「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(190ページ目) - Weblio英語例文検索

it is based on section XXIII of article 124 or article 126 of the LPI and the opponent does not evidence the filing at the INPI of the application for registration of its trademark in a term of sixty (60) days as of the day immediately subsequent to the date of filing of the opposition, regardless of notice or official action by the INPI; 例文帳に追加

産業財産法第124条(w)又は第126条に基づく場合で，INPIの通知又は指令に拘らず，異議申立人が異議申立日の翌日から60日以内にその商標の登録出願をINPIになしたことを証明しない場合 - 特許庁

A plurality of the electric wires W is mutually adhered to each other and gathered so as to improve the flexural rigidity in a region from an electric wire fixed part on the body side to an electric wire fixed part 15 on the door side through electric wire movable parts 9, 14 on the door side.例文帳に追加

ボディ側の電線固定部５からドア側の電線可動部９，１４を経てドア側の電線固定部１５に至る範囲において、複数本の電線Ｗを曲げ剛性の高まるように相互に密着ないし集合させた。 - 特許庁

When the processing number of the workpiece W comes to the predetermined pieces, a change of the work starting position is applied in the circumferential direction and the tooth width direction of the roller dice 4 and concurrently the rotating direction when the work commences is to be changed so as to show an opposite direction.例文帳に追加

ワークＷの加工数が所定枚数になったならば、ローラダイス４の円周方向および歯幅方向での加工開始位置を変更するとともに、加工開始時の回転方向も従前と逆方向となるように変更する。 - 特許庁

In the wafer polishing apparatus, a retainer ring 28 is mounted to a holder 50 provided to a wafer holding head, a protective sheet 52 is extended into inside of the retainer ring, and polishing is carried out by pushing a wafer W against a polishing pad 20 via the protective sheet.例文帳に追加

ウェーハ保持ヘッドに設けられたホルダ５０にリテーナーリング２８を取り付けるとともに、リテーナーリングの内側に保護シート５２を張設し、保護シートを介してウェーハＷを研磨パッド２０に押し付けて研磨するウェーハ研磨装置に関する。 - 特許庁

The cooler for the moving element comprises a plurality of flat plate-like fins 22 extended in the travelling direction of a vehicle 1, and a blower 3 for blowing to increase an air volume flowing between the fins 22 of wind W generated by the travelling of the vehicle 1.例文帳に追加

車両１の走行方向に延在した複数の平板状フィン２２を有し、且つ車両１の走行により生じる走行風Ｗの平板状フィン２２間に流れる風量を増大させるように送風する送風機３が設けられる。 - 特許庁

Therefore, even if an electric wire is bent, the rubber plug 10 keeps a secure engagement between the locking section 12 and the cavity C, while the sealing section 11 is held in firm contact with the inner wall of the cavity C and the outer circumference of the electric wire W.例文帳に追加

これにより、電線曲げが生じてもゴム栓１０は、ロック部１２がキャビティＣに強固に係止された状態に保持され、シール部１１がキャビティＣの内壁と電線Ｗの外周とに強固に密着した状態に保持される。 - 特許庁

To provide a mobile phone terminal that can be set, by utilizing an existing interface adopting the W-CDMA system, to a state which does not give adverse effects on surrounding electronic apparatuses by a radio wave that the mobile phone terminal transmits and in which only a function unattended with communication can be used.例文帳に追加

送出される電波により周囲の電子機器に悪影響を与えず通信を伴わない機能のみが利用可能な状態に、Ｗ−ＣＤＭＡ方式の既存のインタフェースを利用して設定可能な携帯電話端末を提供する。 - 特許庁

The harmful light W inner-reflected by the non-parallel surface 30b with an angle similar to the normal reflection angle is totally inner-reflected by the curved surface in the effective diameter area of the second lens 21, and then, prevented from advancing to an imaging element 8, accordingly, the occurrence of the ghost or flare is suppressed.例文帳に追加

非平行面３０ｂで正反射に近い角度で内面反射した有害光Ｗは、第二レンズ２１の有効径エリアの曲面で内面全反射して撮像素子８には向かわなくなり、ゴーストやフレアの発生が抑えられる。 - 特許庁

This leveling device performs the leveling action as follows: When a leveling start commanding switch 47 is operated on, a delivering motor 11 and a winding motor 22 rotate in positive direction slowly to remove the cloth fell W1 of a woven fabric W away from a swinging range of a reed 16 to the woven fabric side.例文帳に追加

レベリング開始指令スイッチ４７がＯＮ操作されると、送り出しモータ１１及び巻き取りモータ２２が所定量スロー正転し、織布Ｗの織前Ｗ１が筬１６の揺動範囲から織布Ｗ側へ遠ざけられる。 - 特許庁

This continuous rice cooker 1 of a heating cooker is equipped with a first conveyor 11 to convey a heated matter W in the conveying direction X, gas burner units 35_1, 35_2,..., 35_10 arranged via gaps along the conveying direction X, and a lighting means 63 to light burner units.例文帳に追加

加熱調理装置である連続式炊飯装置１は、被加熱物Ｗを搬送方向Ｘに搬送する第１コンベヤ11と、搬送方向Ｘに沿って間隙を介して並んだガスバーナユニット35_1，35_2…，35_10と、火移しを行う火移し手段63とを備える。 - 特許庁

The hanger connector B can move straight forward only in the direction of the insertion of the connecting screw shaft 12 put on the hang roller C, and the hanger connector B can be screwed to the connecting screw shaft 12 with self-weight W of the sliding door A.例文帳に追加

前記ハンガー連結具Ｂは、前記ハングローラＣに装着された連結用螺子軸１２の挿入方向のみ直進自在とし、前記引戸Ａの自重Ｗにて、前記ハンガー連結具Ｂは前記連結用螺子軸１２と螺合自在とすること。 - 特許庁

Therefore, when a length (d) of the valid region 24 held between both the terminal parts is 0.4 μm, width(w) is 0.6 μm, the fuse element can be made smaller than L/S=1.2 μm/0.8 μm of a minimum pattern rule specified in patterning ability.例文帳に追加

このため、両端部に挟まれた実効領域２４の長さｄを０．４μｍとし、その幅ｗを０．６μｍとして、パターニング実力に規定された最小パターンルールのＬ／Ｓ＝１．２μｍ／０．８μｍより小さくすることが可能になる。 - 特許庁

When burnishing is applied to a round chamfering part Q of a work W by using a roller attachment 12 provided with a burnishing roller 16, moving locus data D1 of the burnishing roller 16 to follow the curvature of the round chamfering part Q is set in advance.例文帳に追加

バニシングローラ１６を備えたローラアタッチメント１２を用いてワークＷのアール面取り部Ｑへバニシング加工を施すに際し、そのアール面取り部Ｑの曲率に倣うようなバニシングローラ１６の移動軌跡データＤ１を予め設定しておく。 - 特許庁

A bluetooth hopping pattern setting part 117 sets a selection order of channels in which mutual modulation distortion to be generated by a signal of a W-CDMA communication system and a signal of each channel of bluetooth does not interfere with a reception frequency of a GPS.例文帳に追加

ブルートゥースホッピングパタン設定部１１７は、Ｗ−ＣＤＭＡ通信方式の信号とブルートゥースの各チャネルの信号とにより生ずる相互変調歪みが、ＧＰＳの受信周波数と干渉しないチャネルの選択順序を設定する。 - 特許庁

Meandering axial routing lines 11 consisting of routing lines extending in an axial direction are formed between a U-phase unit coil 10U and a V-phase unit coil 10V and between the V-phase unit coil 10V and a W-phase unit coil 10W.例文帳に追加

Ｕ相単位コイル１０Ｕ−Ｖ相単位コイル１０Ｖ間およびＶ相単位コイル１０Ｖ−Ｗ相単位コイル１０Ｗ間には，軸方向に延びる引き回し線からなるミアンダ形状の軸方向引き回し線１１が形成されている。 - 特許庁

The workpiece W is received from the processing machine 1 and conveyed by the upstream side conveying machine 21 kept in the inclined posture, and the upstream side conveying machine 21 is returned to the horizontal posture after a rear end of the workpiece is discharged from the processing machine 1.例文帳に追加

傾斜姿勢に保持した状態の上流側搬送機２１によって、ワーク加工機１からワークＷを受け取って搬送するとともに、ワーク後端がワーク加工機１から排出された後、上流側搬送機２１を水平姿勢に戻す。 - 特許庁

At the time, in the case of judging that it is off the lightable range of an internal infrared lighting device on the basis of the information of focus data, panning and tilting, an external infrared lighting device 15 is lighted, and monitoring of the monitoring object W is continued.例文帳に追加

このとき、ピントデータ、パンニング、チルティングの情報を基に、内部赤外照明装置の照明可能範囲から外れたと判断した場合に、外部赤外照明装置１５を点灯し移動する監視物Ｗに対して監視を続ける。 - 特許庁

A grinding wheel G to be rotatively driven is provided on a head end of a projected part 15b of a wheel spindle stock 15 guided and supported in the direction toward a workpiece W and to be reciprocation driven by a feeding motor 16, and a grinding part of the workpiece is cooled by a coolant.例文帳に追加

工作物Ｗに向かう方向に案内支持されて送りモータ１６により往復駆動される砥石台１５の突出部１５ｂの先端に回転駆動される砥石車Ｇを設け、工作物の研削部をクーラントにより冷却する。 - 特許庁

A terminal recognition section 40 recognizes the control unit side terminal to be electrically connected to a motor side U terminal 11, a motor side V terminal 12 and a motor side W terminal 13 in a first to a third control unit side terminals 34 to 36 based on the read information.例文帳に追加

読み取った情報に基づいて端子認識部４０が第１〜３の制御装置側端子３４〜３６のうち、モータ側Ｕ端子１１、モータ側Ｖ端子１２、モータ側Ｗ端子１３に電気的に接続されるものを認識する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a high reliability that can improve a step coverage property of an upper conductive layer (metal wiring) by performing an etchback or an Ar sputter etch on the entire surface of the interlayer insulating film again after a W plug is formed in a contact hole.例文帳に追加

コンタクトホールへのＷプラグ形成後に、再度、層間絶縁膜全面エッチバック又は、Ａｒスパッタエッチを施すことにより、上層導電層（メタル配線）の段差被覆性の向上を図り得る、信頼性の高い半導体装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, even when transmitted waves of multiple systems become approximately out of phase while diversity transmission is performed in a W-CDMA wireless system, synchronization establishment determination is more adequately performed according to an actual communication propriety state.例文帳に追加

したがって、Ｗ−ＣＤＭＡ無線システムにおいてダイバーシティ送信が行われている際に、複数系統の送信波がほぼ逆位相となるときにも、実際の通信可否状態に応じて、より適確に同期確立判定を行うことが可能となる。 - 特許庁

In this bearing forming at least a part of a slide face by silicon nitride ceramics sintered body containing silicon nitride as a main component, heat conductivity of the silicon nitride ceramics sintered body at normal temperature is 50 W/(m x K) or more.例文帳に追加

窒化ケイ素を主成分とする窒化ケイ素系セラミックス焼結体で摺動面の少なくとも一部を形成した軸受であって、窒化ケイ素系セラミックス焼結体の常温における熱伝導率が５０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The gas atmosphere including 10 to 150 Pa of amino group is converted to the plasma atmosphere with the glow discharge to cause amino group addition reaction on the surfaces of a fluorine resin material W that is placed in the atmosphere including amino groups thereby the surface of the fluorine resin material is made hydrophilic.例文帳に追加

１０〜１５０Ｐａのアミノ基を含むガス雰囲気をグロー放電でプラズマＰ化し、アミノ基を含むガス雰囲気中に載置したフッ素系樹脂材Ｗの表面にアミノ基付加反応を起こさせ、フッ素系樹脂材の表面を親水化する。 - 特許庁

A protective film 1 having the width and the length not less than the diameter of a wheel W and an adhesive 12 on a back side thereof can be obtained by feeding a roll 10, and being irradiated with laser beams B in a predetermined pattern by a laser beam irradiation machine 2, and cut.例文帳に追加

ホイールＷの直径以上の幅と長さを持ち裏面に粘着剤１２を有する保護フィルム１は、ロール１０が送り出されてレーザー照射機２によりレーザービームＢが所定のパターンで照射されて切断されることで得られる。 - 特許庁

This tray is one for setting an insulator in the heating process of manufacturing a spark plug, and the tray is made of a ceramic sintered material which has a thermal conductivity at ambient temperature of not smaller than 30 W/(m×K).例文帳に追加

スパークプラグを製造する際の加熱工程で碍子をセットするのに用いるトレイであって、トレイがセラミックス焼結体で形成され、該セラミックス焼結体の常温における熱伝導率が３０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The filling process of filling the powdered resin R to the upper end face even position of the second powder container 30 and the dipping process of dipping the object W into the powdered resin R filled in the second powder container 30 are repeatedly carried out.例文帳に追加

また、第２粉体槽３０の上端面すり切り位置まで粉体樹脂Ｒを充填する充填工程と、対象物Ｗを第２粉体槽３０に充填された粉体樹脂Ｒに浸漬させる浸漬工程とを繰り返し行う。 - 特許庁

Furthermore, the ion gun 2 has an ion deflection part 23 which deflects ion beams I out of the ion beam I extracted from the plasma source 21 to the extraction electrode 22 and light emitted together with the ion beams I from the plasma source 21, in the direction of the processed object W.例文帳に追加

更にイオン銃２は、プラズマ源２１から引き出し電極２２に引き出されたイオンビームＩ、及びプラズマ源２１からイオンビームＩと共に放射された光のうち、イオンビームＩを被加工物Ｗの方向に偏向するイオン偏向部２３を有する。 - 特許庁

After the substrate W, carrying the SiO2 pattern layer, is set in a first deposition unit 12 via a transporting device 10, a Ti layer is formed on the pattern layer and a contact layer is formed, by silicifying the Ti layer through irradiating of the Ti layer with a laser beam.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2パターン層を形成した基板Ｗを、搬送装置１０を介して第１成膜ユニット１２中にセットし、基板ＷのＳｉＯ_2パターン層上に、Ｔｉ層を形成し、レーザ照射によってシリサイド化してコンタクト層とする。 - 特許庁

When a developing treatment is performed, the horizontal nozzle arm 76 moves vertically in horizontal direction (arrow F direction), and the horizontal nozzle arm 76 carries a developing nozzle 70 from a nozzle standby part 78 to the position located above a semiconductor wafer W.例文帳に追加

現像処理が行われるとき、水平ノズルアーム７６はその軸方向に垂直な水平方向（矢印Ｆの方向）に移動して、現像液ノズル７０をノズル待機部７８から半導体ウエハＷの上方の位置まで運ぶようになっている。 - 特許庁

The field surface part A is equipped with a plurality of seeding sleighs 60 side by side having groove formation parts 51 for forming seeding grooves and a seed guiding part 55 for guiding the seeds W from the seed feeding part 3 toward the seeding grooves in the length direction of the machine body 5.例文帳に追加

圃場面部Ａに播種溝を形成する溝形成部51および播種溝内に向けて種子繰出部３からの種子Ｗを案内する種子案内部55を有する複数の播種用そり60を機体５の長手方向に沿って並設する。 - 特許庁

An inner member 2 of the substrate-storing structure 1 has a slot-like supporting portion formed into a substantially cylindrical outer shape and having supporting a plurality of disk-like semiconductor wafers W (or dummy wafers) in its inside like shelves installed at an interval.例文帳に追加

基板収容機構１の内側部材２は、外形が略半円筒状に構成されており、その内部に複数枚の円板状の半導体ウエハＷ（又はダミーウエハ）を、間隔を設けて棚状に支持するスロット状の支持部を有している。 - 特許庁

To enhance and stabilize an amount of polishing and working accuracy by automatically correcting working conditions in the polishing working device using the chemo-mechanical polishing method for a wafer W, and object to be polished.例文帳に追加

被研磨対象物であるウェハＷの化学的機械研磨法を用いた研磨加工装置において、加工条件を自動的に補正でき、研磨量および加工精度を向上化および安定化することができる研磨加工装置を提供する。 - 特許庁

Provided is a billet size measuring method for measuring the width or diameter W of a billet 1 and the length L of the billet 1, respectively, while conveying the billet 1, in a state where vertical minute vibrations propagate to the billet 1.例文帳に追加

本発明のビレットの寸法測定方法は、ビレット１に上下方向の微小振動が伝播する状態において、ビレット１を搬送しつつ、ビレット１の幅又は直径Ｗ、及び前記ビレット１の長さＬを、それぞれ測定する方法である。 - 特許庁

A placing table 2 is provided to hold a semiconductor wafer W as a substrate to be treated in a vacuum chamber 1, and an electron beam irradiation mechanism 6 is provided on the ceiling of the vacuum chamber 1 to produce an electron beam EB.例文帳に追加

真空チャンバ１の内部には、被処理基板としての半導体ウエハＷを支持する載置台２が設けられており、真空チャンバ１の天井部には、エレクトロンビームＥＢを発生させるためのエレクトロンビーム照射機構６が設けられている。 - 特許庁

To provide a base station having an array antenna system wherein antenna directivity can be so corrected that communication quality of a mobile station becomes maximum when the base station forms a down beam, in a mobile communication system using W-CDMA.例文帳に追加

Ｗ−ＣＤＭＡを用いた移動通信システムにて、基地局が下りビームを形成するに当たり、移動局の通信品質が最大となるようにアンテナ指向性を修正できる、アレーアンテナシステムを有する基地局を提供することを目的とする。 - 特許庁

Next, the wafer W where the insulating film 261 is formed is exposed in a mixed gas of an ammonia gas and a hydrogen fluroride gas under predetermined pressure, and a product degenerated from SiO_2 forming the insulating film 261 is heated at a predetermined temperature.例文帳に追加

そして、絶縁膜２６１が形成されたウエハＷをアンモニアガス及び弗化水素ガスの混合気体に所定の圧力下において暴露し、絶縁膜２６１を形成するＳｉＯ_２から変質した生成物を所定の温度に加熱する。 - 特許庁

To prevent breakage of a ceramic narrow tube in a laser sealing process for performing frit sealing on a feed conductor carrying a W electrode, at a pair of opening ends of ceramic narrow tubes joined to both end of a main tube of a discharge tube made of ceramic materials.例文帳に追加

セラミック材料からなる放電本管部の両端に接合された一対のセラミック細管部の開口端部に、Ｗ電極を保持した給電体をフリット封着するためのレーザ封着工程におけるセラミック細管部の破損を抑制する。 - 特許庁

In the method for laminating a silicon oxide film 1-1 and a silicon nitride film 2-1 which laminates the silicon oxide film 1-1 and the silicon nitride film 2-1 on a substrate W, a boron is added to a gas forming the silicon nitride film 2.例文帳に追加

基板Ｗ上に、シリコン酸化物膜１−１とシリコン窒化物膜２−１とを積層するシリコン酸化物膜１−１及びシリコン窒化物膜２−１の積層方法であって、シリコン窒化物膜２を成膜するガス中に、ボロンを添加する。 - 特許庁

By supplying hot water into a back fluid supply pipe 26 via a valve 40d, the hot water is supplied toward the back of the substrate W held by a spin chuck 21 from a plurality of fluid flow outlets in a fluid umbrella nozzle 27.例文帳に追加

裏面流体供給管２６内にバルブ４０ｄを介して温水を供給することにより、流体傘ノズル２７の複数の流体噴出口から当該温水をスピンチャック２１に保持された基板Ｗの裏面に向けて供給する。 - 特許庁

To provide a detergent composition which is capable of efficiently cleaning a manufacturing apparatus and the like in industrial fields such as medicines, cosmetics, foods and food additives which use a W/O emulsion blended with a fatty acid glycerin ester.例文帳に追加

グリセリン脂肪酸エステルが配合されたＷ／Ｏエマルジョンを使用している医薬品、化粧品、食品および食品添加物などの各産業分野で、製造装置などを効率よく洗浄できる洗浄剤組成物を提供すること。 - 特許庁

An epitaxial growth device 10A of a sheet form type processes semiconductor wafers or silicon wafers W sheet by sheet and is equipped with a processing chamber 12 of quartz glass and a wafer support susceptor 14A arranged in the processing chamber 12.例文帳に追加

エピタキシャル成長装置１０Ａは半導体ウェハであるシリコンウェハＷを一枚ずつ処理する枚葉式であり、例えば石英ガラスで構成された処理チャンバ１２と、この処理チャンバ１２内に配置されたウェハ支持用のサセプタ１４Ａとを備えている。 - 特許庁

To effectively utilize an H/W resource for tracking processing of an important target such as an aircraft not clear in belong about self and others and a small aircraft, by lightening tracking processing for an unimportant civil aircraft, an aircraft having a mode 2 and a large aircraft of low mobility.例文帳に追加

重要度の低い民間機やモード２を持つ航空機や機動性の低い大型機の追尾処理を軽減することで、Ｈ／Ｗリソースを彼我不明機や小型機などの重要な目標の追尾処理に対して有効に活用する。 - 特許庁

Then a correction value for correcting a rotation termination position of the pallet 1 is calculated based on the coordinate locations, and the pallet 1 is rotated again to correct the rotation termination position, followed by boring a second axial hole H_2 in the workpiece W.例文帳に追加

そして、これらの各座標位置に基づいてパレット１の回転停止位置を補正する補正値を算出し、その補正値を用いてパレット１を再度回転移動させて回転停止位置を補正した後にワークＷに第２軸孔Ｈ_２を穿設する。 - 特許庁

The width of the toner discharging port 61 of a pipe terminating part 52 in this waste toner recovering device 1 is set to be an opening horizontal width W lest the outermost peripheral part 54a of a coil auger 54 projects from the outermost peripheral surface 52c of a pipe 52 through the port 61.例文帳に追加

廃トナー回収装置１におけるパイプ終端部５２のトナー排出口６１を、コイルオーガー５４の最外周部５４ａがその排出口６１を通してパイプ５２の最外周面５２ｃから突出しない開口横幅Ｗに設定した。 - 特許庁

Moreover, in contact with the rear side 14b of the water W invasion side 14a of the water stop member 14, a deterrent member 16 for deterrenting the compressive deformation of the rear side 14b of the water stop member 14 is adhered to the top surface of the lower precast member 5.例文帳に追加

更に、該止水材１４に対して水Ｗの侵入側１４ａの背面側１４ｂに当接させて、該止水材１４の背面側１４ｂの圧縮変形を抑止する抑止材１６を下部の該プレキャスト部材５の上面に貼着する - 特許庁