 特許庁

The locking means, by moving the door body 16, forms an article storage area in a manner where the length direction of the article W is positioned almost at the center of the rack case 11 between the door body 16 and a second restrictive member 152.例文帳に追加

係止手段は、扉体１６を移動させることで扉体１６と第２規制部材１５２との間で商品Ｗの長さ方向をラックケース１１のほぼ中央に位置させる態様で商品収納領域を画成する。 - 特許庁

In such a case, between a portion C1 to be peeled of the protecting tape C peeled from the wafer W and an adhesive surface S of the dicing tape T facing the relevant portion C1 to be peeled, an obstacle board 44 is located at prescribed timing.例文帳に追加

ここで、ウェハＷから剥離された保護テープＣの剥がれ部分Ｃ１と当該剥がれ部分Ｃ１に相対するダイシングテープＴの粘着面Ｓとの間には、邪魔板４４が所定のタイミングで配置されるようになっている。 - 特許庁

The aerosol formulation includes a particulate active substance having a mass median aerodynamic diameter (MMAD) of below 10 μm suspended in a non-solvent hydrofluorocarbon fluid vehicle at a concentration of at least 0.5% w/v.例文帳に追加

空気動力学的直径の質量中央値（ＭＭＡＤ）が１０μｍ未満である粒状活性物質を非溶媒ハイドロフルオロカーボン流体ビヒクル中に０．５％ｗ／ｖ以上の濃度で懸濁させて含むエアロゾル製剤。 - 特許庁

The whole spot welded portions W surround the periphery of the damaged portion 2 without gaps, so that it is possible to prevent the rainwater or the water when washing the pallet from infiltrating in the damaged portion 2 of the pallet 1 from the periphery of the repairing member 3.例文帳に追加

スポット溶着部Ｗ全体が損傷部分２の周囲を隙間無く包囲することで、補修部材３の周囲からパレット１の損傷部分２へ、雨水やパレット洗浄時の水の浸入を防止することができる。 - 特許庁

The temperature-setting means 44 sets a difference in the temperatures between the hot plates 13 and 14 to be less than 2 degrees, when distances from the wafer W, placed between the hot plates 13 and 14 and the respective hot plates 13 and 14, are made equal.例文帳に追加

温度設定手段４４は、各ホットプレート１３、１４の間に配置されるウェハＷから各ホットプレート１３、１４までの距離を同じにしたとき、各ホットプレート１３、１４の温度差を２℃未満に設定して制御する。 - 特許庁

In a vicinity of the base end part of the discharge electrode 2, a heat capacity adjusting member 5 capable of exchanging heat with the discharge electrode 2 through the condensation water W generated on the surface of the discharge electrode 2.例文帳に追加

この静電霧化装置において、放電電極２の基端部の近傍には、放電電極２の表面に生成された結露水Ｗを介して放電電極２と熱交換可能となる熱容量調節部材５が設けられている。 - 特許庁

In this way, the outer diameter of the protective tape 12 is set smaller than that of the wafer, by which chemicals are mode to drop down without staying on the protective film 12, and the chemicals are prevented from reaching the surface of the wafer W to contaminate it.例文帳に追加

このように、ウエハ１１の外径よりも保護テープ１２の外径を小さくして、エッチング時に、薬液１６が保護テープ１２上に溜まること無く落下させて、薬液１６のウエハ１１表面への浸透による汚染をなくす。 - 特許庁

(2) After executing the deoxidizing treatment and adding the slag reforming agent into the slag in the ladle, the gas stirring is executed by blowing the gas into the molten steel and after gas-stirring, the stirring is further executed at the stirring power of not more than 120 W/t when the gas is blown into the molten steel.例文帳に追加

（２）脱酸処理後の取鍋スラグにスラグ改質剤を添加した後、溶鋼中にガスを吹き込むことでガス攪拌を行い、該ガス攪拌後に溶鋼中にガス吹き込む際の攪拌動力で１２０Ｗ／ｔ以下の攪拌をさらに行う。 - 特許庁

As a result, since the length from the entangling position P1 to the holding position P2 in the bobbin thread S is reduced, the length of the cut-off end part Se of the bobbin thread S sewn to the lower surface of the cloth W to be processed is shortened.例文帳に追加

この結果、下糸Ｓにおける絡み位置Ｐ１から保持位置Ｐ２までの長さを低減することができるので、加工布Ｗの下面に縫い込まれていく下糸Ｓの切断端部Ｓｅの長さを短くすることができる。 - 特許庁

The main body (11) has a projection (12) engaging with the handle (21), a placement part (13) having the projection (12) mounted on the plane (A) in tight contact with the side part (W), and a grip part (14) penetrating the placement part (13) and the projection (12).例文帳に追加

本体（１１）は、取っ手（２１）に嵌合する突起部（１２）と、側部（Ｗ）と密接する平面（Ａ）側に突起部（１２）が設けられた設置部（１３）と、設置部（１３）と突起部（１２）とを貫通して形成される把持部（１４）と、を有する。 - 特許庁

An AlN sintered body wherein an average particle size of an AlN crystal grain is in a range of 3-5 μm, a standard deviation of a particle size distribution is ≤2 μm and also thermal conductivity at the normal temperature is ≥160 W/m K is prepared.例文帳に追加

ＡｌＮ結晶粒の平均粒径が３〜５μｍの範囲で、かつ粒径分布の標準偏差が２μｍ以下であり、かつ常温での熱伝導率が１６０Ｗ／ｍ・Ｋ以上であるＡｌＮ焼結体を作製する。 - 特許庁

Thus, the excellent welding quality according to the target load is stably obtained irrespective of any difference in the materials (hardness or the like) of a pair of welded members 42, 44 and dimensional errors of a weld part indicated by the welding line W.例文帳に追加

これにより、一対の被接合部材４２、４４の材質（硬さ等）の相違や接合ラインＷが表す接合部分の寸法誤差に拘らず、目標荷重に応じた優れた接合品質が安定して得られるようになる。 - 特許庁

The first arm 53a and the second arm 53b are respectively arranged on the first base member 51a and the second base member 51b so that they can advance to the cargo storage rack 11 and can retract while holding the cargo W in a clamping manner.例文帳に追加

第１アーム５３ａ及び第２アーム５３ｂは、荷物Ｗを挟持して荷物収納棚１１に向けて進出および退入可能となるように第１ベース部材５１ａ及び第２ベース部材５１ｂにそれぞれ設けられる。 - 特許庁

This alloy has a composition consisting of 20 to 60% Co, 1 to 8% Sn and the balance Fe with inevitable impurities and further containing, if necessary, 0.1 to 4%, in total, of one or more elements among V, Ti, Zr, Nb, Si, Al, W and Mo.例文帳に追加

Ｃｏ：２０〜６０％、Ｓｎ：１〜８％を含有し、さらに、必要に応じてＶ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，ＷおよびＭｏのうちの種または２種以上を合計で０．１〜４％を含有し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなる。 - 特許庁

In the hand-carry type electric-driven tool (2), a grip (18) is inclined over a substantially entire length with respect to the tool spindle axis (W), and the grip (18) has an operation switch (22) to turn on/turn off a drive motor (6) of the electric-driven tool (2).例文帳に追加

本発明に手持式電動工具（２）は，工具スピンドル軸線（Ｗ）に対してグリップ（１８）が略全長に亙り傾斜して配置され，該グリップ（１８）が，電動工具（２）の駆動モータ（６）をオン・オフするための操作スイッチ（２２）を有する。 - 特許庁

In the house, the overhang dimension L1 of the roof part 21 of the semi-outdoor space 2 is defined as 2000 mm, the width dimension W of the opening 3 is defined as at least 4000 mm, and the height dimension H is defined as at least 2000 mm.例文帳に追加

この住宅においては、半屋外空間２の屋根部２１の張出寸法Ｌ１を２０００ｍｍとし、開口部３の幅寸法Ｗを４０００ｍｍ以上、高さ寸法Ｈを２０００ｍｍ以上としている。 - 特許庁

Openings for feeding water are formed in the guide rollers 3A, 3B at suitable positions, so as to form films of water fed from the water supply openings, on the outer peripheral surfaces of the guide rollers 3A making contact with the planar workpiece W.例文帳に追加

ガイドローラ３Ａ，３Ｂの外周面の適宜個所に水供給口を開口させて、水供給口から供給される水によって板状ワークＷの外周面と接するガイドローラ３Ａの外周面に水膜を介在させる。 - 特許庁

To manufacture a CCD sensor, an insulating film 251 is deposited on a wafer W where a photoelectric converting element 210 is formed in a matrix, a conductive film is deposited and a transfer electrode 221 is formed by etching using a photoresist layer.例文帳に追加

ＣＣＤセンサを製造すべく、光電変換素子２１０がマトリックス状に形成されたウエハＷ上に絶縁膜２５１を成膜し、導電性膜を成膜してフォトレジスト層を用いてエッチングにより転送電極２２１を形成する。 - 特許庁

Further, the liquid processing apparatus 10 includes an air hood 31 shielding the wafer W from the cover mechanism 60 in the vertical direction when the cover mechanism 60 is positioned at the lifting position and generating down flow of a clean gas.例文帳に追加

また液処理装置１０は、カバー機構６０が上昇位置にある時にウエハＷをカバー機構６０から上下方向において遮蔽することができ、清浄ガスのダウンフローを生成するエアフード３１をさらに備えている。 - 特許庁

In the combined harvester, the base end of a rod-like belt guide 43 is supported by a grain tank 17 or a machine body 12 and the top of the belt guide 43 is arranged closely than a width W of a V belt 34 to a structure 44 of a machine body 12.例文帳に追加

棒状のベルトガイド４３の基端部を穀粒タンク１７または機体１２に支持すると共に、当該ベルトガイド４３の先端部を機体１２の構造物４４に対してＶベルト３４の幅Ｗよりも近づけて配置した。 - 特許庁

The upper blade for a guillotine crop shear includes two successive straight blades 11, 12 interposing an inflection point c therebetween in a blade width W direction where a rake angle θ1 of the straight blade 11 on a blade root side 14 is formed larger than a rake angle θ2 of the straight blade 12 on a blade tip side 15.例文帳に追加

刃幅Ｗ方向に屈折点ｃを挟んで、連続する二つの直刃１１、１２の、刃元１４側の直刃１１のレーキ角θ１を刃先１５側の直刃１２のレーキ角θ２より大きくする。 - 特許庁

A wire cable W opening and closing cover bodies 12 is inserted into through-holes 14 formed to sections on the sides lower than the gutters 20 in the side walls of the skylights 10, and extracted from one skylight 10 side to the other skylight 10 side.例文帳に追加

そして、天窓１０の側壁のうち樋２０より下側の部分に設けた貫通孔１４内に蓋体１２を開閉するワイヤケーブルＷを挿通し、一方の天窓１０側から他方の天窓１０側に取り出す。 - 特許庁

The invention also has a circulation pump unit 21 which circulates water W among the first well section 1, the connection section 3, the second well section 2 and a methane hydrate layer G1 in a normal direction T1 or a reverse direction T2 through normal driving or reverse driving.例文帳に追加

また、正転又は逆転駆動することにより、第１井戸部１と連結部３と第２井戸部２とメタンハイドレート層Ｇ１の間で水Ｗを正逆方向Ｔ１、Ｔ２に循環させる循環ポンプユニット２１を備える。 - 特許庁

Second slide means (141, 142) are provided with means comprising a weight 19 and a wire 18 for urging the abrasive discs 8a and 8b and the wafer W supported on the wafer chuck table 12 in the direction pushing each other.例文帳に追加

第２スライド手段（１４１、１４２）には、研磨ディスク８ａ、８ｂとウェハチャックテーブル１２に支持されたウェハＷとを互いに押し合う方向に付勢するためのウェイト１９、ワイヤ１８からなる付勢手段が設けられている。 - 特許庁

The processing liquid is discharged toward a wafer W from the discharge port 10 of the processing-liquid discharge pipe 8, while the tip of the processing-liquid discharge pipe 8 is being oscillated vertically, by allowing a nitrogen gas to flow in a gas circulation path 13.例文帳に追加

そして、ガス流通路１３に窒素ガスを流すことにより、処理液吐出管８の先端部が上下方向に揺動されながら、処理液吐出管８の吐出口１０から処理液がウエハＷに向けて吐出される。 - 特許庁

To obtain a W/O-type emulsion composition having high emulsion stability with time in a system compounded with a salicylic acid derivative (e.g. an alkoxysalicylic acid) without deteriorating the function of the component and having excellent usability.例文帳に追加

サリチル酸誘導体（アルコキシサリチル酸類など）を配合した系において、当該成分の機能を損なうことなく、経時での乳化安定性が良好で、しかも使用性に優れる油中水型乳化組成物を提供する。 - 特許庁

At the time of development, the horizontal nozzle arm 76 moves in a horizontal direction (shown by an arrow F) perpendicular to the axial direction thereof to carry the developer nozzle 70 from a nozzle waiting part 78 to the upper set position of a semiconductor wafer W.例文帳に追加

現像処理が行われるとき、水平ノズルアーム７６はその軸方向に垂直な水平方向（矢印Ｆの方向）に移動して、現像液ノズル７０をノズル待機部７８から半導体ウエハＷの上方の設定位置まで運ぶ。 - 特許庁

A laser light emitted from a laser light emission part 45 and reflected in a partial region of a lower face of a semiconductor wafer W is further reflected by a mirror face 19a of a reflection part 19, and made to arrive at the partial region.例文帳に追加

レーザ光出射部４５から出射されて半導体ウェハーＷの下面の一部領域で反射されたレーザ光を反射部１９の鏡面１９ａによってさらに反射して当該一部領域に到達させる。 - 特許庁

This salt-tolerant Bacillus cereus CH-6 has salt tolerance and decomposition treating ability of organic substances under neutral condition and aerobic condition to a waste liquid having high salt concentration in which a salt concentration containing the organic substances is ≥3.5 %w/v.例文帳に追加

有機物を含む塩濃度が３．５％ｗ／ｖ以上の高塩濃度廃液に対し、中性条件下且つ好気条件下で耐性及び前記有機物の分解処理能を有する耐塩性バチルス・セレウスＣＨ−６。 - 特許庁