W-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11340件
In a traveling cart 2 running along an elevated rail R, a hanger 6 is liftably suspended from a hoist mechanism 3, and the workpiece W is holdingly sucked by the suction pad 12 by using a negative pressure from a vacuum tank 7 mounted on the hanger.例文帳に追加
高架レールRに沿って走行する走行台車2に、ハンガー6がホイスト機構3により昇降可能に吊下され、ハンガーに搭載された真空タンク7からの負圧により吸着パッド12でワークWを吸着保持する。 - 特許庁
A step part 21f is formed on an outer peripheral surface 21d and has a prescribed width w in the sliding direction of the spool valve 21 from the end face 21h of a land 21b with a prescribed gap d from an inner peripheral surface 20e.例文帳に追加
外周面21dに形成され、ランド21bの端面21hからスプールバルブ21の摺動方向に所定幅wをもち内周面20eとの間に所定の隙間dを構成する段部21fを備える構成としたこと。 - 特許庁
A substrate processing apparatus 1 comprises a spray nozzle 20, a nozzle movement mechanism 21 relatively moving the spray nozzle 20 with respect to a support member 12 in a height direction and a horizontal direction, and a revolution drive part 14 rotating a wafer W.例文帳に追加
基板処理装置1は、スプレノズル20と、スプレノズル20を支持部材12に対して高さ方向及び水平方向に相対移動させるノズル移動機構21と、基材Wを回転させる回転駆動部14とを備える。 - 特許庁
In this device 1, prior to laser machining, a freely changeable teaching chip 5 is attached instead of the nozzle of a machining head 3 and the sharp tip of the teaching chip 5 is pressed to a ruled line written on a work W while moving the machining head 3.例文帳に追加
レーザ加工に先立って、加工ヘッド3のノズルに代えて交換自在のティーチングチップ5を取り付け、加工ヘッド3を移動させながらティーチングチップ5の尖った先端をワークWに罫書かれている罫書き線に押し付ける。 - 特許庁
When the electrodes 3b and 3c are formed in the shape of the hollow round rod, the outside diameter becomes larger as compared with the solid round rod of the same cross-sectional area so that the surface area of the rod is increased to increase the contact area with the raw water W.例文帳に追加
電極3b,3cを中空丸棒状に形成すると、同じ断面積の中実丸棒に比べて外径が大きくなり、それだけ円柱の表面積が増加して被処理水Wとの接触面積が拡大する。 - 特許庁
The method for removing ethylene gas using fine water droplets by electrostatic atomization includes: subjecting water W to electrostatic atomization so as to generate fine water droplets by electrostatic atomization M containing active species; and making the active species falling in the fine water droplets by electrostatic atomization M react with the ethylene gas so as to decompose the ethylene gas into carbon dioxide and water.例文帳に追加
水Wを静電霧化して、活性種を含む帯電微粒子水Mを生成し、前記帯電微粒子水Mに含まれる活性種とエチレンガスを反応させ、二酸化炭素と水に分解する。 - 特許庁
When air supply is increased to the first pressure chamber 3c in the pressure cylinder 3, it is reduced by the pressing force from the compression of the coil springs 11, 14, mitigating impact each time when both electrode tips 7, 5 come into contact with the workpiece W.例文帳に追加
加圧シリンダ3内の第1圧力室3cへのエア供給を増加しても、コイルばね11,14の圧縮による付勢力により減速され、両電極チップ7,5のワークWに当接する際の衝撃を夫々緩和できる。 - 特許庁
Execution of work is so carried out that a waterproofing membrane 3 formed by applying a bentonite 3b to a resin membrane 3a is stuck on a wall surface W, and that a reinforcing plate (steel plate) 1 is fixed to the surface side in a state of a specific interval with a plurality of mounting bolts 2.例文帳に追加
施工は、樹脂膜3aにベントナイト3bを塗布してなる防水層3を壁面Wに貼付し、その表面側に所定間隔状態に補強板(鋼板)1を複数の取り付けボルト2で固定する。 - 特許庁
A hanger 1 has a support frame 2 with a lid 3, a grasping member 4 journalized inside a support frame 2, and a suspension hand fittings 6 coupled to the grasping member 4 linked to a wire rope W and in a vertically movable manner relatively by the support frame 2.例文帳に追加
吊り金具1は、蓋3付きの支持枠2と、支持枠2内に軸支された把持部材4と、ワイヤロープWに係止され支持枠2に相対上下動自在に支持され、把持部材4に連結された吊り手金具6とを有する。 - 特許庁
Through the use of a sample container 1 for biochemical analysis in which a plurality of recessed parts 2 are formed at pitch intervals W of 500 μm or less on the surface of a plate-shaped body made of glass and/or ceramic, biochemical analysis such as DNA analysis is performed.例文帳に追加
ガラスおよび/またはセラミックスからなる板状体表面に複数の凹部2を500μm以下のピッチ間隔Wにて形成した生化学分析用試料容器1を用いてDNA分析等の生化学分析を行う。 - 特許庁
Then, up to the output volume level value of a user setting, according to the power value W of the voice output with respect to the speaker 4 as predicted, when the power is on, an increase in gain of the voice amplifier 2 is variably controlled.例文帳に追加
そして、ユーザ設定の出力音量レベル値に至るまで、電源オン時に予測されるスピーカ4に対する音声出力の電力値Wに応じて音声アンプ2のゲインの上昇を可変制御するものである。 - 特許庁
A device main body 1 comprises a fixing plate 11 fixed on a wall W, a support plate 12 fixed to the fixing plate 11 and supporting a flowing-in pipe and a flowing-out pipe each connected to the gas pipe.例文帳に追加
装置本体1を、壁Wに固定される固定板11と、この固定板11に固定され、ガス管がそれぞれ接続される流入管および流出管(いずれも図示せず)を支持する支持板12とから構成する。 - 特許庁
The plug 4 includes electrodes for connecting wires W, the body 2 for holding them and the shell 3 covering them; and in the body 2 and the shell 3, projections and body engagement edges formed at right and left ends thereof are engaged with each other (engagement parts P).例文帳に追加
プラグ4は、電線Wを接続する電極と、これを保持するボディ2と、これらを覆うシェル3を有し、ボディ2とシェル3はこれらの左右端に設けられた突起とボディ係合縁とが係合されている(係合部分P)。 - 特許庁
The corrected water quantity W3 of the aggregate to be added to the water quantity W of the specified mix proportion is reduced to the prescribed corrected water quantity W2 of the aggregate to correct compared with the water content of the aggregate to the water content in the surface dried state.例文帳に追加
そして、示方配合の水Wに加えられる骨材補正水量W3が、骨材の含水量を表乾状態の含水量に補正するための規定の骨材補正水量W2に対して、減水されている。 - 特許庁
To the rear surface WS2 of the substrate W opposite to the front surface WS1, another cleaning fluid which is increased in dissolved gas concentration by means of a gas dissolving section 82 is supplied simultaneously with the cleaning fluid supplied to the front surface WS1.例文帳に追加
またおもて面WS1に洗浄液が供給されるのと同時に、おもて面WS1と逆側のうら面WS2には、ガス溶解部82によって溶存ガス濃度を増加させて洗浄液が供給される。 - 特許庁
The distance from the lens center of the imaging device 10 to the surface of the measuring object is measured by a laser distance measuring device 16 in the state where the optical axis of the imaging device 10 is set orthogonally to the axis of the measuring object W.例文帳に追加
そして、被計測体Wの軸心に撮像装置10の光軸を直交させた状態で撮像装置10のレンズ中心から被計測体の表面までの距離をレーザ距離測定器16距離によって計測する。 - 特許庁
In the method for surface treatment of the metal component, metal powder with W and Mo added to powder consisting of a cobalt-based alloy material is cladded by welding on a surface of a base metal 35 by the plasma powder welding to form a lining layer 36.例文帳に追加
金属母材35の表面に、コバルト基合金材料からなる粉末にW,Moを加えた金属粉末を、プラズマ粉体溶接にて肉盛りし、ライニング層36を形成する金属部品の表面処理方法。 - 特許庁
The fluid, in which an anionic aromatic compound (A), a cationic surfactant (B), powder (P) and water (W) are incorporated and the anionic aromatic compound (A) is combined with the cationic surfactant (B) under a specified condition, is sent forcibly.例文帳に追加
アニオン性芳香族化合物(A)と、カチオン性界面活性剤(B)と、粉体(P)と水(W)とを含有し、アニオン性芳香族化合物(A)とカチオン性界面活性剤(B)とを特定条件で組み合わせた流体を圧送する。 - 特許庁
As a result, with respect to this epitaxial growth apparatus 10, the temperature of the whole surface of the susceptor can be so made uniform in a reaction chamber 2 as to be able to form on the surface of the mounted semiconductor wafer W an epitaxial film having a uniform thickness.例文帳に追加
この結果、このエピタキシャル装置10では、反応室2内においてサセプタ温度を全面で均一化でき、搭載した半導体ウェーハWの表面にエピタキシャル膜を均一の厚さに成膜することができる。 - 特許庁
In a processing chamber 1 of a deposition apparatus 100, a wafer W on which a polyimide film 81 is formed is heated at a temperature of 110°C or more to 400°C or less with a CO gas being introduced to the processing chamber 1 and heat treatment is performed on the polyimide film 81.例文帳に追加
成膜装置100の処理容器1内で、処理容器1内にCOガスを導入しながら、ポリイミド膜81が形成されたウエハWを110℃以上400℃以下の温度で加熱し、ポリイミド膜81を熱処理する。 - 特許庁
Here is the full list of supported escapes: % the escape character itself a either 'am' or 'pm' A either 'AM' or 'PM' c current time HH:MM in 24h format C current time HH:MM in 12h format d day number D weekday name f flags of the window F sets %? to true if the window has the focus h hardstatus of the window H hostname of the system l current load of the system m month number M month name n window number s seconds t window title u all other users on this window w all window numbers and names. 例文帳に追加
以下にサポートされているエスケープの完全なリストを示す:%エスケープ文字自身a\\(aqam' または 'pm' のどちらかA\\(aqAM' または 'PM' のどちらかc現在の時刻 HH:MM (24h 表記)C現在の時刻 HH:MM (12h 表記)d月内日D曜日fウィンドウのフラグFウィンドウにフォーカスがあると %? を真にするhウィンドウのハードステータスHシステムのホスト名lシステムの現在の負荷 (load)m月 (数値)M月 (名前)nウィンドウ番号s秒tウィンドウのタイトルuこのウィンドウを使っている他のユーザすべてw全ウィンドウの番号と名前。 - JM
For a wire harness W/H on which a tape is mounted for the purpose of binding and protection, the tape 10 to which adhesive is applied is continuously affixed to a wire group D constituting the wire harness W/H corresponding to the longitudinal direction of the wire group D, bent in its cross direction across the wire group D and mounted thereon with both ends of the tape 10 affixed together.例文帳に追加
結束、保護等の目的によりテープを取り付けているワイヤハーネスW/Hにおいて、ワイヤハーネスW/Hを構成する電線群Dに一面に粘着剤が塗布したテープ10を電線群Dの長さ方向と一致させて連続的に、電線群Dに貼り付け、電線群Dを挟んでテープ10を幅方向に折り曲げ、テープ10の両端同士を貼り合わせてテープ10を取り付けている。 - 特許庁
The resin layer is cured in a state the sheetlike material W is wound around the embossing roll 13 and the sheetlike material W is peeled from the embossing roll 13.例文帳に追加
表面に接着剤と樹脂とが順次塗布されることにより、接着剤層と樹脂層とが2層に形成されている帯状可撓性のシート状体Wを連続走行させ、シート状体Wを、回転するエンボスロール13に巻き掛け、樹脂層にエンボスロール表面の凹凸を転写し、シート状体Wがエンボスロール13に巻き掛けられている状態で樹脂層を硬化させ、シート状体Wをエンボスロール13から剥離する。 - 特許庁
Degree of freedom in restriction conditions is enhanced by transforming primary RGBCMY from W to primary color, transforming primary RGB to the color on a plane constituted of Bk-primary RGB-primary CMY, or transforming primary CMY to the color on a plane constituted of W-primary RGB-primary CMY instead of transformation from conventional primary RGBCMY to the same primary RGBCMY.例文帳に追加
従来のプライマリRGBCMYから同プライマリRGBCMYへの変換ではなく、プライマリRGBCMYの変換先をWから一次色、あるいはプライマリRGBをBk—プライマリRGB—プライマリCMYにて構成される平面上の色へ、プライマリCMYをW—プライマリRGB—プライマリCMYにて構成される平面上の色へ変換することで拘束条件の自由度を向上させる。 - 特許庁
The detection system for workpiece holding position is equipped with: a fluid nozzle 12 disposed abutting to or close to an outer wall WS of the workpiece W held at the set position; a sensor detecting the flow rate flowing out from the fluid nozzle 12; and a calculation unit determining whether the workpiece W is positioned in the set position on the basis of the flow rate detected by the sensor.例文帳に追加
本発明に係るワーク保持位置検出システムは、設定位置に保持されたワークWの外壁WSに当接又は近接する位置に配置された流体吹き出し口12と、流体吹き出し口12から流出する流量を検出するセンサと、このセンサで検出された流量に基づいて、ワークWが設定位置に位置しているか否かを判断する演算ユニットと、を備えている。 - 特許庁
In the panel bender 30 which pinches a workpiece fed through a manipulator 47 with a top die 31 and a bottom die 32 and bends it with a bend beam 33, Y axis and C axis of the manipulator 47 are operated so that the workpiece W begins to swirl when the workpiece W is swirled to determine the next processing side (2) after the workpiece is finished on the predetermined process side (1).例文帳に追加
マニピュレータ47を介して供給されたワークWをトップダイ31とボトムダイ32により挟みベンドビーム33で折り曲げるパネルベンダ30において、上記ワークWの所定の加工辺 について加工終了後に次の加工辺 の割り出しを行うべく該ワークWを旋回させる場合に、該ワークWが後退する途中で旋回を開始するようにマニピュレータ47のY軸とC軸を動作させる。 - 特許庁
A method for forming the non-contact IC recording medium, which performs communication with IC inside a card in a non-contact manner with an external reader/writer(R/W) and power transmission thereto by using electromagnetic wave comprises a first step of forming an antenna circuit 203 on a first base material 201, and a second step of transferring the antenna circuit to a second base material 204.例文帳に追加
電磁波用いて外部リーダ/ライダ(R/W)と非接触でカード内部のICとの通信や電力の伝送をおこなう非接触型IC記録媒体の作成方法において、第一基材201上にアンテナ回路203を形成する第一工程と、前記アンテナ回路を第二基材204に転写する第二工程を有することを特徴とした非接触型IC記録媒体用アンテナの形成方法。 - 特許庁
In the heat treatment apparatus which performs heat treatment to objects W to be treated introducing a process gas through a gas introducing pipe 5 into a treating vessel 1 for housing the objects W, a holder 4 is arranged at the base end of the gas introducing pipe 5, and a high heat conducting member 29 is mounted on this holder 4.例文帳に追加
被処理体Wを収容した処理容器1内にガス導入管5により処理ガスを導入して熱処理を施すようにした熱処理装置において、処理容器1内に設けたガス導入管5の基端位置に保持体4を設け、この保持体4に熱伝導率の高い熱伝導部材29を挿着し、この熱伝導部材29は、処理容器1内を加熱する熱エネルギの伝達位置に配設された熱処理装置である。 - 特許庁
Regarding the issue mentioned above the current extension ends 31 December 2007; however in April 2006 14 countries including Barbados jointly requested a further extension of the current exceptions at the WTO Subsidies Committee meeting until 2018 (G/SCM/W/535). The Committee is currently considering the request. Members granted export subsidy extensions例文帳に追加
上記①(ドーハ閣僚宣言パラグラフ10.6に基づく小規模経済国)の現行延長措置については、上記のとおり2007年末が期限となっているところ、2006年4月、バルバドス等14カ国は共同で、現在の特例を更に2018年まで延長するよう求める提案をWTO補助金委員会で行い(G/SCM/W/535)、現在、同委員会において更なる延長措置を行う必要性や延長の期間等について議論がなされている。 - 経済産業省
To prevent particles from being re-deposited onto a work in an unloading unit in a disk-shaped work cleaning/drying apparatus in which clean gas is supplied to the drying unit by successively providing a cleaning unit 10 to clean the disk-shaped work W, a drying unit 20 of the work after cleaning and the unloading unit 30 to take out and store the work after drying in this order.例文帳に追加
ディスク形ワークWを洗浄する洗浄ユニット10と、洗浄後のワークの乾燥ユニット20と、乾燥後のワークを取り出して保管するアンローディングユニット30とが、この順で連設され、乾燥ユニットに清浄気体を供給するものとなされているディスク形ワークの洗浄乾燥装置において、アンローディングユニットにおけるワークへのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁
To provide an oil-in-water (O/W) type cosmetic for eyelash excellent in a separating effect and a volume creating effect with easy overlapping, and furthermore excellent for removal of cosmetics such as not in frazzled particles but also in clusters of cosmetic coated film from eyelashes without dark impression around eyes and clear removal of the coated cosmetic film can be seen and recognized.例文帳に追加
セパレート効果、ボリューム付与効果及び、重ね付けしやすさに優れ、しかも、化粧落としの際に、化粧塗膜がぼろぼろと細かく剥げ落ちるのではなく、纏まって睫から剥離することができので、目の周りが黒ずんで見えず、化粧塗膜が落ちたことを視認でき、またすっきりと落ちたと認識することができ等の化粧除去性に優れた水中油型睫用化粧料。 - 特許庁
On the principal surface of an insulator layer 19b, a coil conductor 18b, which has a wall part W protruding on the side in a positive direction in the z-axial direction from a connection position P1 where the via hole conductor b1 formed in the insulator layer 19b laminated on the positively-directional side in the z-axial direction is connected, is formed at least partially around the connection position P1.例文帳に追加
絶縁体層19bの主面上に、z軸方向の正方向側に積層される絶縁体層19aに形成されたビアホール導体b1が接続される接続位置P1の周囲の少なくとも一部において、接続位置P1よりもz軸方向の正方向側に突出する壁部Wを有するコイル導体層18bを形成する。 - 特許庁
The water treatment method includes atomizing and injecting the water to be treated W into a discharge space, and decomposing the object substances to be treated contained in the water droplet M by means of active species generated by discharge in the discharge space, wherein the water droplets are injected in several directions and an injected droplet M is made collided with another water droplet M, injected from a different direction, in the discharge space.例文帳に追加
放電空間内に被処理水Wを水滴化して噴射し、放電空間内で放電によって発生した活性種によって、水滴M中の処理対象物質を分解処理するようにした水処理方法であって、噴射を複数方向から行うとともに、噴射された水滴Mを他方向から噴射された水滴Mと放電空間内で衝突させるようにした。 - 特許庁
In the manufacturing apparatus 1 for manufacturing the epitaxial wafer WE with a wafer W being mounted substantially concentrically with a susceptor 31, a center rod 33 having an upper end in a semispherical, nearly columnar shape is provided to extend in a vertical direction at a side of a non-mounting surface 312 of the susceptor 31 so that its upper end is in point contact with the center of the susceptor 31.例文帳に追加
サセプタ31の中央とウェハWの中央とが略一致する状態でウェハWを設置してエピタキシャルウェハWEを製造する製造装置1に、上端が半球状の略円柱状のセンターロッド33をサセプタ31の非載置面312側において上下方向に延びるように、かつ、上端がサセプタ31の中央と点接触する状態で設けた。 - 特許庁
In this carrier chain 100, the magnet piece 130 for attracting-holding the carrying article W is stored in a synthetic resin magnet storing slider 140, and the magnet storing slider 140 is respectively insertably-extractably stored in a pair of right-left slider laterally long holes 113 arranged in the chain width direction from a link side surface 110b of the link module 110.例文帳に追加
搬送物品Wを吸着保持する磁石片130が合成樹脂製の磁石収容用スライダー140に収容されているとともに、磁石収容用スライダー140がリンクモジュール110のリンク側面110bからチェーン幅方向に設けた左右一対のスライダー用横長穴113にそれぞれ挿脱自在に格納されている搬送チェーン100。 - 特許庁
The liquid storage facility 10 is used for immersing bag-shaped tanks 12 in an adjusting inner stored liquid W stored in a pit 11 and storing a liquid A inside, and a support 13 and a beam 14 are provided inside the pit 11, and a plurality of bag-shaped tanks 12 are provided in spaces in the pit 11 divided into a plurality of compartments by the support 13 and the beam 14.例文帳に追加
液体貯蔵施設10は、袋状タンク12をピット11に貯留された調整用液体Wに浸漬することによって、内部の貯留液体Aを貯蔵するものであり、ピット11の内部に支柱13と梁14とを設け、これら支柱13と梁14とによって複数に区分されたピット11内の空間に複数の袋状タンク12を備える構成とした。 - 特許庁
The wagon frame is obtained by arranging a plurality of beam materials 11 for placing the semiplastic W at a predetermined interval in a drainboardlike state on the upper part of a body frame 10 of a planar substantially square framelike state and vertically laminating the frame 10 in multi- stage in a state in which the semiplastic is placed on the materials 11.例文帳に追加
本発明のワゴンフレームは、平面略方形枠状の本体フレーム10の上部に、半可塑性体Wを載置する複数本の桁材11を所定の間隔をあけて簀の子状に配列させて設けると共に、その桁材11上に半可塑性体を載置した状態で上記本体フレーム10を上下方向に多段に積層できるようにしたことを特徴とする。 - 特許庁
In a case body 50 of the detergent discharge part 45, liquid routes 52 and 53 to be detergent routes for discharging the liquid detergent W flowing from the detergent introduction port 44a to the cleanibg chamber 7 and liquid routes 54 and 55 to be a water lead-in route for leading jet water jetted in the cleaning chamber 7 into the case body 50, are arranged equally in a radial state.例文帳に追加
洗剤排出部45の筐体50には、洗剤導入口44aから流れてきた液体洗剤Wを洗浄室7に排出するための洗剤経路である液体経路52,53と、洗浄室7の噴射された噴射水を筐体50の内部に引き込む水引き込み経路である液体経路54,55とが放射状に均等に配置されている。 - 特許庁
In this outside roller 48A, plural bolt inserting holes 60 are provided in an area formed with the guide groove 66 and a bolt 58 inserted in the bolt inserting hole 60 is screwed into a screw hole 68 of the inside roller 44 and inside of the outer peripheral surface of the outside roller 48A in the diameter direction, with cutting wires W traveling above the bolt 58.例文帳に追加
外側ローラ48Aにおいて、ガイド溝66が形成されている領域に複数のボルト挿通孔60を設け、このボルト挿通孔60に挿通されたボルト58が内側ローラ44のねじ孔68に螺合された状態で、ボルト58が外側ローラ48Aの外周面よりも径方向内側に没入するようにし、このボルト58の上を切断用ワイヤWが走るように構成する。 - 特許庁
In a W-CDMA radio base station, the radio base station device 12 is provided with a diffusion code for inter-base station communication and connects up to the exchange network 14 in a peripheral are by performing radio communication with another BTS that does not lose a communication function with the wire circuit in disaster when the radio base station device 12 is constantly disconnected from the wire circuit in emergency such as the disaster.例文帳に追加
W−CDMA無線基地局において、無線基地局装置12は、基地局間通信用の拡散コードを設けて、災害等の非常時に有線回線と恒常的に断になった場合に、災害で有線回線との通信機能を失っていない、別のBTSと無線通信を行うことで、周辺地域の交換機網14まで接続する。 - 特許庁
This outer rear view mirror with built-in camera comprises a camera module 10 installed in a mirror housing 2 installed in a vehicle W rotatably from the neutral position N1 to a rearward storage position N2 and a forward position N3 through a mirror base 6 and a camera angle changing means having a drive mechanism 20 for changing the camera angle of a camera body 12 rotatably installed in the camera module 10.例文帳に追加
車両Wに対してニュートラル位置N1から後方の格納位置N2及び前方位置N3までミラーベース6を介して旋回自在に設置されるミラーハウジング2内に設置されたカメラモジュール10と、このカメラモジュール10内に回転自在に設置されたカメラ本体12のカメラ角度を変角する駆動機構20からなるカメラ変角手段とを備える。 - 特許庁
Then, the service center discloses personal information corresponding to the referred person identification information ID_A included in the disclosure-target address T among the personal information stored in the personal information storage part according to the disclosure control contents S corresponding to the relation level R included in the disclosure-target address T among the disclosure control contents S stored in the disclosure policy storage part to the referring person W.例文帳に追加
その上で、個人情報記憶部に記憶された個人情報のうち開示用アドレスTに含まれる被参照者識別情報ID_Aに対応する個人情報を、開示ポリシー記憶部に記憶された開示制御内容Sのうち開示用アドレスTに含まれる関係レベルRに対応する開示制御内容Sに従って、参照者Wに開示する。 - 特許庁
When an idle condition is selected, in which an insulation fluid is circulated in a state that a semiconductor wafer W is not arranged in the vacuum chamber and plasma is not generated in the vacuum treatment chamber, nitrogen gas purge (N_2 purge) into the vacuum treatment chamber starts to conduct pressure control to set the inside of vacuum treatment chamber to a predetermined pressure of about 27 Pa (200 mTorr).例文帳に追加
真空処理室内に半導体ウエハWが配置されず、かつ、真空処理室内にプラズマが生起されない状態で絶縁性流体の循環が行われるアイドル状態に切り換えられると、真空処理室内への窒素ガスパージ(N_2 パージ)を開始し、真空処理室内が例えば、略27Pa(200mTorr)の所定圧力となるように圧力制御を行う。 - 特許庁
To provide an O/W/O composite emulsion ink which has good storage stability and does not cause drying of a plate by setting up and misting upon printing, and excels in fretting resistance, photographic gradation, and density feeling, and reduces strike through even at a high density.例文帳に追加
貯蔵安定性が良好であって、固化することによる版乾き及び印刷時のミスチングを起こすことがなく、耐擦れ性、写真階調性、濃度感に優れ、濃度が高くても裏抜けが少ないO/W/O型複合エマルションインキとする。 - 特許庁
An etching gas including straight chain C_5F_8 is made into a plasma and the etching object portion in a wafer W to be processed, for example, a SiO_2 layer 61 is etched with the plasma via a mask covering the etching object portion and having an aperture, for example, a photoresist mask layer 62.例文帳に追加
直鎖C_5F_8を含むエッチングガスをプラズマ化して、被処理体W中のエッチング対象部、例えばSiO_2層61を、エッチング対象部を覆った開口部を有するマスク、例えばフォトレジストマスク層62を介してプラズマエッチングする。 - 特許庁
Each width of the metal electrodes is set to be equal to the width W of the through-hole setting area, and the through-holes 17 are arranged at fixed intervals over the whole width so as to be linear in each of the longitudinal direction and lateral direction of the conductive substrate.例文帳に追加
金属電極の各幅を貫通孔設定領域の幅Wと同一とし、貫通孔17は全幅にわたって導電性基板の長手方向、および幅方向にそれぞれ一直線となるように一定の隙間で並べて配置される。 - 特許庁
The bridge circuit 15a can be used together with a traveling-wave tube amplifier and a solid-state power amplifier both of which which operate in an S, C, X, Ku, K, Ka, Q, V, or W frequency band or another desired RF frequency band.例文帳に追加
線形化ブリッジ回路は、S、C、X、Ku、K、Ka、Q、V、又はWの周波数帯域、或いは他の所望のRF周波数帯域において動作する進行波管増幅器及び固体素子電力増幅器と共に用いられてもよい。 - 特許庁
The width w and the thickness dp of a capillary channel formed in the living body analyzing device are determined by a correction coefficient A of a coefficient of viscosity of liquid moving along the capillary channel, to thereby form the channel so that a liquid velocity specified beforehand is acquired.例文帳に追加
生体分析用デバイスに形成する毛細管流路の幅wと厚みdpを、毛細管流路を移動する液体の粘性係数の修正係数Aによって決定し、あらかじめ規定した液体の速度になるように形成する。 - 特許庁
Thin films, e.g. a resist film and an antireflection film, are removed from the objective region A for removing thin films on the surface of the wafer W by scanning the objective region A with the laser beam of slit shape in the direction of X axis.例文帳に追加
ウエハWの表面の薄膜除去対象領域Aをスリット形状のレーザ光でX軸方向に往復スキャンすることにより、その薄膜除去対象領域Aからレジスト膜や反射防止膜などの薄膜が除去される。 - 特許庁
On the other hand, by spraying fog like water to the air supplied to the oxygen electrode 21 from a nozzle 55, the impurities d in the air is made to be contained into water drops w, and the water drops dw containing the impurities d contact the oxygen electrode.例文帳に追加
一方、酸素極21に供給される空気にノズル55から霧状の水を吹きかけることにより、水滴wの中に、空気中の不純物dを含ませ、不純物dを含んだ水滴dwが酸素極に接触する構成とする。 - 特許庁
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