「W-In」に関連した英語例文の一覧と使い方(180ページ目) - Weblio英語例文検索

On the other hand, when the total load ratio is in the range of 50%-100%, phase control is performed so that in the condition that the driving power of 600 W is supplied to the secondary side sheath heater, only the driving power of the primary side sheath heater is proportional to the value of total load ratio.例文帳に追加

一方、総負荷率が５０％よりも大きく１００％以下の範囲では、二次側シーズヒータに６００Ｗの駆動電力が供給された状態で、一次側シーズヒータの駆動電力のみが総負荷率の値に対して比例するように位相制御が行われる。 - 特許庁

In the beer surver equipped with a container 10 having a cooling means (cooling water W, ice) of beer built therein and the tap having a sparkling mechanism built therein, the whole of the tap 30 is formed to the container 10 in a detachable manner, for example, by the screw connection of a female screw part 31a and a male screw part 32a.例文帳に追加

ビールの冷却手段（冷却水Ｗ，氷）を内蔵する容器１０と、泡出し機構を内蔵するタップ３０とを具備するビールサーバにおいて、タップ３０全体を、容器１０に対して例えば雌ねじ部３１ａと雄ねじ部３２ａとのねじ結合により着脱可能に形成する。 - 特許庁

An inner wall face of a communication path 30 sectioned in the vacuum gate valve 5 for communication between vacuum spaces in the vacuum containers 1, 2 during opening the valve contains a specular radiation heat reflecting plane A for reflecting radiation heat emitted by the work W passing through the communication path 30.例文帳に追加

開弁時に真空ゲート弁５の内部に区画されかつ真空容器１，２の各内部の真空空間同士を連通する連通路３０の内壁面が、連通路３０を通過するワークＷから放射される輻射熱を反射する鏡面状の輻射熱反射面Ａを有するようにする。 - 特許庁

A water-related facility installing zone Z1 formed by utilizing the outer-peripheral floor board 6 and the inner-peripheral floor board 7 in double levels is set on the common corridor 20 sides of each dwelling unit H, and water-related facilities W are laid out in the water-related facility installing zone Z1.例文帳に追加

そして、各住戸Ｈ内の共用廊下２０側に、段違いの外周床板６と内周床板７を利用して形成した水回り設備設置ゾーンＺ１を設定し、水回り設備Ｗをこの水回り設備設置ゾーンＺ１内でレイアウトする構成とした。 - 特許庁

In a processing method and processing apparatus for a lithographic printing plate, a lithographic printing plate having a photosensitive or thermosensitive layer is processed in a step including development after laser exposure, wherein a developing liquid is heated with a heater having a heater watt density controlled to ≤5 W/cm^2.例文帳に追加

本発明の平版印刷版の処理方法及び処理装置は、感光層又は感熱層を有する平版印刷版をレーザー露光した後、現像を有する工程で処理するものであって、ヒーターワット密度を５Ｗ／ｃｍ^２以下に制御したヒーターで現像液を加温する。 - 特許庁

One ends of outputs of the unit inverters 11, 21, 31 are connected to each other, the output ends of the unit inverters 11-13, the unit inverters 21-23 and the unit inverters 31-33 are connected in series in a plurality of stages to form U-, V- and W-phases of a three-phase inverter.例文帳に追加

単位インバータ１１，２１，３１それぞれの出力の１端を互いに接続すると共に、単位インバータ１１〜１３、単位インバータ２１〜２３、単位インバータ３１〜３３それぞれの出力端を直列多段接続して三相インバータのＵ相、Ｖ相、Ｗ相を形成する。 - 特許庁

First and second stud guns 18, 19 for performing arc welding of stud parts in a predetermined position of the workpiece are provided respectively confronting to both surfaces of the workpiece W in the state that the workpiece is supported with the tool 11 and their positions are independently controlled with first and second stud robots 16, 17.例文帳に追加

前記治具１１に支持された状態の前記ワークＷの両面にそれぞれ対峙して、スタッド部品をワークの予め定めた位置にアーク熔接する第１と第２のタッドガン１８，１９が備えられ、これらは、第１と第２のスタッドロボット１６，１７により独立して位置制御される。 - 特許庁

In addition, it dispenses with a process of depositing the same film as the low reflection film 12 on the surface of the face plate in the film forming device 1 before film forming on the substrate W to be processed; therefore, stable film forming is possible immediately after the face-plate 10 is attached to the reaction container 2.例文帳に追加

また被処理基板Ｗ上への成膜前に、成膜装置１でフェースプレート１０表面に低反射膜１２と同一の膜を堆積させる工程が不要となるため、フェースプレート１０を反応容器２に取り付けた直後から安定して成膜を行うことができる。 - 特許庁

With the upper cover 15 in the state of being mounted on the plate 2, air is evacuated through the upper suction duct 21 and lower suction duct 31 to hold the inside of the process space 12 in a pressure reduced state, thereby accelerating the vaporization of solvents from the resist solution on the substrate W.例文帳に追加

上部カバー１５をプレート２上に載置した状態で上部吸引管路２１および下部吸引管路３１を通して排気することにより処理空間１２内を減圧状態に保持し、基板Ｗ上のレジスト液中からの溶媒の蒸発を促進させる。 - 特許庁

Based on vehicle parameters, parking frame width W, and a distance L to an obstacle, turning-back boundaries R1, R2 in backward parking are calculated, which indicate boundary lines that a vehicle can enter the inside of a target parking frame at one time in backward parking to a target parking frame with the maximum steering wheel turning angle.例文帳に追加

車両パラメータと、駐車枠幅Ｗと、障害物距離Ｌとに基づいて、最大転舵角で目標駐車枠へと後進した際に、目標駐車枠内へと一度に進入することができる境界線を示す後進切返境界Ｒ１，Ｒ２を演算する。 - 特許庁

A structure 6 of a structure in which a void material is comprised of a steel pipe material 3 and the void steel pipes 3 are separated upward from a steel plate 2 with the axes of the void steel pipes 3 in parallel with the flat surface of the steel plate 2 and are integrally joined together by the steel plate 2 and welding W via lattice materials 4 is used.例文帳に追加

ボイド材が鋼管材３からなり、このボイド鋼管３が、鋼板２の平面方向に管軸線方向を向け、鋼板２から上方に離間され、ラチス材４を介して鋼板２と溶接Ｗにより接合一体化された構造の構造物６を用いる。 - 特許庁

The image forming apparatus is arranged such that the beam spots W, X, Y, Z, A, B, C, D, E of a plurality of light beams in each row of a multibeam arranged in matrix become substantially linear on a surface to be scanned (photosensitive body) and the linear beam spots of each row have a specified angle θb with respect to the main scanning direction.例文帳に追加

マトリクス状に配置されているマルチビーム各行の複数の光ビームのビームスポットＷ，Ｘ，Ｙ，Ｚ，Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅが被走査面（感光体）上で略直線状となり、その各行の直線状ビームスポットが主走査方向に対して所定の角度θｂを有するように構成する。 - 特許庁

At least one kind of chemical absorber 19 for adsorbing specific gas component is arranged over almost entire range, expanding in the axial direction of a plurality of semiconductor wafers W, in at least one space which is formed with an inside wall space of a lid 2 and a wafer support body 7.例文帳に追加

蓋体２の内壁面とウエハ支持体７とで形成された少なくとも一つの空間において複数の半導体ウエハＷの軸方向に伸びた略全範囲にわたって、特定のガス成分を吸着するための少なくとも一種類のケミカルアブソーバ１９が配置されている。 - 特許庁

This cold heat accumulating microcapsule ML having an average particle size of 0.2-2 mm of containing a cold heat medium having the phase change temperature of 3-10°C at a rate of occupying 70 wt.% or more of the whole, is soaked in water W in an ice heat accumulating tank 1 for arranging a heat exchange part 5 by the refrigerating machine 2.例文帳に追加

冷凍機２による熱交換部５が配置した氷蓄熱槽１内の水Ｗ中に、相変化温度が３〜１０℃である冷熱媒体を全体の７０重量％以上を占める割合で内包する平均粒径０．２〜２ｍｍの冷熱蓄熱用マイクロカプセルＭＬを浸漬する。 - 特許庁

The washer holder 10 is incorporated in a processed sheet formed by arranging a plurality of washer accepting recess 20, the recess having an inside diameter fit to the outside diameter of a washer to be held, thus, the washer W is accepted in the washer accepting recess on whose bottom face the whole one surface of the washer is held as is capable of being separated through an adhesive.例文帳に追加

ワッシャホルダーは、保持されるべきワッシャの外径に適合する内径を有するワッシャ受容凹所の複数が配列されて形成された加工シートよりなり、ワッシャがワッシャ受容凹所に受容され、その底面にワッシャの一面が粘着剤を介して剥離自在に保持される。 - 特許庁

On the other hand, when the total load factor is in a range of more than 50% and 100% or less, phase control is performed so that the driving electric power of the primary side sheath heater is proportional to a value of the total load factor in a state that a driving electric power of 600 W is supplied to the secondary side sheath heater.例文帳に追加

一方、総負荷率が５０％よりも大きく１００％以下の範囲では、二次側シーズヒータに６００Ｗの駆動電力が供給された状態で、一次側シーズヒータの駆動電力のみが総負荷率の値に対して比例するように位相制御が行われる。 - 特許庁

By moving a carriage 41 arranged with a clamp device 23 (23A, 23B) in the left/right direction (X direction) with a carriage base 35 and the carriage base 35 in the back/forth direction (Y direction), a work W clamped to the clamp device 23 is positioned to a working part K of a plate working machine, working is conducted.例文帳に追加

クランプ装置２３を備えたキャレッジ４１をキャレッジベース３５で左右方向（Ｘ方向）に移動せしめると共にキャレッジベース３５を前後方向（Ｙ方向）に移動せしめることにより、クランプ装置２３にクランプしたワークＷを板材加工機の加工部Ｋに位置決めして加工が行われる。 - 特許庁

This ball bearing is devised so that a pitch diameter Dp of a rotating element 13 is set smaller than a cross-section central diameter Dm and a diameter Db of the rotating element 13 is set less than 50% of thickness (w) in the radial direction.例文帳に追加

本発明の玉軸受１０は、転動体１３のピッチ円直径Ｄｐが断面中心径Ｄｍよりも小さく、かつ転動体１３の直径Ｄｂが半径方向厚さｗの５０％以下に設定されている。 - 特許庁

The loading part 10 is provided with two metallic wires 10a and 10b arranged in parallel to be visually confirmed from a lower part, and slightly upwardly bent to prevent fruits W or the like placed on the loading part from rolling and dropping from the same.例文帳に追加

前記載置部１０は下方から視認できるように２本の金属線１０ａ，１０ｂを並列配置するとともに先部を若干上方に折り曲げて載置した果物Ｗなどが転がって落ちないようにしている。 - 特許庁

This coolant recovery device 10 includes a coolant receiver 11 arranged between a machine tool 2 and it to receive the coolant dropping from a workpiece W and a transfer pipe 12 for transferring the coolant accumulated in the coolant receiver 11 into a coolant tank 13.例文帳に追加

工作機２の間に配設され、ワークＷから落下するクーラントを受けるクーラント受け１１と、このクーラント受け１１に貯留されたクーラントをクーラントタンク１３に移送する移送管１２とを備えるクーラント回収装置１０である。 - 特許庁

A levelling roller 5 to energize the upper part of the undefined form of admixture W being conveyed to the exhaust port 12 by the conveyer 32, in the direction separating from the exhaust port 12 following the rotation, is provided to the hopper 1.例文帳に追加

搬送部３２で排出口１２に向けて搬送されている不定形混合材Ｗの上部を回転に伴い排出口１２から遠ざかる方向に付勢する掻きならしローラ５がホッパ１には設けられている。 - 特許庁

In monitoring, the blocks B to be compared are determined from the plurality of blocks of the photographic image G with a time difference on the basis of the vector W of each block B of the optical flow table T, and the degree of similarity between the blocks B is calculated.例文帳に追加

監視時には、オプティカルフローテーブルＴの各ブロックＢのベクトルＷに基づき、時間差をおいた撮影画像Ｇの複数のブロックから比較すべきブロックＢ同士を決定し、そのブロックＢ同士の類似度を算出する。 - 特許庁

In addition, the window WD is also formed with a third display area R3 wherein a target value for controlling the surface position and the attitude of the wafer W during exposure is displayed by graph, and a fourth display area R4 to display its control difference.例文帳に追加

また、露光時のウェハＷの表面位置及び姿勢の制御に関する目標値がグラフ表示される第３表示領域Ｒ３と、その制御誤差を表示する第４表示領域Ｒ４とが設けられている。 - 特許庁

When a control unit 80 drives an actuator 74, the head 71 and a head supporting arm 72 are moved integrally up and down to vertically move the substrate W adsorbed and supported to the head 71 nearly in the horizontal state.例文帳に追加

制御ユニット８０がアクチュエータ７４を駆動させると、基板支持ヘッド７１とヘッド支持アーム７２が一体的に昇降されて、基板支持ヘッド７１に略水平状態に吸着支持された基板Ｗは昇降移動される。 - 特許庁

In a tying band W on the back side of a bill bundle B, a processing date label w1, a processing time label w2, a processing device number label w3 and a processing discriminating mark w4 are printed by a printer as a printing means.例文帳に追加

紙幣束Ｂ裏面側の結束帯Ｗには、印字手段としてのプリンタによって、処理日付表示ｗ１、処理時刻表示ｗ２、処理号機表示ｗ３および処理判別記号ｗ４が印字されている。 - 特許庁

A rotary disc as a workpiece W is rotatably positioned by guide rollers 17, 18, and is clamped in part between a polishing tool 15 provided to a pressing shaft 11 and a polishing tool 16 provided to a pressed shaft 12.例文帳に追加

ワークＷである回転ディスクはガイドローラ１７，１８によって回転自在に位置決めされ、加圧軸１１に設けられた研磨具１５と受圧軸１２に設けられた研磨具１６とによりワークＷはその一部が挟持される。 - 特許庁

A drain controller 16 receives the signal X1 and outputs a control signal X2 for controlling a drain cock 14 for draining hot water W in a bathtub 13 to a drain cock driving device 17.例文帳に追加

また、排水制御装置１６は、前記異常検知信号Ｘ１を受けて、浴槽１３内の湯水Ｗを排出するための排水栓１４を制御する制御信号Ｘ２を排水栓駆動装置１７に対し出力する。 - 特許庁

In the load locking chamber 4, the gas supply system 72 sprays an insert gas such as an N_2 gas at a high temperature heated by the heating unit 76 against the shifting arm 70 and the wafers W conveyed by the shifting arm 70.例文帳に追加

また、ロードロック室４内において、ガス供給系７２はヒーティングユニット７６によって加熱された高温のＮ_２ガス等の不活性ガスを移載アーム７０及び移載アーム７０によって搬送されているウエハＷに吹き付ける。 - 特許庁

In the manufacturing method of the solid cosmetic 1 by the elastic molding die 8, an inner tray 2 having heat conductivity ≥10 W/m×K is attached to the elastic molding die 8, and the cosmetic is filled.例文帳に追加

弾性成形型８による固形化粧料１の製造方法において、１０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の熱伝導率を有する中皿２を弾性成形型８に付設し、化粧料を充填することを特徴とする製造方法。 - 特許庁

The element tube W is concentrically bent at two points P1, P2 at both end sides of a first molding recess 51 of the outer mold 21 and a first molding protrusion 53 of the inner mold 31, and the axial force is increased to F2 in this stage (B).例文帳に追加

素管Ｗは、外型２１の第１の成形凹部５１、内型３１の第１の成形凸部５３の両端側の二箇所Ｐ１、Ｐ２で集中的に曲げ加工され、この段階で軸力をＦ２に増大させる（Ｂ）。 - 特許庁

Thereby, such a circulating air current is generated that the air on the outside of the room W is cleaned by the filter 5, flows into the hood 3 and is discharged together with hazardous materials in the hood 3 to the outside of the hood 3 through the door 6.例文帳に追加

これにより、作業室Ｗの外部の空気がフィルタ５で浄化されてフード３内に流れ込んだ後、フード３内の危険物質とともに二重ガラス扉６を経由してフード３外へ排出される循環気流が生じる。 - 特許庁

The bead transfer means 2 is constituted so as to move the bead holding part 240 for holding the bead B in such a state that the separator S is pressed at the separation position W by the separator press means 3 to separate the bead B from the separator S.例文帳に追加

ビード移送手段２が、分離位置Ｗにおいて、セパレータ押さえ手段３によりセパレータＳを押さえた状態でビードＢを保持するビード保持部２４０を移動することにより、ビードＢをセパレータＳから分離させる。 - 特許庁

The ceramic heating resistor 1 consists of a ceramic body 2 with its top surface as a loading surface 2a for a board W, a heating element 3 buried in the ceramic body 2, a fluid channel 4 set under the heating element 3.例文帳に追加

上面が基板Ｗの載置面２ａであるセラミックス製の基体２と、基体２に埋設された発熱体３と、基体２の発熱体３の下方位置に設けられた流体流路４とによりセラミックスヒーター１が構成される。 - 特許庁

To provide a UNCD film laminate excellent in wear resistance and heat resistance of a laminate by improving the adhesion to a ferrous substrate and the UNDLC film laminated thereon with W as an intermediate layer and its method for manufacturing.例文帳に追加

鉄系基材とこれにＷを中間層にして積層したＵＮＤＬＣ膜との密着性を向上させ、積層体の耐摩耗性および耐熱性に優れたＵＮＣＤ膜積層体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The pair of leg parts 23 and 23 of the male member 2 are formed with insertion holes 28 for easy-operation string body W', which are provided in an object M to be used respectively so that the clasp T is engaged with the object M.例文帳に追加

雄部材２の一対の脚部２３、２３にそれぞれ、留め具Ｔを使用対象物Ｍに係留させるように使用対象物Ｍに備え付けられる易操作用紐状体Ｗ’の挿通穴２８が形成してある。 - 特許庁

When the transparent glass substrate W is used as a narrow-band filter, characteristics in packaging corresponding to the incident angle θ at a specific angle other than 0° can be precisely, accurately, and easily obtained as the characteristics of the filter.例文帳に追加

透明ガラス基板Ｗをナロウバンドパスフィルタとして用いる場合に、そのフィルタの特性として０°以外の所定角度の入射角θに対応した実装時の特性が精度よく正確にしかも容易に得られるようにする。 - 特許庁

All the number of the double-head sewing machine heads 30 is made to perform same embroidery simultaneously so as to perform same embroidery on a plurality of embroidery parts, or the same number of the head number of the double-head sewing machine heads 30 in a workpiece W.例文帳に追加

そして、２倍頭のミシンヘッド３０の全数に同一の刺繍を同時に行わせることによって、被刺繍物Ｗにおける該２倍頭のミシンヘッド３０の頭数と同数の複数の被刺繍箇所に同一の刺繍を行う。 - 特許庁

In this way, a mixed fluid containing a pure water liquid drop is ejected from a two-fluid slit nozzles 31 onto the surface of the substrate W where the etching liquid is almost eliminated, thereby substituting washing for substituting the etching liquid by pure water.例文帳に追加

これによって概ねエッチング液が除去された基板Ｗの表面に二流体スリットノズル３１から純水液滴を含む混合流体を吐出することによりエッチング液を純水に置換する置換水洗を行う。 - 特許庁

When the first and second air catching sensors 25, 26 detect no air flow in the first air passage 18 and the second air passage 19, it is determined that the work W is closely contacted with a work seating face 53 of the working pallet 50.例文帳に追加

第１及び第２のエアキャチセンサ２５、２６が第１のエア通路１８及び第２のエア通路１９のエア流れ無しを検知したときにワークＷと加工パレット５０のワーク着座面５３が密着していると判定する。 - 特許庁

In this way, an air current W is formed by being peeled off and an air current W2 having an eddy to flow inside the visor 26 passes over the rear side opening end 36B instead of hitting against the inner peripheral surface 8 of the through hole 34.例文帳に追加

これにより、気流Ｗが剥離されることで形成され、更に、渦を有してバイザー２６の内側へ向かう気流Ｗ２が、透孔３４の内周部３８に衝突せずに後方側開口端３６Ｂ上を通過する。 - 特許庁

The light source 2 consists of a plurality of LEDs provided inside the body 3, with the plurality of LEDs being arrayed, in a row at equal intervals so as to constitute a line along the boundary of the wall face W and the floor face F as a whole.例文帳に追加

光源２は、器体３内に複数個設けられたＬＥＤからなり、これら複数個の光源２は、全体として壁面Ｗと床面Ｆとの境界に沿う線条を構成するように等間隔で列設されている。 - 特許庁

A precision substrate housing container 10 is housed in a package box 1, and a buffer 20 for releasing the impact on a precision substrate W or the container 10 is interposed between the package box 1 and the container 10.例文帳に追加

包装箱１に精密基板収納容器１０を収納し、包装箱１と精密基板収納容器１０の間に、精密基板Ｗや精密基板収納容器１０に加わる衝撃を和らげる緩衝体２０を介在する。 - 特許庁

In the evaluation process of welding, a binarization processing is performed to discriminate the molten and solidified part 44 and a background on the work to be welded W on the basis of a picked up image data, the contour or the edge of the molten and solidified part 44 is detected.例文帳に追加

溶接評価処理では、撮影画像データを基に被溶接材Ｗ上の溶融凝固部４４と背景とを区別するための２値化処理を行い、溶融凝固部４４の輪郭またはエッジを検出する。 - 特許庁

The wire W has a composition where Pd is contained at 0.5 to 1.3 wt.%, at least one of Ca, Ce, and Nd is contained at 50 to 100 weight ppm in total, and the remaining portion is composed of gold and inevitable impurities.例文帳に追加

このワイヤＷは、Ｐｄを０．５〜１．３重量％含有し、Ｃａ、Ｃｅ、Ｎｄのうち少なくとも１種以上を総和５０〜１００重量ｐｐｍ含有し、残部が金及び不可避不純物からなる組成を有する。 - 特許庁

When enclosed electrical apparatuses are displaced adjacently to each other, the tips of horizontal conductors 22 in T-shaped bushings 20 are opposed to each other because the horizontal conductors 22 have substantially the same length as the width W of closed vessels.例文帳に追加

密閉形電気機器を互いに隣接して配置した際に、Ｔ形ブッシング２０内の水平導体部２２が密閉容器の幅Ｗと略同一の長さを有することから、各水平導体部２２の先端同士が互いに対向する。 - 特許庁