W-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 11340件
DIW discharged from the DIW discharge ports 21 is mixed with nitrogen gas and become droplets, form a strip of droplet groups expanded in the longitudinal direction X1 and the short side direction Y1, and is supplied onto the surface of the wafer W.例文帳に追加
DIW吐出口21から吐出されたDIWは、窒素ガスと混合されて液滴となり、長手方向X1および短手方向Y1に広がる帯状の液滴群となってウエハWの表面に供給される。 - 特許庁
With this, the substrate W need not be contained in a vacuum vessel, and can be put under plasma treatment while it is conveyed along the conveying channel C to improve treatment efficiency.例文帳に追加
これにより、基板Wを真空容器に収容する必要がなく、基板Wを搬送する搬送経路Cに沿って搬送しながら基板Wに対してプラズマ処理を施すことができ、処理効率を向上させることができる。 - 特許庁
By using gas pressure supplied from the gas pressure supplying means, the developer supplied and stored in the nozzle 14 by the developer supplying means 18, 21, 24 is jeted from the nozzle holes 16 and dropped on the wafer W surface.例文帳に追加
ガス圧供給手段により供給されるガス圧を利用して、現像液供給手段によりノズル14内に供給されて溜められた現像液をノズル孔16から吐出してウェハWの表面上に滴下する。 - 特許庁
The Cu alloy for the heat spreader has (100 to 200) N/mm^2 0.2% proof stress, ≥350 W/m.K thermal conductivity, 0.14 to 0.18 work hardening index and ≤25 μm grain size in a width direction of a rolled surface sheet.例文帳に追加
ヒートスプレッダ用Cu基合金は、0.2%耐力が100〜200N/mm^2、熱伝導率が350W/m・K以上、加工硬化指数が0.14〜0.18、圧延表面板の幅方向の結晶粒径が25μm以下である。 - 特許庁
The handle body 12 is provided with a boss part 13a which is protruded in a direction nonparallel to the pull-out direction of a wire harness W connected with the transmitting antenna 21 and the like, so as to connect the handle body 12 and the handle body 13 together.例文帳に追加
ハンドル本体12には、送信アンテナ21等と接続されたワイヤハーネスWの引き出し方向と平行ではない方向に突出してハンドル本体12及びハンドルカバー13を結合するボス部13aが設けられている。 - 特許庁
Thus, the accumulation of the cleaning solution W in between the closing position of the drainage vertical pipe 14 and the cleaning port 12x enables sonic cleaning of the vertical drainage pipe 14, a drainage pipe joint 12, and drainage horizontal branch pipes 16, 17.例文帳に追加
このため、排水立て管14の閉鎖部位から掃除口12xまでの間に洗浄液Wを溜めて排水立て管14、排水管継手12及び排水横枝管16,17を音波洗浄できるようになる。 - 特許庁
The metal is selected from among W, Ti, Zr, Ta, Mo, Nb, Hf, VCu, Co, Cr, Ni, Mn, Pt, Rh, Ir, Pd, etc., and the percentage composition of the metal and the germanium or the germanium - silicon compound is adjusted to 1:1 to 1:3 in molar ratio.例文帳に追加
前記金属としては、W、Ti、Zr、Ta、Mo、Nb、Hf、VCu、Co、Cr、Ni、Mn、Pt、Rh、Ir、Pdなどから選ばれ、金属とゲルマニウム、あるいは金属とゲルマニウム−シリコン化合物との組成比がモル比で1:1〜1:3の範囲である。 - 特許庁
A rotary tool 7 is lowered while rotated and then, a to-be-joined part of the workpiece W is held between the rotary tool 7 and a receiving member 8 and pressed in the rotary axis direction from the first steel plate W1a side.例文帳に追加
回転ツール7を回転させながら下降させ、回転ツール7と受け部材8とでワークWの被接合部を挟み込むと共に被接合部を第1鋼板W1a側の面から回転軸心方向に押圧する。 - 特許庁
To provide a joining member having an excellent adhesion in which a defect harmful to the heat conductivity is eliminated and a practically sufficient joining strength is provided at the joined zone where such different kind of material as W and Cu or Ni whose heat expansion coefficients are largely different are joined.例文帳に追加
WとCuやNiのように、熱膨張係数の差が大きい異種材料において接合部で熱伝導性有害な欠陥のない密着性に優れ、実用十分な接合強度を有する接合体を提供する。 - 特許庁
The distance between the antenna 68 and the IC tag 86 is set to about 3 mm in the state where the upper lid part 80a is assembled to the lower lid part 80c, and the R/W unit regularly polls the IC tag 86 through the antenna 68.例文帳に追加
このアンテナ68とICタグ86との距離は、上蓋部80aと下蓋部80cを組み付けた状態で約3mmに配置され、R/Wユニットがアンテナ68を介してICタグ86を常時ポーリングする。 - 特許庁
By the constitution, waves W rushed from the open sea A enter the inside of the retarding room 23 through the slit-like openings 22, and because of damping in that process, impact caused by colliding with waves is eased and, at the same time, reflected waves are also reduced.例文帳に追加
外海Aから押し寄せる波浪Wはスリット状開口部22を通じて遊水室23に出入りし、その過程で減衰を受けるので、波の衝突による衝撃が緩和されると共に、反射波も有効に低減される。 - 特許庁
More preferably, the inorganic filler 1 is a scale-shaped boron nitride having ≥50 W/m×K heat conductivity, and is contained so as to occupy 10-60 vol.% in the volume of the total of the solid component of the thermosetting resin and the inorganic filler 1.例文帳に追加
さらに好ましくは、無機フィラ1が、熱伝導率50W/m・K以上である鱗片状の窒化ホウ素であり、熱硬化性樹脂固形分と無機フィラ1を合わせた体積中に10〜60体積%占めるように含有される。 - 特許庁
An electrode 15 for supplying power to the wafer W is constituted of a base unit 15A, consisting of a member having rubber hardness of less than 90 in the rubber hardness as stipulated by JIS K6253, and a conductive layer 15B provided on the surface of the base unit and having an electric resistance of less than 100 Ω.例文帳に追加
ウェーハWに給電する電極15が、JIS K6253で規定されるゴム硬度90以下の部材よりなる基部15Aと、基部の表面に設けられる電気抵抗が100Ω以下の導電層15Bよりなる。 - 特許庁
When the rigidity of the tube 11 is increased in the above-mentioned way, the bending of the tube 11 at the outlet section 14 of the protector 13 is prevented when the wire harness W/H sheathed with the tube 11 is wired on a car body P side.例文帳に追加
このようにすることで、第1コルゲートチューブ11を外装したワイヤハーネスW/Hを車体P側へ配策する際に、第1コルゲートチューブ11がプロテクタ14の出口部14で屈曲することを防止している。 - 特許庁
The device is provided with a wall fixing member 1 which is fixed on a wall face W, a panel fixing member 2 in which a display panel P is installed on its front face side, and a movable connection means 3 which connects the wall fixing member 1 and the panel fixing member 2.例文帳に追加
壁面Wに固定される壁固定部材1と、前面側に表示パネルPが設置されるパネル取付用部材2と、壁固定部材1とパネル取付用部材2とを連結する可動連結手段3と、を備える。 - 特許庁
Then water W flowing in the ground from the external region 18 to the water cutoff region 17 is collected inside the vertical draining members 19 to flow downward, and drained outward of the water cutoff region 17.例文帳に追加
外部領域18から遮水領域17に向かうよう地中を流れる水Wが、縦向き排水材19の内部に集水されて流下し、この水Wが遮水領域17の外部に向けて排水されるようにする。 - 特許庁
A resistor R3 serving as a voltage clamp element is connected in parallel with switching circuits 1 and 10, and a power supply voltage V1 of the switching circuit 1 is set higher than a pulse voltage to be applied between an electrode E and a pole of an object W to be machined.例文帳に追加
スイッチング回路1,10と並列に電圧クランプ素子である抵抗器R3を接続して、スイッチング回路1の電源電圧V1を電極Eと被加工物Wの極間に印加するパルス電圧より高めに設定する。 - 特許庁
In the semiconductor device 10 having the bonding pad 20 for external connection, the bonding pad 20 comprises electrically conductive films 23, 24 to be connected to the bonding wire W, and a support film 22 formed under the conductive films 23, 24.例文帳に追加
外部接続用のボンディングパッド20を有する半導体素子10であって、ボンディングパッド20が、ボンディングワイヤWを接続する導電性膜23,24と、導電性膜23,24の下に形成された支持膜22とを有する。 - 特許庁
The start position Ps is determined to place any boundary of the scanning region As in a gap region Av on the basis of the prescribed width w and the gap end distance La and the gap width Ld of the gap region Av.例文帳に追加
開始位置Psは、所定幅w、並びに、間隙領域Avの間隙端距離La及び間隙幅Ldに基づいて、走査領域Asの境界のいずれかが間隙領域Avに位置するように決定される。 - 特許庁
A fat quantity calculating means calculates the strength F of the fat signal and the strength W of a water signal in the abdominal part of the subject, substitutes the same for the relational expression, and thereby calculates the quantitative quantity value H of the fat of the subject (step S17).例文帳に追加
脂肪量算出手段は、被検体の腹部の脂肪信号の強度Fと水信号の強度Wとを算出し、関係式に代入することにより、被検体の脂肪の定量値Hを算出する(ステップS17)。 - 特許庁
A frame 52 with a window frame shape building in a plurality of LEDs (light emitting diodes) 53 on an inner periphery is attached on a wall face W of the bathroom, and a diffuser sheet 56 for light diffusion is arranged on an inner bathroom side of the frame 52.例文帳に追加
内周に複数のLED(発光ダイオード)53を組み込んだ窓枠状の枠体52を浴室の壁面Wに取り付けて、前記枠体52の浴室内側に光拡散用の拡散板体56を配設したことである。 - 特許庁
A line controller 35 controls a work carry-in device 9, takes out unworked works W on a palette Pw where the works are loaded one by one, carries them into the plate material working machine 1 and controls the inputted working schedule SH.例文帳に追加
ラインコントローラ35はワーク搬入装置9を制御しワークWを積載したパレットPwの上の未加工ワークWを一枚ずつ取り出して板材加工機1へ搬入し、入力した加工スケジュールSHを制御する。 - 特許庁
In an engine 21 comprising the crank shaft 31, a cylinder axis C2 is offset relative to the crank axis C1, and the center of gravity position W of the whole of each of the crank weight parts 77 is offset toward a cylinder axis C2 side when a piston reaches the top dead center.例文帳に追加
クランクシャフト31を備えたエンジン21は、シリンダ軸線C2がクランク軸線C1に対してオフセットし、各クランクウェイト部77全体の重心位置Wは、ピストン上死点時にシリンダ軸線C2側にオフセットする。 - 特許庁
This method detects the size of the stuck region, controls the lifting force Fn and the lifting force Ft such that the size of the stuck region is held at a given value, and lifts the object without crushing the object W in the hand and slipping it down.例文帳に追加
これにより固着領域の大きさが検出でき、固着領域の大きさが所定値に保持されるように把持力Fn、持ち上げ力Ftを制御し、物体Wを握りつぶすことなく、滑り落とすことなく持ち上げる。 - 特許庁
The composited image is converted numerically by Zernike polynomial in a Zernike calculation part 23, and concentric components therein are outputted to a determination part 24, and are compared with a threshold set beforehand, to thereby determine the presence of defects of the wafer W.例文帳に追加
合成画像は,ゼルニケ演算部23においてゼルニケ多項式によって数値化され,そのうちの同心円成分が判定部24に出力され,予め設定したしきい値と比較されて,ウエハWの欠陥の有無が判断される。 - 特許庁
In the heating pattern 31, the sum total of the curvature diameters R1-R3 of the center lines of a plurality of the folded back conductor parts 312 is larger than the whole width W of the pattern between the mutual center lines of the linear conductor parts 311.例文帳に追加
発熱用パターン31においては、複数の折返し導体部312の中心線の曲率直径R1〜R3の総和が、直線導体部311の中心線同士の間のパターン全幅Wよりも大きくなっている。 - 特許庁
This enables the process of giving tension to the vertical wall portion Wb of the product configuration to be performed continuously in the state where the workpiece W is formed to the required product configuration by the vertical wall forming surfaces of a cope 1 and a drag 2.例文帳に追加
よって、上型1および下型2の縦壁成形面でワークWを必要な製品形状に成形した状態で、製品形状の縦壁部Wbに張力を付与する工程を、連続的に行うことが可能となる - 特許庁
The elevators 7, 9 are liftable and horizontally movable, descends for every stage stacking of the articles W, and has article support bodies 6, 8 for delivering the articles in the set number of stages to the article carry-out means upon reaching the set number of stages.例文帳に追加
エレベータ7,9は、昇降可能でかつ水平移動可能であり、物品Wの段積み毎に下降し、設定段数になるとこの設定段数の物品を物品搬出手段に渡す物品支持体6,8を有する。 - 特許庁
In assembly of a brake cable 101, a washer W pressed onto the inclined surfaces 94s, 94t by a lever return spring SP4 starts moving along the inclined surfaces 94s, 94t after a cable end 103 passes through a wide groove part.例文帳に追加
ブレーキケーブル101の組付時には、ケーブルエンド103が幅広溝部を通過し終えると、レバーリターンスプリングSP4によって傾斜面94s,94tに押し付けられたワッシャWが、傾斜面94s,94tに沿って移動し始める。 - 特許庁
Therefore, even if there are variations in the height of the electronic component W2 mounted on the substrate W1, the height of the plasma generating nozzles to the workpiece W is maintained and plasma irradiation can be carried out with a uniform density.例文帳に追加
したがって、基板W1に実装される電子部品W2の高さにばらつきがあるなどしても、ワークWに対するプラズマ発生ノズルの高さを一定に維持し、均一な密度でプラズマ照射を行うことができる。 - 特許庁
Since the width dimension A of the conveying guide extending in a width direction orthogonal to a paper conveying direction is set shorter than the dimension of the maximum paper width W of the paper, it is unnecessary to increase the scale of the image forming apparatus 10.例文帳に追加
搬送ガイド56の用紙搬送方向に対して直交する幅方向に延びる幅寸法Aは、用紙の最大紙幅Wの寸法よりも短く設定されているため、画像形成装置10を大型化させる必要がない。 - 特許庁
The quality of the surface of the silicon wafer W (silicon single- crystal layer) can be improved by heat-treating the silicon wafer at temperature of 600°C or higher and less than 950°C in an atmospheric gas consisting of hydrogen gas, an inert gas or a mixed gas thereof.例文帳に追加
シリコンウェーハW(シリコン単結晶層)を水素ガスまたは不活性ガスもしくはこれらの混合ガスからなる雰囲気ガス中で、600°C以上950°C未満の温度で熱処理して、表面の品質を改善する。 - 特許庁
At supplying of a developer, the rotor is rotated, and also the supply of a developer is performed from the discharge port, and in such a condition, that the supply nozzle is shifted, whereby a liquid film is formed over the entire surface of the wafer W.例文帳に追加
現像液供給時には、回転体を回転させると共に吐出孔から現像液の供給を行い、係る状態で供給ノズルを移動させることでウエハWの表面全体に液膜が形成される。 - 特許庁
The separating and cleaning apparatus is constituted in such a way that a wafer material 1 is fixed and bonded to a block B, that the wafer blank 1 is sliced to form each waferlike work W and that respective wafers 2 formed by its slicing operation are separated from each other by a separation means 5 so as to be cleaned.例文帳に追加
ウエハ素材1をブロックBに固着し、上記ウエハ素材1をスライスしてウエハ状ワークWと成し、上記スライスにより形成した各ウエハ2を分離手段5により相互に分離して洗浄するように構成する。 - 特許庁
To accelerate a spreading code arrangement pattern specification calculation by reducing useless integration processing about a spreading code arrangement pattern specifying method in cell search processing of a W-CDMA mobile communication system, a receiving unit and a mobile station.例文帳に追加
W−CDMA移動通信方式のセルサーチ処理における拡散コード配置パターン特定方法、受信ユニット及び移動局に関し、無駄な積分処理を削減し、拡散コード配置パターン特定演算を高速化する。 - 特許庁
The cover plate 1 is constituted of a body section 3 and an extension section 4, one surface thereof is opposed to the wall surface W of a building to be protected in a developed state to cover the surface, and it is folded into two parts when it is not used.例文帳に追加
覆板部1は、本体部3と、延長部4とからなり、展開した状態で、その一面を保護すべき建物の壁面Wに向き合わせてその表面を覆い、不使用時には2つ折りに折り畳まれる。 - 特許庁
The heat conductivity of the second silicone rubber cured matter layer is 0.20 W/mK or above, the type A hardness thereof in a JIS K 6253 durometer hardness test is 20 or above and the center line average roughness Ra of the surface thereof is 0.4-10.0 μm.例文帳に追加
前記第二のシリコーンゴム硬化物層の熱伝導率が0.20W/mK以上、JIS K 6253 デュロメーター硬さ試験 タイプA硬度が20以上、表面の中心線平均粗さRaが0.4〜10.0μmである。 - 特許庁
A liquid processing apparatus processes the object to be processed W including a body part W_i and a plurality of projecting-shape parts W_m disposed on the body part W_i, with the inorganic film and a different film different in property from the inorganic film being laminated to each other.例文帳に追加
液処理装置は、本体部W_iと、本体部W_iに設けられた複数の凸形状部W_mとを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体Wを処理する。 - 特許庁
Simultaneously, compressed air (a) is supplied from the compressed air supply pipe 424 of an air gun 42, bubbles are formed in the cleaning water (w), and cleaning effects of the ink chamber 20 are enhanced by a bubble stirring operation and a turbulent flow forming action.例文帳に追加
同時にエアガン42の圧縮空気供給管424から圧縮空気aを供給し、洗浄水wに気泡を形成させ、気泡の攪拌作用及び乱流形成作用によりインキチャンバ20の洗浄効果を向上させる。 - 特許庁
The first interphase insulative part 34 of a first interphase insulative sheet 37 and the second interphase insulative part 35 of a second interphase insulative sheet 39 are thermally fused together in a place corresponding to the second coil end of a W-phase winding 25W.例文帳に追加
第1相間絶縁シート37の第1相間絶縁部34と第2相間絶縁シート39の第2相間絶縁部35とは、W相巻線25Wの第2コイルエンドに対応する箇所で熱溶着されている。 - 特許庁
A lower edge of the reflection member 25 is inclined inward, and an electromagnetic wave radiated downward in the vertical direction from an arbitrary heating lamp 20 of the upper lamp group 20G is reflected by an inclined surface 25a to be guided to an edge P of the wafer W.例文帳に追加
反射部材25の下端部は内側に傾斜しており、上部ランプ群20Gの任意の加熱用ランプ20から真下方向に輻射された電磁波は、傾斜面25aで反射してウェーハWの端部Pに導かれる。 - 特許庁
In outer dimensions of an eccentric shaft 29B, a dimension H of a portion parallel to an eccentric direction D1 is controlled to be smaller than a dimension W of a direction perpendicular to the eccentric direction D1 and to an axial direction of the eccentric shaft 29B.例文帳に追加
偏心軸29Bの外形寸法のうち、径方向D1と平行な部位の寸法Hを偏心方向D1及び偏心軸29Bの軸線方向D2と直交する方向の寸法Wよりも小さくする。 - 特許庁
In the lower die 110, the trimming part 121 is energized upward by bringing a cushion part 140 into contact with the guide post 123 of the trimming part 121 before the trimming blade 121A is brought into contact with a workpiece W when the upper die 120 is lowered.例文帳に追加
下型110では、クッション部140が、上型120の下降時におけるトリム刃121AのワークWへの当接前にトリム部121のガイドポスト123と当接することにより、トリム部121を上方に付勢する。 - 特許庁
Since a spot welding apparatus 1 is provided with a narrowed section 14 in an electrode 2, an energization region of an electric current is narrowed by the narrowed section 14, so that a nugget diameter L1 of a weld part W is made smaller than an electric diameter L2.例文帳に追加
スポット溶接装置1では、電極2に絞り部14が設けられているため、絞り部14によって電流の通電領域が絞られ、溶接部Wのナゲット径L1を電極径L2よりも小さくすることができる。 - 特許庁
An acceleration tube 35 that synchronously injects the dry ice snow W and the compressed air Y that are mixed in the mixture chamber 22 of the nozzle body 21 from a discharge port 38 is attached to the injection passage 25 side of the nozzle body 21.例文帳に追加
さらに、前記ノズル本体21の噴射路25側に、前記ノズル本体21の混合室22で混合したドライアイススノーWと圧縮エアYとを吐出口38から同時に噴射させる加速管35を取付けてある。 - 特許庁
The heat-conductive sheet 1 comprising plate-like boron nitride particles 2 has a coefficient of thermoconductivity of ≥4 W/m K in the plane direction SD of the heat-conductive sheet 1, and volume resistivity R of ≥1×10^10 Ω cm.例文帳に追加
板状の窒化ホウ素粒子2を含有する熱伝導性シート1であって、熱伝導性シート1の面方向SDの熱伝導率が、4W/m・K以上であり、体積抵抗Rが、1×10^10Ω・cm以上である。 - 特許庁
To provide a bubble-forming aerosol composition for a human body, in which a creamy O/W emulsion is used as a undiluted solution (emulsion) and stable, suitable bubbles can be formed without being affected by the temperature of the working environment.例文帳に追加
クリーム状の水中油型エマルジョンを原液とし、適用されたときに使用環境の温度に影響されることなしに、安定した好適な泡沫を形成することができる人体用泡沫エアゾール組成物を提供すること。 - 特許庁
On the assumption that the delay time of each pulse in an input signal xi has the normal distribution of N(x, 1), a multiplication block 20 calculates a numerical value according to the normal distribution of N(wx, 1) while using a correspondence coefficient (w) of coupling.例文帳に追加
入力信号x_i の各パルスの遅延時間がN(x,1)の正規分布に従うことを前提とし、乗算ブロック20が、対応する結合係数wを用いて、N(wx,1)の正規分布に従う数値を算出する。 - 特許庁
By adhering the adhesive agent layer 17 of the second sheet S2 exposed outside the outer edge of the first sheet S1 to an adhesion object W, the first sheet S1 can be held in a state that the printed letters 10a are concealed.例文帳に追加
そして、第1のシートS1の外縁に表出する第2のシートS2の接着剤層17を被着体Wに接着することで、印字10aを隠蔽した状態で第1のシートS1を保持することができる。 - 特許庁
In the ion bombardment apparatus 1, a heating-type thermionic emission electrode 3 composed of a filament is arranged on one inside surface of a vacuum chamber 2, an anode 4 is arranged on the other inside surface, and the base material W is arranged between the heating-type thermionic emission electrode 3 and the anode 4.例文帳に追加
イオンボンバードメント装置1は、真空チャンバ2の一の内側面に、フィラメントで構成した加熱式の熱電子放出電極3と、他の内側面のアノード4と両者の間に基材Wが配置されている。 - 特許庁
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