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W-Inの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 11340



例文

In this dry etching apparatus, an annular protruding member 50 is protruded in the periphery of an upper electrode 18 toward an lower electrode 20, which loads a substrate W to be processed, to form a stepped level difference (d) against the upper electrode 18 to strengthen the electric field around the peripheral part of the upper electrode 18, and to increase the plasma density.例文帳に追加

このドライエッチング装置では、上部電極18の周囲で環状突出部材50が上部電極18に対して被処理基板Wを載置する下部電極20側へ突出して段差dを形成することで、上部電極18の周辺部付近において電界が補強され、プラズマ密度が高められる。 - 特許庁

An image P5 with a stripe pattern 5 reflected on an inspection target surface SP is photographed at a shallow angle, and an image P5a with one or more continuous unit stripes 5a reflected on is specified from among the stripe pattern-reflected images P5 existing in a predetermined distance range counted from the edge in a closer side to a workpiece W.例文帳に追加

縞パターン5が検査対象面SPに写り込んだ画像P5を浅い角度で撮像するとともに、ワークWに近い側の端縁から数えて所定距離の範囲にある縞パターン写り込み画像P5の中から1又は連続する複数の単位縞5aの写り込み画像P5aを特定する。 - 特許庁

When a substrate W to be processed which has the amorphous carbon film is mounted in a processing container 10 and the amorphous carbon film is plasma-etched using an inorganic film as a mask, an O_2 gas is used as an etching gas, and supplied at a residence time of ≤0.37 msec in the processing container, thereby plasma-etching the amorphous carbon film.例文帳に追加

アモルファスカーボン膜を有する被処理基板Wを処理容器10内に設置し、無機膜をマスクとしてアモルファスカーボン膜をプラズマエッチングするにあたり、エッチングガスとしてO_2ガスを用い、O_2ガスの前記処理容器におけるレジデンスタイムが0.37msec以下となるようにO_2ガスを流してアモルファスカーボン膜をプラズマエッチングする。 - 特許庁

This condenser lens 13 is constituted of group lenses in which a plurality of lenses are combined and includes a first group lens part 13a which expands the beam diameter of a laser beam in the direction orthogonal to the optical axis and a second group lens part 13b which condenses the laser beam, the beam diameter of which is expanded by the first group lens part 13a, toward a workpiece W.例文帳に追加

この集光レンズ13は、複数のレンズを組み合わせた組レンズで構成され、レーザービームのビーム径を光軸と直交する方向に拡大する第1の組レンズ部13aと、第1の組レンズ部13aでビーム径が拡大されたレーザービームをワークWに向けて集光させる第2の組レンズ部13bとを備える。 - 特許庁

例文

The information processor includes a job generation processing section 11 for generating job data based on the input drawing command and storing it in a job queue 12, and a job drawing section 2 having an H/W renderer 23 for generating an page image to be printed based on the job data stored in the job queue 12.例文帳に追加

情報処理装置が、入力される描画命令に基づいてジョブデータを生成してジョブキュー12に格納するジョブ生成処理部11と、ジョブキュー12に格納されたジョブデータに基づいて、印刷対象のページ画像を生成するH/Wレンダラ23を有するジョブ描画部2とを備える。 - 特許庁


例文

In the R/W terminal 2, when image data associated with an image ID is present in a memory 24 (step S5, Yes), a control part 22 generates second information including the image data associated to the image ID (step S6), and transmits the second information to the mobile terminal 3 by use of a non-contact IC communication part 23 (step S7).例文帳に追加

R/W端末2は、メモリ24に画像IDと対応付いた画像データがある場合は(ステップS5,Yes)、制御部22は画像IDに対応付いた画像データを含む第2の情報を生成し(ステップS6)、非接触IC通信部23を使って携帯端末3へ第2の情報を送信する(ステップS7)。 - 特許庁

The cross section of the optical polarization wave rotating element 30 is formed into a shape, in which rectangular cross sections 40, 44 are eliminated from a rectangular cross section 32, the distance W between a point 38 and a point 42 is decided to a value with which a rotary parameter becomes 1, and the length of the optical polarization wave rotary element 30 in the propagation direction of light is a half beat length.例文帳に追加

光偏波回転素子30の断面を、矩形断面32から矩形断面40,44を削除した形状になるよう形成し、点38と点42との距離Wを回転パラメータが値1になる距離にし、光偏波回転素子30の光の伝搬方向の長さを半ビート長にした。 - 特許庁

The electric equipment cooling system includes an air vent 39A for taking in a traveling wind when a moving body 1 advances, and is provided with the air blowing fan 247 for blowing air in the flow direction of an inflow wind by the traveling wind when advancing, and cools heating of power elements 243a and 244a of substrates 243 and 244 by joining the inflow wind W and fan blowing winds F1 and F2 together.例文帳に追加

移動体1の前進時の走行風を取り入れる通気孔39Aを有し、前進時の走行風による流入風の流れ方向に送風する送風ファン247を設け、流入風Wとファン送風F1,F2とを合わせて、基板243,244のパワー素子243a,244aの発熱を冷却する。 - 特許庁

This surface material for heat molding comprises the aggregate of sheet-shaped thermosetting resin particles having continuous pores obtained by curing an O/W aqueous dispersion prepared by mixing a radically polymerizable liquid thermosetting resin and homogeneously dispersing the resin particles in a water phase in the presence of a reinforcing material.例文帳に追加

液状のラジカル重合型熱硬化性樹脂を水と混合し水相中に樹脂粒子を均一に分散させてなるO/W型水性分散体を補強材の存在下に硬化させた微細な連続気孔を有するシート状硬化樹脂粒子集合体からなる加熱成型用表面材に関する。 - 特許庁

例文

Using the sub-pixel of C, the color reproduction range is widened and reduction of brightness of green light having high visibility of humans is suppressed, and also using the sub-pixel of W, reduction in brightness of an entire display screen caused by increase in the number of sub-pixels divided from one display pixel can be suppressed.例文帳に追加

Cのサブ画素を用いることにより、色再現範囲の拡張と、人間の視感度が高いGの色の光の輝度の低下の抑制とを図ると共に、Wのサブ画素を用いることにより、1つの表示画素における分割数の増加による表示画面全体の輝度の低下を抑えることができる。 - 特許庁

例文

To provide emulsion ink for mimeograph printing, which is water in oil type (W/O type) emulsion ink capable of being colored at least with a green color, without elevating viscosity and also without causing the separation and degeneration of the ink even in its preservation at a high temperature, and without generating harmful substances on its incineration.例文帳に追加

少なくとも緑色の着色が可能な油中水型(W/O型)の孔版印刷用エマルションインキにおいて、高温保存時であっても粘度が上昇せず、かつ、インキの分離変質をおこさず、また、焼却された際に有害物質を発生しない油中水型(W/O型)の孔版印刷用エマルションインキの提供。 - 特許庁

In this dry etching apparatus, an annular protruding member 50 is protruded in the periphery of an upper electrode 18 toward an lower electrode 20, which loads a substrate W to be processed, to form a stepped level difference (d) against the upper electrode 18 to strengthen the electric field around the peripheral part of the upper electrode 18, and to increase the plasma density.例文帳に追加

このドライエッチング装置では、上部電極18の周囲で環状突出部材50が上部電極18に対して被処理基板Wを載置する下部電極20側へ突出して段差dを形成することで、上部電極18の周辺部付近において電界が補強され、プラズマ密度が高められる。 - 特許庁

In the rewritable base material film for the rewritable recording medium employed in the rewritable recording medium formed by laminating a rewritable print layer onto one side of the base material, the base material film is a plastic film having its light transmittance of >15% and its thermal conductance of 0.037-0.080 W/mK.例文帳に追加

基材フィルムの片面にリライト印字層を積層してなるリライト記録媒体に用いるリライト記録媒体用基材フィルムであって、基材フィルムは、光線透過率が15%を超え、かつ熱伝導率が0.037〜0.080W/mKであるプラスチックフィルムよりなることを特徴とするリライト記録媒体用基材フィルム。 - 特許庁

In this method for producing the tetrahydrocurcumins or the composition containing the tetrahydrocurcumins, the microbial fungus, the cultured product or the treated product thereof, having activities for converting curcumins into the tetrahydrocurcumins is subjected to act on the curcumins or the composition containing the curcumins in the presence of an O/W type emulsion.例文帳に追加

O/W型エマルジョンの存在下、クルクミン類をテトラヒドロクルクミン類に変換する活性を有する微生物の菌体、培養液又はそれらの処理物を、クルクミン類又はクルクミン類を含有する組成物に作用させることを特徴とするテトラヒドロクルクミン類またはテトラヒドロクルクミン類を含有する組成物の製造方法。 - 特許庁

Also, in other processes for peeling off and removing the attached resin 41, first of all, two rotating blades 73 are used to cut two cutting grooves 42 in the resin 41 attached on the position corresponding to the required cutting width 80 of the substrate W, and then the resin 41 attached between the cutting grooves 42 is peeled off and removed by the peeling blade 71.例文帳に追加

また、付着樹脂41を剥離除去する他の工程は、まず、二枚の回転刃73を用いて、基板Wの所要切断幅80と対応する部位に付着した付着樹脂41に二本の切断溝42を刻設し、次に、この切断溝42間の付着樹脂41を剥離刃71にて剥離除去する。 - 特許庁

In a vertical baseboard 21 attached to the upper wall face W than the opposite face 13 between one end face of a floor material 11 laid on the floor face 1 of a slab or the like and a wall face, a horizontal end member 23 covering the upper face of the end 12 of the floor material 11 is installed in the baseboard body 22.例文帳に追加

スラブ等の床面1上に敷設した床材11の一端面と壁面との対向面13より上側の壁面Wに取り付けられる垂直方向の幅木21において、該幅木本体22に床材11の端部12上面を被覆する水平方向の見切材部23を設けた。 - 特許庁

To provide a means which solves inconvenience in removing, moving, or attaching a prescribed intermediate plate in the case where, for example, a sectional upper die (punch) is hardly attached or a work interferes with the intermediate plate for a bending machine for a sheet metal work W such as a press brake equipped with plural intermediate plates (one action punch holder).例文帳に追加

複数の中間板(ワンタッチパンチホルダ)2を備えたプレスブレーキ等の板金ワークW曲げ加工機械において、例えば分割式の上金型(パンチ)が取付け難かったり、ワークWが中間板2に干渉したりする場合の所定中間板の取外し/移動/取付け等の不便を解消する手段を提供する。 - 特許庁

The printing paper keeping high paper strength while having a high ash content, and excellent in smoothness and air impermeability is produced by adding, in paper making, a paper making additive which additive comprises cellulose nanofibers whose aqueous dispersion of 2% (w/v) concentration has a Brookfield viscosity (60 rpm, 20°C) of 500-7,000 mPa s.例文帳に追加

濃度2%(w/v)の水分散液のB型粘度(60rpm、20℃)が500〜7000mPa・sであるセルロースナノファイバーからなる製紙用添加剤を抄紙時に添加することにより、高灰分でありながら高い紙力を保持し、また、平滑度と透気抵抗度にも優れた印刷用紙を製造する。 - 特許庁

To provide a high-density-recordable, 2-layer phase-change optical recording medium which has a good recording sensitivity to a short-wavelength, low-output light such as a blue laser, does not produce noise such as jitter, is excellent in O/W characteristics, is good in archival characteristics, can easily catch focusing and tracking, and is interchangeable with a ROM.例文帳に追加

青色レーザーなどの短波長の低出力光に対しても記録感度が良く、ジッタなどのノイズが発生せず、O/W特性が優れ、アーカイバル特性も良好で、かつフォーカスやトラッキングが掛かり易く、ROMとの互換を可能とした、高密度記録可能な2層相変化型光記録媒体の提供。 - 特許庁

Steel plates 21, 22 are butt-welded using a laser beam welding device 10 of a direct diode laser system, in which a diode directly emits a laser beam while forming a spot S of an oblong shape in such a way that long sides L2 of the shape are parallel to a welding line W, so that the spot S is made large enough for a gap G.例文帳に追加

ダイオードがレーザを直接発光するダイレクトダイオードレーザ方式のレーザ溶接装置10を用いて、長辺L2が溶接ラインWと平行になるように縦長形状のスポットSを形成して、鋼板21,22の突き合わせ溶接を行うため、ギャップGに対してスポットSを十分大きくすることができる。 - 特許庁

This manufacturing equipment is provided with a housing H forming a closed space divided from external circumstances K, a means for keeping the space clean, a polishing part 1 and a cleaning part 10 which are installed in the space and treat a semiconductor wafer W, and a means which increases the pressure in the space higher than that of the external circumstances K.例文帳に追加

外部環境Kと仕切られた密閉された空間を形成するハウジングHと、前記空間を清浄に保つ手段と、前記空間内に設置され半導体ウエハWの処理を行う研磨部1および洗浄部10と、前記空間内の圧力を外部環境Kの圧力より高める手段とを有する。 - 特許庁

The measurement point of the sensor 8 is set slightly on the inside from the outer diameter of the screw shaft (work W) cut-machined with the thread groove in advance, positions of both shoulder parts of the thread groove across the measurement point are detected in the rotating direction of the screw shaft and the horizontal direction, and the center position of the thread groove Wm is indexed.例文帳に追加

センサ8の測定ポイントを、ねじ溝が予め切削加工されているねじ軸(ワークW)の外径から僅かに内側に設定して、その測定ポイントを挟むねじ溝両肩部の位置を、ねじ軸回転方向と水平方向とで検出してねじ溝Wmの中心位置を割り出す。 - 特許庁

The heat treatment apparatus is further provided with a ring-like guard ring 25 held in the susceptor 22 and supporting the peripheral edge of the wafer W; and a guard ring 26 held in the susceptor 22, configured of the same material as that of the guard ring 25 on the external periphery of the guard ring 25, and arranged like a ring closely to the guard ring 25.例文帳に追加

熱処理装置は、さらに、サセプタ22に保持されて、ウェハWの周縁部を支持するリング状のガードリング25と、サセプタ22に保持されて、ガードリング25の外周部に、ガードリング25と同じ材料で構成され、ガードリング25に対して近接させてリング状に配設されるガードリングガード26とを備える。 - 特許庁

The opening and closing mechanism 20 having a main guide groove 21 for sliding a door 11 in both right and left directions W at an interval without interfering with the door 12 ahead of the door 12 in a closed position and sub-guide grooves 22a and 22b for moving each of the doors 11 and 12 to the closed position from the main guide groove 21 is provided.例文帳に追加

閉位置にある扉12の前方で、扉12と干渉しない間隔を開けて扉11を左右方向Wにスライドさせるための主ガイド溝21と、主ガイド溝21から、扉11および12のそれぞれを、閉位置に移動するためのサブガイド溝22aおよび22bとを有する開閉機構20を提供する。 - 特許庁

With this face-plate 10 attached to the reaction container 2 of a film forming device 1 so as to be arranged opposite to a susceptor 16, in forming a film on a substance W to be processed, the reflection intensity of light in the infrared region entering from the susceptor 16 is reduced by the face-plate 10 compared with the case of no low reflection film 12.例文帳に追加

このフェースプレート10をサセプタ16に対向配置されるよう成膜装置1の反応容器2に取り付けた後、被処理基板W上に成膜を行う場合、フェースプレート10で、サセプタ16から入射される赤外領域の光の反射強度が、低反射膜12がない場合より低減される。 - 特許庁

A graphite material to be treated W, which is treated beforehand by a chemical or the like, is placed in the heat-insulating box 18 inside the treatment container 12, in allowing an inert gas to flow a microwave is generated by the microwave oscillator 38, and the microwave is irradiated into the treatment container 12 through the waveguide 40.例文帳に追加

熱処理は、予め薬品処理等を行った被処理用黒鉛材料Wを処理容器12の断熱箱18に入れて、不活性ガスを流通した状態で、マイクロ波発信器38からマイクロ波を発生させ、導波管40を介して処理容器12内にマイクロ波を照射する。 - 特許庁

In this way, since the etching process is performed in a condition where the cover rinse part CL is provided to the substrate-end surface side of the hardly soluble layer UL and the exposed base layer DL is protected, only the hardly soluble layer UL formed at the surface edge part TR of the substrate W is selectively etch-removed.例文帳に追加

このように難溶性層ULの基板端面側にカバーリンス部CLを設けて露出した下地層DLを保護した状態でエッチング処理を行っているため、基板Wの表面周縁部TRに形成された難溶性層ULのみを選択的にエッチング除去することができる。 - 特許庁

This environmental load-reducing mortar or concrete kneading matter includes cement and an admixture as powdery components, has a water/powder ratio W/B of 20-46%, and a mass ratio (substitution rate) of the admixture occupied in the powder of 80-95%, and excels in suppression of residual unhydrated cement component after curing.例文帳に追加

セメントおよび混和材を粉体成分として含有し、水粉体比W/Bが20〜46%であり、かつ前記粉体に占める混和材の質量割合(置換率)が80〜95%である、硬化後の未水和セメント成分の残存抑制性に優れた環境負荷低減モルタルまたはコンクリート混練物。 - 特許庁

This production process for tungsten - chromium - zinc multiple sulfide comprises: adding an ammonium thiotangustate aqueous solution to zinc hydroxychromate hydrate in an amount sufficient to provide a W/(Zn+Cr) atomic ratio of 0.003-0.05; mixing and agitating them, to evaporate water in the resulting mixture and to obtain a solid material; and then, subjecting the solid material to reductive decomposition.例文帳に追加

ヒドロキシクロム酸亜鉛水和物にチオタングステン酸アンモニウム水溶液を、W/(Zn+Cr)原子比が0.003以上、0.05以下の範囲で添加し、混合・攪拌しながら水分を蒸発させて固体成分を得、それを還元分解することを特徴とするタングステン−クロム−亜鉛複合硫化物の製造方法。 - 特許庁

The seed layer structure 114 is a trilayer consisting of a first seed layer 114a of tantalum (Ta), a second seed layer 114b of one or both of titanium (Ti) and Ti-oxide on and in contact with the Ta layer 114a, and a third seed layer 114c of tungsten (W) on and in contact with the second seed layer 114b.例文帳に追加

シード層構造114は、タンタル(Ta)の第1のシード層114aと、Ta層114a上でそれに接するチタン(Ti)およびTi酸化物の一方または両方の第2のシード層114bと、第2のシード層114b上でそれに接するタングステン(W)の第3のシード層114cと、からなる3層である。 - 特許庁

When a tire 12 is inserted or taken out, the segment 14 is moved in a specified direction by sliding the exterior slop of the segment 14 along the interior slope of the container 24 by a specified distance, in order to form a specified clearance W between a tread section of the tire 12 and an interior surface of the segment 14.例文帳に追加

タイヤ12の挿入時及び取り出し時には、タイヤ12のトレッド部とセグメント14の内周面との間に所定量の隙間Wを形成するため、セグメント14の外側傾斜面とコンテナー24の内側傾斜面を所定距離だけ摺動させてセグメント14を所定方向に移動させる。 - 特許庁

A radiographic image of a subject W based on an output from a radiation area sensor 2 is displayed, and line profiles P1-P3 along lines LV1, LV2 set beforehand in the direction orthogonal to a slice surface on the radiographic image or a line LV3 settable optionally in the same direction are calculated and displayed.例文帳に追加

放射線エリアセンサ2の出力に基づく被写体Wの放射線透過像を表示するとともに、その放射線透過像上のスライス面に直交する方向で、あらかじめ設定されたラインLV1,LV2、あるいは同方向で任意に設定できるラインLV3に沿ったラインプロファイルP1〜P3を算出して表示する。 - 特許庁

The surface of a zone in front of a liquid flow passage 44 of the nozzle part 42 constituting a discharge hole 43 in the traveling direction of the nozzle 4 is reformed to be hydrophobic with respect to the supply nozzle 4 having the discharge hole 43 formed through a length equal to or above the width of the effective zone of a wafer W.例文帳に追加

ウエハWの有効領域の幅とほぼ同じかそれ以上の長さに亘って吐出孔43が形成された供給ノズル4の、前記吐出孔43を構成するノズル部42の通流路44よりもノズル4の進行方向に対する前方側の領域42aの表面を疎水性に改質する。 - 特許庁

This pneumatic tire 1 includes: a belt layer 3, comprised of a plurality of belt members 31 to 33 laminated therein, arranged around an outer circumference in the tire radial direction of a carcass layer 2 and an outer main groove 41, positioned within a range of one-fourth of a tread width W from an edge of a tread surface, extending in the tire circumferential direction.例文帳に追加

この空気入りタイヤ1は、複数のベルト材31〜33が積層されて成ると共にカーカス層2のタイヤ径方向外周に配置されるベルト層3と、トレッド面の縁部からトレッド幅Wの四分の一の範囲内に位置すると共にタイヤ周方向に延在する外側主溝41とを含む。 - 特許庁

In this connector, a bent part 8 is formed by folding a midway of one electric wire W, an insulation displacement terminal 14 is connected to a tip, and a sealing member 37 comprising a seal main body part 39 formed by molding and a lip ring 42 engaged with the seal main body part 39 is provided in a root side.例文帳に追加

一の電線Wの途中を折り返すことによって屈曲部38が形成され、その先端には圧接端子14が接続されており、根元側にはモールド成形によって形成されたシール本体部39と、このシール本体部39に嵌着されるリップリング42とからなるシール部材37が設けられている。 - 特許庁

This cloth-like planar article in which a plurality of the shape memory wires 2 arranged in parallel are combined with a plurality of parallel stripe members 3 crossing the shape memory wires 2 to hold a distance W between the wires 2, 2 is characterized by applying an insulating coating to the shape memory wires 2 and/or using insulated stripe members 3.例文帳に追加

並列した複数本の形状記憶ワイヤー2に、これらワイヤー2と交差する複数本の並列した筋材3を交錯して、ワイヤー2,2の間隔Wを保持した布状の面状体とし、形状記憶ワイヤー2に絶縁被覆が施され及び/又は絶縁性の筋材3が用いられていること。 - 特許庁

In a vacuum adsorption device in which a main surface A of the stage board 1 is a wafer-adsorbing surface, the stage board 1 is made of an aluminum nitride sintered body having thermal conductivity of more than 90 W/m.K, and at least the main surface A is covered with an conductive film 2 made of nickel having purity of more than 98.5 wt.%.例文帳に追加

ステージ板1の一主面Aをウエハ吸着面とする真空吸着装置であって、前記ステージ板1は熱伝導率が90W/m・K以上の窒化アルミニウム質焼結体から成り、かつ少なくとも一主面A上に純度98.5重量%以上のニッケルからなる導電膜2が被着されている。 - 特許庁

In the argon-hydrogen plasma process used for the packing of the flip, the pressure in the chamber is kept within the range of from 100 to 400 mtorr, the mixed gas of argon and 0 to 20 % hydrogen is supplied with an output of 10 to 50 W into the chamber to produce plasma, and further the flip-chip is exposed to the plasma for 10 to 120 sec.例文帳に追加

フリップの実装に用いられるアルゴン−水素プラズマ工程は、チャンバーの圧力を100〜400mtorrの範囲に維持し、チャンバー内にアルゴンと0〜20%水素の混合気体を10〜50Wの出力で提供してプラズマを発生させ、フリップチップを10〜120秒間前記プラズマに露出させる。 - 特許庁

Before a tip 16 catches a loop of a needle thread T, the driven frame 5 is driven in a direction from the needle 4 toward the flange part 14 as seen in a plan view, so the needle 4 is moved toward the flange part through the cloth W to narrow a gap G between the flange part 14 and the needle 4.例文帳に追加

そして、剣先16が上糸Tのループを引っ掛けるまでに、駆動枠5を平面から見て針4からフランジ部14に向かう方向に駆動することにより、フランジ部14と針4との隙間Gが狭くなるように、加工布Wを介して針4をフランジ部側に寄せ移動することを特徴としている。 - 特許庁

A long-length screw 20 moving a welding object W is supported on a base 28 with a plurality of supporting fittings 30 at prescribed intervals, and each welding object holder 18 is, in such a manner that the nut 16 thereof can pass through the supporting fitting 30, provided with a supporting fitting relief notch 16N in the nut 16.例文帳に追加

被溶接物Wを移動する長尺スクリュー20は、複数の支持金具30によって所定間隔をあけて基台28に支持され、被溶接物保持具18は、そのナット16が支持金具30を通過することができるようにナット16に設けられた支持金具逃げ切欠16Nを有する。 - 特許庁

The combined light-reflective film is characterized in that a graphite sheet having 600-1,800 W/(m K) thermal conductivity in the planar direction and 10-50 μm thickness is bonded to one side of a light-reflective film having 30-60 μm thickness and 1.0-1.4 specific gravity.例文帳に追加

複合反射フィルムは、厚みが30μm以上、60μm以下で比重が1.0以上、1.4以下の反射フィルムの片側に、平面方向の熱伝導度が600W/m・K以上、1800W/m・K以下、厚みが10μm以上50μm以下のグラファイトシートが接合されている事を特徴とする。 - 特許庁

In a terminal processing structure 1 of a shielded wire, a fitting part 4 of a connecting terminal 2 is inserted between a shield braid 13 of a shielded wire W and an insulating inner skin 12, crimped from the outer circumference, and two tab parts 6, 6 faced each other are formed with two slits 5 in the fitting part 4.例文帳に追加

本発明のシールド電線の端末処理構造1は、接続端子2の嵌め合い部4をシールド電線Wのシールド編組13と絶縁内皮12の間に嵌入させて外周から加締るもので、嵌め合い部4の2箇所のスリット5により対向した2個のタブ部6、6を形成している。 - 特許庁

A control chip 10 incorporated in a fitting part 9a receives an unlocking signal transmitted from the R/W terminal machine of the outside, the pin 11b is dragged in by a control signal transmitted from the control chip 10 to be slipped off from the engaging hole 12b, and access to the key holes 3b, 5b is made possible.例文帳に追加

外部のR/W端末機18から発信された解錠信号を嵌入部9aに内蔵された制御チップ10が受信し、該制御チップ10から送られた制御信号によりピン11bが引き込まれて係合穴12bから外れ、鍵穴3b,5bへのアクセスが出来るように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

An annular elastic tube 11 having a fluid inlet port 14 is disposed in an annular groove 10 formed along the outer circumference of the work holding region 9 and the tube internal pressure is adjusted so that the pushing force in the circumferential part of the work W abutting on the bottom face of the tube 12 can be controlled.例文帳に追加

流体注入口(14)を有する環状の弾性チューブ(11)がワーク保持板(2)のワーク保持領域(9)外周に沿って形成された環状の溝部(10)内に配置され、チューブ内圧を調整することでチューブ下面(12)に当接するワーク(W)周辺部分の押圧力を制御できる。 - 特許庁

In the inter-bore range, a waste hole part 2 is provided to be opened to a deck surface in the cylinder block and a laser pass part 1A is provided to communicate with the W/J12 on at least one end side by laser machining, to pass through the hole part and to make cooling water flow.例文帳に追加

そして、ボア間領域において、前記シリンダブロックのデッキ面に開口するように設けられた捨て穴部2と、ボア間領域において、レーザー加工によって少なくとも一端側でW/J12に連通するとともに、穴部を通過するように設けられ、冷却水を流通させるレーザーパス部1Aと、を備えている。 - 特許庁

In the differential device using contrate gears 1, 3 for a pair of output-side side gears 1, 3, a tooth height H from the rotation center of the contrate gears 1, 3 radially outward is continuously made low, so that an increasing portion 105 having a rotational width W is provided in an addendum flank top surface 7.例文帳に追加

一対の出力側サイドギヤ1,3にフェースギヤ1,3を用いたデファレンシャル装置において、このフェースギヤ1,3の回転中心から径方向外側に掛けての歯丈Hを連続的に低くすることにより、歯末頂面7に回転方向幅Wの増大部105を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The low core losses of the bulk amorphous metal inductive device, e.g. a loss of at most about 12 W/kg when excited at a frequency of 5 kHz to a peak induction level of 0.3 T, make it especially useful for application in power conditioning circuits operating in switched mode at frequencies of 1 kHz or more.例文帳に追加

バルク非晶質金属製の誘導デバイスは、コア損失が小さく、例えば5kHzの周波数で0.3Tのピーク誘導レベルまで励磁された場合のコア損失が約12W/kgであるため、1kHz以上の周波数のスイッチモードで動作する電力調節回路における適用にとりわけ有用である。 - 特許庁

The pressure contact connecting units 13 are stacked in the upper and lower plural stages, and the mutual electric wires W, brought into pressure contact with the upper and lower connecting units 13, are connected by pressing the insulating plate 12 in the joint plate 14, having the pressure contact slots 14a corresponding to the upper and lower connecting units 13 to be connected.例文帳に追加

そして、圧接された接続ユニット13を上下複数段積み重ねると共に、接続すべき上下の接続ユニット13に対応する圧接スロット14aを備えたジョイントプレート14に、絶縁板12を圧入することにより、上下の接続ユニット13に圧接された電線W同士を接続する。 - 特許庁

In a cleaning process of a dicing step, for instance, a semiconductor wafer 200 with a tape electrostatically charged by the cleaning is lifted from a cleaning stage 230 to the specific height h1 by a transferring arm 210, and in this state, the electricity on the surface side of the semiconductor wafer W is removed by an electricity removing means 70.例文帳に追加

例えば、ダイシング工程の洗浄処理において、洗浄に伴い帯電したテープ付半導体ウエハ200を、搬送アーム210によって洗浄ステージ230から一定の高さh1まで持ち上げ、この状態で除電手段70により半導体ウエハWを表面側から除電する。 - 特許庁

例文

In this sealed battery 10, a power generation element 11 is stored by margins 25,26 having a prescribed width dimension W provided in a peripheral edge of a sealed battery package 20 to surround the generation element 11, and a terminal fusing margin 27 for fusing fellow inner faces of the package 20 each other via respective terminals 12, 13.例文帳に追加

密閉形電池10は、発電要素11を囲むように密閉形電池用パッケージ20の周縁に設けられた所定幅寸法Wを有する融着代25,26と、各端子12,13を介して密閉形電池用パッケージ20の内面同士を互いに融着させる端子融着代27とにより発電要素11が収容されている。 - 特許庁




  
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