「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(191ページ目) - Weblio英語例文検索

A guide rail 25 is provided in parallel to a saw blade 20 on a saw frame 2 of a band saw machine X, a movable side SAW guide 4 is provided on the guide rail 25, and a fixed side saw guide 3 is provided at a facing position to it to have an H-steel W between them.例文帳に追加

帯鋸盤Ｘの鋸フレーム２上に鋸刃２０と平行に案内レール２５を架設し、この案内レールに移動側鋸ガイド４を設けるとともに、Ｈ形鋼Ｗを挟んで対向する位置に固定側鋸ガイド３を設ける。 - 特許庁

The fusion working device is provided with a head part 102, having an opening for fixing an optical fiber 21, at an end of a hollow main body and an optical system in the hollow part of the main body for condensing on the making laser beam emitted from the optical fiber 21 irradiate a work W.例文帳に追加

内空の本体部の一端側には光ファイバ２１を固定する開口部を有する頂部１０２を設けるとともに、本体部の内空部に光ファイバ２１からのレーザ光ワークＷ上に集光、照射する光学系を設ける。 - 特許庁

Thereby, the width dimension (t) of a single cutting edge is sufficient for the width dimension (g) of the mounting eye 20 in a part non-overlapped part of the cutting edge chips 16a and 16b so as to enlarge the wall thickness (w) of the drill body 14 by just that much and improve the strength.例文帳に追加

これにより、切れ刃チップ１６ａ、１６ｂの非重なり部分では取付座２０の幅寸法ｇが切れ刃チップ１枚の厚さ寸法ｔで良くなり、その分だけドリル本体１４の肉厚ｗが大きくなって強度が向上する。 - 特許庁

While being in the positioned state, the peripheral clamping surface of the reference hole H of the work W is clamped by a clamping member 22 of a clamping mechanism 20 provided inside the positioning pin 10 of each clamp unit 1, and at the same time, a grounding function is provided to each clamping mechanism 20.例文帳に追加

この位置決め状態で、各クランプユニット１の位置決めピン１０内に設けたクランプ機構２０のクランプ部材２２にてワークＷの基準孔Ｈの周辺掴持面を掴持するとともに、各クランプ機構２０にアース機能を持たせる。 - 特許庁

The phase current of the w-phase is estimated from the phase current detection values Iua, Iva of current detection circuits 20u, 20v in a normal state, and the steering assist control is performed by using the phase current detection values Iua, Iva and the phase current estimation value Iwb.例文帳に追加

正常時の電流検出回路２０ｕ、２０ｖの相電流検出値Ｉｕａ、Ｉｖａからｗ相の相電流を推定し、相電流検出値Ｉｕａ、Ｉｖａと相電流推定値Ｉｗｂとを用いて操舵補助制御を行う。 - 特許庁

The plasma generated during the cutting the work W is detected at an earlier stage with a first and a second optical detectors 20 and 21 housed in a guide cylinder 13 and the detected signals are synthesized with a mixer 23 and amplified with a photosensor amplifying circuit 24.例文帳に追加

案内筒１３の内部に収容された第１及び第２光検出器２０，２１からワークＷの切断加工中に発生するプラズマを初期段階で検出して、混合器２３により合成し、フォトセンサ増幅回路２４により増幅する。 - 特許庁

Second, the vapor-phase method carbon fibers having the thermal conductivity at 25°C of 400 W/(m K) or more are mixed with the easily graphitized carbide having a true density of 1.50 to 1.60 g/cm^3 by a liquid-phase substitutional method in 0.1 to 20 mass%.例文帳に追加

その二は液相置換法による真密度が１．５０〜１．６０ｇ／ｃｍ^3である易黒鉛化性炭素化物に、２５℃における熱伝導率が４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上である気相法炭素繊維を０．１〜２０質量％混合する。 - 特許庁

The distance between the antenna and the IC tag is about 3 mm in the state of attaching the upper cover part and the lower cover part, and an R/W (reader/writer) unit connected to the antenna constantly communicates with the IC tag for monitoring the state of the substrate box.例文帳に追加

アンテナと識別用ＩＣタグとの距離は、上蓋部と下蓋部を組み付けた状態で約３ｍｍに配置されており、アンテナに接続したＲ／Ｗユニットは、識別用ＩＣタグと常時通信を行って基板ボックスの状態を監視する。 - 特許庁

Since the wax-like material W is packed, the large end surface 8a of the conical roller 8 is brought in contact with the large flange surface 6a from the beginning, so that a play (that is, a clearance between the large flange surface 6a) of the conical roller 8 is prevented.例文帳に追加

このワックス状の物質Ｗを詰め込んだことにより、円錐ころ８の大端面８ａは、はじめから大鍔面６ａに当接した状態となっているため、円錐ころ８の遊び（即ち、大鍔面６ａとの隙間）が防止される。 - 特許庁

In this way, vibration associated with the vertical movement of the lifter arm 30 is prevented from being transmitted to the substrate W, and since the liquid surface can be lowered while the liquid is made to overflow from the tank 20, the adhesion of particles to the substrate can be reduced.例文帳に追加

リフターアーム３０の昇降に伴う振動が基板Ｗに伝達されることはなく、かつ処理槽２０から液をオーバーフローさせつつ液面を低下させることができるため、基板Ｗへのパーティクル付着を低減することができる。 - 特許庁

The substrate treating device is provided with a treating liquid supplying source 27 which supplies a treating liquid 2 onto a substrate W, a micro-bubble generator 28 which generates micro-bubbles in the treating liquid 2, and an ultrasonic vibrator 20 which emits an ultrasonic wave to the treating liquid 2 containing the micro-bubbles.例文帳に追加

処理液２を基板Ｗ上に供給する処理液供給源２７と、マイクロバブルを処理液中に生成するマイクロバブル生成器２８と、マイクロバブルを含んだ処理液２に超音波を照射する超音波振動子２０とを備えた。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head of a high recording plane density corresponding type in which attack for a coil can be prevented even if deep trimming is performed for a lower part pole part, while a sufficient O/W property can be secured, and to provide a magnetic recording apparatus, and its manufacturing method.例文帳に追加

下部ポール部に深いトリミングを施しても、コイルへのアタックを防止することができると共に、充分なＯ／Ｗ特性を確保し得る高記録面密度対応型の薄膜磁気ヘッド、磁気記録装置、及び、その製造方法を提供する。 - 特許庁

The straight-angle electric wire W has a laminated conductor part 3, constituted by laminating a plurality of straight-angle metal conductors 2 in which an oxide film 1 is formed at the outer periphery, and an insulating layer 4 formed to be pushed out and covered at the periphery of the laminated conductor part 3.例文帳に追加

平角電線Ｗは、外周に酸化皮膜１が形成された複数の平角金属導体２を積層して構成された積層導体部３と、積層導体部３の外周に押出被覆形成された絶縁層４とを有する。 - 特許庁

Next, the controllable area identifying part 41 identifies the phase of the FET 31 which fails in a voltage short-circuit based on the identified upper and lower stages and two phase currents out of currents of U-phase, V-phase and W-phase.例文帳に追加

次に、制御可能領域特定部４１は、特定された上下段位置と、Ｕ相、Ｖ相およびＷ相の相電流のうちの２つの相電流とに基づいて、電圧短絡故障が発生しているＦＥＴ３１の相を特定する。 - 特許庁

Since the solution L passes through the gap formed between the surface Ws and the upper surface of the filter 27 and having a low flow passage resistance, the solution L smoothly flows from the central part to the peripheral section of the substrate W through the gap and the in- plane uniformity of the thickness of the plated film is improved.例文帳に追加

流路抵抗が小さい三次元フィルタ２７の上面との隙間を通ることになるので、メッキ液Ｌはその隙間を通って基板Ｗの中央部から周辺部に円滑に流れ、膜厚の面内均一性を高められる。 - 特許庁

A chuck device 20 for grappling one end of a cylindrical workpiece W and a centering holder 50 for supporting the other end are disposed on a second table 2b disposed on the first table 2a movably in the direction orthogonal to a moving direction of the first table 2a.例文帳に追加

第１テーブル２ａ上に、その第１テーブル２ａの移動方向と直交する方向に移動自在に設ける第２テーブル２ｂ上に、筒状ワークＷの一端部を挟持するチャック装置２０と他端部を支持するセンタリングホルダ５０とを設ける。 - 特許庁

A holding member 10 for holding works to be deposited, to which the plurality of works W to be deposited are attached, is arranged at an upper part at the inside of a vacuum tank 1, and two evaporation sources 2A, 2B, in which a plurality of vapor deposition substances are filled, are arranged at a lower part of the tank 1.例文帳に追加

真空槽１の内部の上部には複数の被成膜体Ｗを取り付けるための被成膜体保持部材１０が配置され、下部には複数の蒸着物質が充填された２つの蒸発源２Ａ、２Ｂが配置されている。 - 特許庁

To provide a cement composite material which is obtained by molding a cement-containing W/O emulsion composition comprising cement, water, an oily substance and an emulsifier, is excellent in freeze damage resistance and bending strength and is especially suitably used as a facing material.例文帳に追加

セメント、水、油性物質及び乳化剤からなるセメント含有Ｗ／Ｏ型エマルジョン組成物を成形して得られ、且つ耐凍害性と曲げ強度とに優れ、特に外装材として好適に用いることができるセメント複合材を提供する。 - 特許庁

This ball tray 4 has the first storage section 5 which stores game balls 9 having been put out from a ball putting out port 31 on the front surface side of the ball tray 4, and the second storage section 7 which is formed to be adjacent to the first storage section 5 in the lateral direction W.例文帳に追加

球皿４は、球払出口３１から払い出された遊技球９を球皿４の前面側において貯留する第１貯留部５と、第１貯留部５の左右方向Ｗに隣接形成した第２貯留部７とを有している。 - 特許庁

To provide high-hardness, high-toughness steel in which Si, Al, Cr, Mo, V, W, Ni and Co are more adequately added and a hardness of HRC 50 or higher and a Charpy impact value of 5 kg×m/cm^2 or higher can be obtained by high temperature tempering at ≥600°C.例文帳に追加

Ｓｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｖ、Ｗ、Ｎｉ、Ｃｏをより適正に添加し、６００℃以上の高温焼戻しによって硬さＨＲＣ５０以上でそのシャルピー衝撃値が５ｋｇ‐ｍ／ｃｍ^２以上となる高硬度高靭性鋼を提供する。 - 特許庁

The flow rate of the treatment liquid L flowing from the introduction opening 8a to the recovery opening 9a via the face to be processed of the substrate W is controlled to 0.02-0.3 L/min. per 1 cm in longitudinal direction of the introduction opening 8a.例文帳に追加

このときの導入開口面８ａから基板Ｗの被処理面を経て回収開口面９ａに流れる処理液Ｌの流量は、導入開口面８ａの長辺方向１ｃｍあたり０．０２〜０．３Ｌ／分に制御されている。 - 特許庁

This wire cover 1 is equipped with a connector side fixing part 10 to be fixed to a connector, the wire pressing part 20 to be held in contact with a wire W, and a connecting part 30 to connect the connector side fixing part 10 to the wire pressing part 20.例文帳に追加

本発明における電線カバー１は、コネクタに固定されるコネクタ側固定部１０と、電線Ｗに宛がわれる電線押さえ部２０と、コネクタ側固定部１０と電線押さえ部２０とを連結する連結部３０とを備えている。 - 特許庁

A second spindle unit 100 arranged between the first spindle unit 60 and the saddle 50 is provided with a ram shaft 110 moving in a W-axis direction, and also provided with a turning head and a milling head replaceably mounted to the tip of the ram shaft.例文帳に追加

第１の主軸ユニット６０とサドル５０の間に配設される第２の主軸ユニット１００はＷ軸方向に移動するラム軸１１０を備え、ラム軸先端に交換自在にとりつけられる旋削加工ヘッドとミル加工ヘッドを備える。 - 特許庁

In both the sidewall of a specified height H and the bottom 6d of the bearing body 6e, a fixing element layer (a) is formed, and on a recessed 6e surface and both the side wall of a specified range W of the bearing body 6e, an aluminum layer (c) is formed.例文帳に追加

また、軸受本体６ｅの所定高さＨの両側壁と底部６ｄには、固定体の層イが形成されると共に、軸受本体６ｅの凹部６ｅ表面及び所定範囲Ｗの両側壁には、アルミ材の層ハが形成される。 - 特許庁

In addition, the ratio R_1of the width W from the outer peripheral edge 11 to the inner peripheral edge 12 of the opposed electrode 1, to the distance L from the apex part 21 of the discharge electrode 2 to the inner peripheral edge 12 of the opposed electrode 1, is set to be not less than 15%.例文帳に追加

放電電極２の先端部２１から対向電極１の内周端縁１２までの距離Ｌに対する対向電極１の外周端縁１１から内周端縁１２までの幅Ｗの比Ｒ_１を１５％以上とした。 - 特許庁

In the wafer polishing apparatus pressing a wafer W to a polishing pad 20 by air bags 34 arranged on a carrier 24, pressing region- restricting members 36 attached on the undersurface of the carrier 24 restrict the region where the air bugs 34 press the wafer.例文帳に追加

キャリア２４に設けられたエアバッグ３４でウェーハＷを研磨パッド２０に押し付けるウェーハ研磨装置において、キャリア２４の下面部に押圧領域規制部材３６を取り付けることにより、エアバッグ３４がウェーハを押圧する領域を規制する。 - 特許庁

A cpuC5 of an unloader UL calculates, based on the information 'p' and '10' related to the substrate, a position information for housing the substrate, and actuates the transportation robot 6 so that the held substrate W is housed in a specified housing position.例文帳に追加

アンローダＵＬのｃｐｕＣ５は基板に対応付けられている情報「Ｐ」「１０」に基づき、当該基板を収納すべき位置情報を算出し、搬送ロボット６が保持している基板Ｗを定めた収納位置に収納するように動作させる。 - 特許庁

The addition result is compared with a plurality of thresholds set beforehand by a determination means 30, and it is determined whether the number of the magnetic prints P in the article W is equal to the specified number, smaller than the specified number or larger than the specified number.例文帳に追加

この加算結果と予め設定されている複数のしきい値とが判定手段３０において比較され、物品Ｗ内の磁気印刷物Ｐが規定数か、規定数より少ないか、あるいは規定数より多いかを判定する。 - 特許庁

This cleaning apparatus is provided with a cleaning tank 17 in which a cleaning liq. is stored and a work receiving part for receiving a work W and a rotating body 6 which rotates around an approximately horizontal shaft to make the work receiving part to frequently appear to the cleaning liq.例文帳に追加

洗浄液を貯溜した洗浄タンク１７と、ワークＷを受け入れるワーク受け入れ部４０を備えかつほぼ水平軸回りに回転してワーク受け入れ部４０を前記洗浄液に対して出没させる回転体（６）とを備える。 - 特許庁

It can excite the surface acoustic wave W by self excitation, and can reduce considerably the manufacturing variations and the effect of temperature characteristics, being different from a conventional case in which the excitation is carried out by determining the excitation frequency with an external high frequency power source.例文帳に追加

自励発振によって弾性表面波Ｗを励振でき、従来のような外部の高周波電源によって励振周波数を決めて励振する場合と異なり、製造ばらつきや温度特性の影響を大幅に低減できる。 - 特許庁

The dust removing device has a screen 2 capturing dust mixed in flowing water W, a scraping mechanism 3 scraping-up and removing dust captured by the screen 2 from a lower section to an upper section and a dust discharge opening 4 formed on the upper side of the screen 2 and discharging dust.例文帳に追加

流水Ｗに混入している塵を捕捉するスクリーン２と、スクリーン２に捕捉された塵を下方から上方へ掻上げ除去する掻取機構３と、スクリーン２の上部側に設けられ塵を排出する塵排出口４とを備えている。 - 特許庁

The surface antenna element 14 is formed of copper foil in a meander line shape having a width W (e.g. 0.5 mm) and a size L1 (e.g. 100 mm)×L2 (e.g. 20 mm), and connected to a feeder through the feed portion 16.例文帳に追加

表面アンテナ素子１４は、銅箔により幅がＷ（例えば０．５ｍｍ）、かつサイズがＬ１（例えば１００ｍｍ）×Ｌ２（例えば２０ｍｍ）のメアンダライン形状に形成されており、給電部１６を介して給電線に接続されている。 - 特許庁

Even when a shower head 20 or the tip of a hose 30 is soaked in a part covered with water, such as a drainage gutter, since the check valves 8, 9 are provided on the way of the feed water pipe W and feed hot water pipe H, a back flow accident can be prevented.例文帳に追加

シャワーヘッド２０又はホース３０の先端を排水溝などの水が溜まっている箇所に浸けた場合でも、給水管Ｗ及び給湯管Ｈの途中に逆止弁８，９を設けてあるので、逆流事故を防止することができる。 - 特許庁

The respective tiles 10 are arranged in a stepladder shape without having any joints among them, and a sheet 20 has a selvage part 20b which is protruded outward with respect to the tile 10 positioned on an outer periphery, so as to be fixed to the surface W to be tiled, by means of a tacker or a screw.例文帳に追加

各タイル１０は互いの間に目地を有さずに馬張り状に配置され、シート２０は、外周に位置するタイル１０より外側に突出して被施工面Ｗにタッカ又はビスにより固定される耳部２０ｂを有する。 - 特許庁

When the work pickup device 17 descends to pickup the workpiece W, the engagement part 34 engages with the corresponding engagement part 47b while the work placing table 42 varies the position in the horizontal direction following the work pickup device 17.例文帳に追加

ワークピックアップ装置１７がワークＷをピックアップするために下降する際に、ワーク載置台４２がワークピックアップ装置１７に倣って水平方向の位置を変更しながら、前記係合部３４と前記対応係合部４７ｂとが係合する。 - 特許庁

When the prescribed low-speed rotation time T1 passes (for example, T1=10 seconds) after the brushes 66, 86 have been in contact with the wafer W, the rotational speed of each of brushes 66, 86 is accelerated to 1,000 rpm (rotational speed for cleaning the surface).例文帳に追加

そして、洗浄用ブラシ６６，８６が接触してから予め定める低速回転時間Ｔ１（たとえば、Ｔ１＝１０sec）が経過すると、洗浄用ブラシ６６，８６の回転速度が１０００rpm（表面洗浄用回転速度）に上げられる。 - 特許庁

The control unit 20 includes: a drawing data reading unit 21 for reading drawing data 25 of a workpiece W; an input unit 22 for input of location region information 36; and a pattern accumulation unit 38 for accumulating a plurality of graphic route patterns 37 in advance.例文帳に追加

制御部２０は、加工対象Ｗの図面データ２５を読み込む図面データ読込部２１と、位置領域情報３６を入力する入力部２２と、予め複数の図形ルートパターン３７を蓄積させたパターン蓄積部３８とを有している。 - 特許庁

Further, a range extending from the laser machining part FL.C on the front side to the punch machining part P.C is machined by the laser machining part RL.C on the rear side and a range extending in the direction of the rear side from the punch machining part P.C is machined after the work W is positioned.例文帳に追加

また、フロント側レーザ加工部ＦＬ・Ｃからパンチ加工部Ｐ・Ｃまでに対してはリア側レーザ加工部ＲＬ・Ｃにより加工され、パンチ加工部Ｐ・Ｃからリア側方向の範囲ではワークＷがリポジショニングされてから加工される。 - 特許庁

The elevating apparatus 19 elevates/lowers the inner table section 14 by moving the tapered portions 22 and 23 relatively such that the circuit surface W1 of the wafer W mounted on the wafer mounting surface 14A is positioned in flush with the sheet mounting surface 15A.例文帳に追加

昇降装置１９は、テーパ部２２，２３を相対移動させることにより内側テーブル部１４を昇降し、ウエハ載置面１４Ａに載置されたウエハＷの回路面Ｗ１とシート載置面１５Ａとを同一面上に位置するようになっている。 - 特許庁

Therefore, when high water pressure (an arrow W) acts from an engine room side 12 in car washing, off-road traveling or the like, the sealing part 20 is press-pushed by the high water pressure to the direction closely adhering to the external periphery 24A of the heater pipe 24.例文帳に追加

従って、エンジンルーム１２側から、洗車時、オフロード走行時等に高水圧（図１の矢印Ｗ）が作用した場合には、高水圧により、シール部２０は、ヒータパイプ２４の外周部２４Ａに密着する方向に押圧されるようになっている。 - 特許庁

The spline ball groove grinding method of a workpiece I.D. is to incline a rod-like grindstone 4 by a specified angle β° against a workpiece axis line Lb, axially move the grindstone in parallel with the workpiece axis line, and grind a spline ball groove b1 along the inside diameter of a workpiece W.例文帳に追加

ワーク内径のスプラインボール溝研削方法として、棒状の研削砥石４をワーク軸線Ｌｂに対し所定角度β°斜めに傾け、かつワーク軸線と並行に軸移動してワークＷ内径にスプラインボール溝ｂ１の研削をなす。 - 特許庁

A camera for imaging an electrode pad of the IC chip on the wafer is mounted, and the nozzle part is provided in a movement member which is moved horizontally between the probe card and a wafer W placement table, and the ionized air is discharged toward the probe card from here.例文帳に追加

あるいはウエハ上のＩＣチップの電極パッドを撮像するためのカメラを搭載し、プローブカードとウエハＷ載置台との間において水平移動される移動部材にノズル部を設けてここからプローブカードに向けて、イオン化された空気を吐出する。 - 特許庁

The composite electric wire includes the electric wire body W consisting of the center conductive wire AL, and an outer layer conductive wire CU which is extended along the outer peripheral face of this center conductive wire AL in Z direction, and arranged so as to surround this center conductive wire AL.例文帳に追加

複合電線は、中心導線ＡＬとＺ方向にこの中心導線ＡＬの外周面に沿って延長すると共にこの中心導線ＡＬを囲むように配置される外層導線ＣＵとからなる電線本体Ｗを含んでいる。 - 特許庁

In stead of the chromium nitride layer, a layer of another compound can be used; e.g. a layer of the nitride, oxide or carbide of one or more metals selected from the group consisting of Al, Cr, Si, Ta, Ti, Mo, Nd, Zr and W can be used.例文帳に追加

上記窒化クロム層に代えて他の化合物層を用いても良く、例えばＡｌ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｎｄ、Ｚｒ及びＷの群から選ばれた１又は２以上の窒化物層、酸化物層又は炭化物層を用いても良い。 - 特許庁

At the protection recessed part 29, a head unit 32 is provided slightly inside the protection recessed part 29, and top corner of the head unit 32, which is in rectangular shape, is protected from the collision with the plate-like member W by the protection recessed part 29.例文帳に追加

そして、保護凹部２９には、ヘッドユニット３２が保護凹部２９の若干内側に入り込んだ位置に設けられ、直方形状をなすヘッドユニット３２は、その頂角が保護凹部２９により板状部材Ｗとの衝突から保護される。 - 特許庁