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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > alignment errorに関連した英語例文

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alignment errorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 213



例文

As a result, even if there is an installation alignment error in the tracking antenna 6, or a position error is included in an update position signal S1 detected by the GPS receiver 1, error correction for the detection signals can be executed within a framework of Kalman filtering, and simultaneous attainment of the position estimation of the unmanned aircraft and precise tracking by the tracking antenna becomes possible.例文帳に追加

その結果、追尾アンテナ6に設置アライメント誤差が存在したり、GPS受信機1が検出した更新位置信号S1に位置誤差が含まれていても、カルマンフィルタ処理の枠組み中でこれら検出信号の誤差補正が実施可能となり、無人機の位置推定と追尾アンテナによる高精度追尾とを同時に達成できる。 - 特許庁

To provide an optical coupling device in which an processing error produced at the time of processing an optical waveguide to expose a core end part thereof is not contained in an alignment error of the optical waveguide core end part and other optical components, and to provide an optical waveguide permitting to manufacture such an optical coupling device.例文帳に追加

光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供すること。 - 特許庁

A base alignment mark can be directly detected from a face of the color filter material 49 in a shorter distance from a substrate 41 in the transfer and expose of the pattern, so that detection error is reduced and thus image degradation is reduced.例文帳に追加

また、上記パターン転写露光時に下地アライメントマークを基板41からの距離が近いカラーフィルタ材料49の面から直接検出でき、検出誤差を小さくして画質劣化を少なくする。 - 特許庁

To achieve a technique for improving the positioning accuracy by sensing the transmission characteristics of an imaging optical system and restoring an alignment sensing signal deteriorated by an error (TIS) derived from a device.例文帳に追加

結像光学系の伝達特性を高精度に検出し、装置起因の誤差(TIS)により劣化したアライメント検出信号を復元することで、位置決め精度を向上する技術の実現。 - 特許庁

例文

In accordance with the alignment error, the position of the hand attaching part 9 is corrected to release the work 1.例文帳に追加

把持装置14でワーク1を把持し、搬送しながら距離センサ16でワーク側面までの相対位置を測定してアライメント誤差Δを求め、アライメント誤差に基づきハンド取付部9の位置を補正してワーク1を開放する。 - 特許庁


例文

To remarkably reduce alignment error of a solid-state imaging device to a substrate at a low cost when a solid-state imaging apparatus constituted by accommodating the solid-state imaging device in a package is mounted on the substrate.例文帳に追加

固体撮像素子をパッケージに収容して成る固体撮像装置を基板上に実装したときの、その基板に対する固体撮像素子のアライメント誤差を低コストで大幅に縮小する。 - 特許庁

The center of crowning applied to the drum gear 12 is offset by 3 mm toward the photoreceptor drum 1Y, thereby absorbing alignment error variation during driving and avoiding one-sided contact of the drum gear 12.例文帳に追加

ドラムギア12に施すクラウニングの中心を感光ドラム1Y側に3mmオフセットすることにより、駆動中のアライメント誤差変動を吸収してドラムギア12の片当たりを回避している。 - 特許庁

To provide an element array capable of performing the alignment of an element group arranged in a stacking direction with high accuracy, by reliably absorbing the pitch error of an element in the element array in a stacking process for a plurality of element arrays.例文帳に追加

素子アレイにおける素子のピッチ誤差を複数の素子アレイの積層工程で確実に吸収し、積層方向に並ぶ素子群の調芯を高精度に行うことのできる素子アレイを提供する。 - 特許庁

Since the alignment error limit of the optical parts can be increased by shortening the optical path, the assembling cost can be saved, the light insertion loss can be reduced and the optical efficiency can be maximized.例文帳に追加

これにより、光経路を短縮させることによって光学部品の整列誤差限度を増加させ、これにより組立てコストを節減でき、光の挿入損失を減らして光効率を極大化できる。 - 特許庁

例文

To provide an electrical inspection method of a test subject which can very quickly and precisely achieve alignment in contact points of a contactor to the opposite points of the test subject without any error.例文帳に追加

被験体の対向接点に対する接触装置の接点の位置合せを極めて迅速かつ精確に、また誤差なく実施可能であるような被験体の電気検査方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a system and a method that can compensate for temperature during manufacture of a substrate by reducing an alignment error due to thermal expansion on the basis of a plurality of standards by a lithography device for manufacturing a large-sized device.例文帳に追加

大型デバイスを製造用のリソグラフィ装置で複数の基準により、熱膨張による整列誤差低減し、基板の製造中に温度の補償可能なシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

When a resist pattern that covers areas c and d is formed, a resist pattern 22 is formed by displacing a mask pattern such that the groove of the area c is completely covered even in the case that a alignment error occurs (step 3).例文帳に追加

領域c,dを覆うレジストパターンを形成する場合、位置合わせ誤差が生じても領域cの溝が完全に覆われるように、マスクパターンの位置をずらしてレジストパターン22を形成する(工程3)。 - 特許庁

To make it possible to improve the accuracy and reliability of the alignment of mask patterns and patterns already formed on an array substrate and to prevent the degradation in a production yield and product defect by the failure and error of the alignment of the mask patterns.例文帳に追加

液晶表示装置等のアレイ基板及びその製造方法において、マスクパターンと、アレイ基板上に既に形成されたパターンとの位置合わせの精度及び信頼性を向上させることができ、マスクパターンの位置合わせのミスやエラーによる製造歩留まりの低下や製品不良を防止することができるものを提供する。 - 特許庁

Duet to the present invention, the distortion of a wafer grid produced by the non-flatness during the period of alignment and exposure can be corrected by feed-forward and thus an overlay error caused by the difference in the flatness characteristic can be reduced.例文帳に追加

本発明によって、位置合わせおよび露光中に非平坦度によって生じたウェハグリッドの歪みをフィードフォワード補正し、平坦度特徴の違いが引き起こすオーバレイエラーを軽減することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display panel for reducing the variations in the outline dimensions of a liquid crystal cell and misalignment due to an alignment error in mounting, and increasing the number of liquid crystal display panels to be taken.例文帳に追加

液晶セルの外形寸法のバラツキや、実装時の位置合わせ誤差による位置ズレを低減し、液晶表示パネルの取個数を増やすことが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To inexpensively compose an electric power steering device which can prevent looseness at a spline engaging part of an output shaft 10 of an electric motor with a worm shaft, absorb an alignment error, and ensure sufficient strength.例文帳に追加

電動モータの出力軸10とウォーム軸とのスプライン係合部でのがたつきを防止できると共に、アライメント誤差を吸収でき、しかも十分な強度を確保できる電動式パワーステアリング装置を、安価に構成する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a nonvolatile semiconductor memory while minimizing the chip size by minimizing the alignment error and self-aligning the layers with the gate electrode.例文帳に追加

アライメント誤差を最小限に抑えチップサイズを最小限に抑えて製造することができると共に、ゲート電極に対して層を自己整合的に形成して製造できる不揮発性半導体記憶装置の製法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the correction value of the feed error value for each operation mode and each print media is calculated by applying the set value corresponding to each print position section among the set values of the plurality of the previously set alignment patterns.例文帳に追加

また,予め設定された複数のアラインメントパターンの設定値のうち,印刷位置区間別に対応する設定値を適用して動作モード別及び印刷媒体別に送り誤差値の補正値を算出する。 - 特許庁

Consequently, canceling is predicted without waiting for selective operation of selectors 2 and 3 and alignment of operands based on comparison between characteristic parts of operands in a comparison circuit 1, and the presence or the absence of the canceling prediction error accompanied with this prediction is detected by a prediction error detection circuit 10.例文帳に追加

従って、桁落ちを予測する際に、比較回路(1)による被演算数の指数部の大小比較によりセレクタ(2、3)を選択動作させて被演算数の桁合わせを待つことなく、前記桁落ちを予測し、これに付随した桁落ち予測誤差の有無が予測誤差検出回路(100)により検出される。 - 特許庁

To provide a method and device for correcting an error in a defect coordinate output from an inspection device to make it easy to select a visual field size for defect search of a defect review device and a defect for fine alignment.例文帳に追加

検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

An automatic aligning means 35 comprising a concave spherical washer 33 and a convex spherical washer 34 is installed with the spring 32, and the ejector pin 21 is made to exhibit an automatic aligning function to absorb the alignment error.例文帳に追加

皿ばね32とともに凹状の球面ワッシャ33と凸状の球面ワッシャ34とからなる自動調心手段35を介装し、エジェクタピン21に心ずれ誤差を吸収するような自動調心機能を発揮させる。 - 特許庁

To provide a release device capable of reducing an axial configuration space, preventing clutch judder, compensating error in alignment, and reducing abrasion in a contact range between a disc spring of a power intermittent clutch and a release bearing.例文帳に追加

軸方向の構成スペースが減じられ、クラッチジャダーが回避され、整合誤差が補償可能となり、動力断続クラッチの皿ばねとレリーズ軸受けとの間の接触範囲において摩耗が低減されるようなレリーズ装置を提供する。 - 特許庁

Further, since maximum molding precision obtained with a molding technique has a dimensional error of not more than 1 μm, precision of the optical axis alignment is improved by using the same degree of precision for dimensions and positions of the fitting projection 42 and the fitting hole 32b.例文帳に追加

また、成形技術による最高成形精度は寸法誤差が1μm以下であるので、嵌合突起42及び嵌合穴32bの寸法及び位置の各精度を同程度にすることで光軸合わせ精度を向上できる。 - 特許庁

Further, since maximum molding precision obtained with a molding technique has a dimensional error of not more than 1 μm, precision of the optical axis alignment is improved by using the same degree of precision for dimensions and positions of the fitting projection 42 and the fitting hole 32b.例文帳に追加

また、成形技術による最高成形精度は寸法誤差が1μm以下であるので、嵌合突起42及び嵌合穴32aの寸法及び位置の各精度を同程度にすることで光軸合わせ精度を向上できる。 - 特許庁

To provide a printer in which paper head position can be aligned without requiring test print every time when a sheet is set by eliminating error in alignment of paper head position occurring due to visual confirmation.例文帳に追加

頁先頭位置合わせにおいて、目視によって発生する頁先頭位置合わせの誤差を無くし、用紙をセットするたびに試し印刷をする必要の無い頁先頭位置合わせを可能とした印刷装置を提供することである。 - 特許庁

Further, since maximum molding precision obtained with a molding technique has a dimensional error of not more than 1 μm, precision of the optical axis alignment is improved by using the same degree of precision for dimensions and positions of the fitting projection 42 and the fitting hole 32b.例文帳に追加

また、成形技術による最高成形精度は寸法誤差が1μm以下であるので、嵌合突起42と嵌合穴32bの寸法と位置の精度を同程度にすることで光軸合わせ精度を向上できる。 - 特許庁

To prepare a second template from a first template by an imprinting method and to accurately form an alignment mark without degrading an error in relative positional accuracy between a main pattern and a peripheral pattern of the second template.例文帳に追加

第1のテンプレートからインプリント法により第2のテンプレートを作製することができ、且つ第2のテンプレートにおけるメインパターンと周辺パターンとの間の相対的な位置精度誤差を劣化させることなく、アライメントマークを精度良く形成する。 - 特許庁

To provide a bumper skin mounting structure capable of maintaining the quality of the outside appearance of a lamp part without being influenced by the error in mounting the bumper skin or the thermal contraction by securing the alignment in mounting the bumper skin with respect to the lamp part.例文帳に追加

バンパ表皮とランプ部との取付整合性を確保して、バンパ表皮の取付誤差や熱収縮の影響を受けることなく、ランプ部の外観品質を維持できるバンパ表皮取付構造を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vertical hall element for carrying out magnetic detection with much higher precision by suppressing the generation of any offset voltage due to position deviation(alignment deviation) due to a mask matching error at the time of manufacturing elements, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

素子作製時のマスク合わせ誤差による位置ずれ(アライメントずれ)に起因するオフセット電圧の発生を抑制して、より高い精度での磁気検出を可能とする縦型ホール素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The low layer conductive film 3 and the upper layer conductive film 9 are not superposed in a vertical direction when no alignment error occurs and therefore the capacitance value of a capacitor 15 consisting of the low layer conductive film 3, the insulation layer 7, and the upper layer conductive layer 9 is small.例文帳に追加

アライメント誤差がない状態では、下層導電膜3と上層導電膜9が垂直方向で重なっていないので、下層導電膜3、絶縁層7及び上層導電膜9からなるキャパシタ15の容量値は小さい。 - 特許庁

To reduce work and load of an operator in a positioning process of an aligner and improve a throughput by minimizing the necessity for decision of an operator and automatically making recovery to a normal sequence when an error occurs in pre-alignment.例文帳に追加

プリアライメントにおいてエラーが発生したときのオペレータの判断を極力少なくし、自動的に正常シーケンスへ回復可能にすることで、露光装置の位置合わせ過程におけるオペレータの手間、負担を軽減させ、スループットを向上させる。 - 特許庁

The alignment of the wafer is performed by correcting the position detecting error caused by the asymmetry of the cross-sectional shape of the mark WM based on beat signals respectively obtained upon detecting the ±3rd order and ±quaternary diffracted light rays.例文帳に追加

±3次回折光を検出して得られるビート信号と±4次回折光を検出して得られるビート信号とに基づいて、回折格子マークWMの断面形状の非対称性による検出誤差を補正し、ウエハの位置合わせを行う。 - 特許庁

To correct the total alignment error on the ground gear, that is, to correct a helix angle of the gear, synchronizing operation of Z-direction movement of the screw-shaped grinding tool 3 with rotational movement of a table 4 for mounting the gear is adjusted.例文帳に追加

また研削加工した歯車の歯筋誤差を修正するためには、つまり歯車のねじれ角を修正するためには、ねじ状砥石3のZ方向移動運動と歯車を設置するテーブル4の回転運動との同期運転を調整する。 - 特許庁

When the alignment error occurs in an X direction occurs and the low layer conductive film 3 and then the upper layer conductive film 9' are superposed, the capacitance value of the capacitor 15 consisting of the low layer conductive film 3, the insulation layer 7, and the upper layer conductive layer 9 increases.例文帳に追加

X方向でアライメント誤差が生じて下層導電膜3と上層導電膜9’が垂直方向で重なると、下層導電膜3、絶縁層7及び上層導電膜9からなるキャパシタ15の容量値が増加する。 - 特許庁

The work 1 is gripped and conveyed by the grip device 14 and relative positions to side surfaces of the work are measured by the distance sensors 16 to obtain an alignment error Δ.例文帳に追加

ロボットのハンド取付部9に取り付けられたハンド本体12と、ハンド本体に取り付けられワークを着脱可能に把持する把持装置14と、ワークの位置決め方向にワークより広い間隔で対向して位置する1対の距離センサ16とを備える。 - 特許庁

To provide a 2×2-optical fiber switch which has eliminated the need for a skilled assembly adjustment technique by achieving a structure which does not cause an alignment error between the center axis position of the optical fiber assembly with a lens and the symmetrical center position of the rectangular prism.例文帳に追加

レンズつき光ファイバ組立の中心軸の位置と直角プリズム対称中心位置間の整列誤差を生じない構造とすることによって、熟練した組立調整技術を不要とした2×2光ファイバスイッチを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which allows an operator to check the output sheets of paper stacked during paper ejection and even those sheets already output without taking them out once, thereby preventing paper jam and an alignment error at a delivery unit or preventing the operator from taking out output paper by mistake.例文帳に追加

排紙動作中に積載された出力紙確認が行え、かつ出力済の用紙についても一旦取り出さずに確認を行えて、排紙部における紙詰まりや整合不良、或いは出力用紙の誤持ち出し等を防止する画像形成装置。 - 特許庁

To prevent a machine from stopping operation due to an alignment error etc. resulting from absence of a workpiece at a predetermined position, when workpieces forming a workpiece set such that the workpieces less than a predetermined number are united with one annular frame, are divided.例文帳に追加

所定枚数より少ない枚数の被加工物が一つの環状フレームと一体化された被加工物セットを構成する被加工物を分割する場合において、所定位置に被加工物が無いことによるアライメントエラー等によるマシンの作動停止を防止する。 - 特許庁

When there is an error of alignment during manufacture, or due to operating conditions or the like, and an outer side roller 24 is tilted by abutting with a cam, edge loads tend to occur in respective axial (a roller 24 width direction) end parts of the inner circumferential face of the roller 24, and the plurality of needle rollers 22.例文帳に追加

製造時あるいは運転条件等によってアライメントの誤差が生じ、カムとの当接で外側ローラー24が傾くと、ローラー24の内周面と複数のニードルころ22のそれぞれ軸方向(ローラー24幅方向)端部にてエッジロードが発生しようとする。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

Then, the pattern matching of an image to be compared obtained by imaging an object to be compared arranged in a posture including the position deviation in the direction of rotation and the reference image is operated by using the 1st alignment point A1 as a reference so that any position error to be detected can be minimized.例文帳に追加

この1stアライメント点A1を基準として、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている比較対象を撮像した比較対象画像と、基準画像とのパターンマッチングを行うことで、検出される位置誤差が最小になる。 - 特許庁

Consequently, a temperature rise, a temperature measurement error, etc., of the temperature sensor 12 itself due to the direct irradiation with the exposure light are avoided to accurately measure temperature distribution variation that a reticle R has through the dummy mask 10 even during an exposure sequence and an alignment sequence.例文帳に追加

したがって、露光光の直接照射による温度センサ12自体の温度上昇や温度計測誤差などを回避し、露光シーケンス中やアライメントシーケンス中でも、レチクルRに生じる温度分布変化を、ダミーマスク10を介して正確に測定が可能となる。 - 特許庁

The compensation determination includes electronically correcting image data to be printed so that a clear error of printing images due to an alignment or performance error of the fluid jetting device is reduced, physically operating the fluid jetting device, completely skipping the fluid jetting device during a printing operation, or correcting the fluid jetting device or images by some other methods.例文帳に追加

補償決定は、流体噴射器のアラインメントまたはパフォーマンスエラーによる明らかな印刷画像のエラーが軽減されるように、印刷される画像データを電子的に修正すること、流体噴射器を物理的に操作すること、印刷動作中に流体噴射器を完全にスキップすること、または何らかの他の仕方で流体噴射器または画像を修正することを含む。 - 特許庁

Further, also on a reticle stage RST, the reticle R is matched mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 82, the reticle stage RST is moved so as to cancel the estimated drawing error of the pattern, and thereafter reticle alignment is implemented.例文帳に追加

また、レチクルステージRST上においても、基準部材82を用いてレチクルRを外形基準で機械的に所定の基準に整合させるとともに、求めておいたパターンの描画誤差を相殺するようにレチクルステージRSTを移動させた後に、レチクルアライメントを実施する。 - 特許庁

To provide an OCB mode liquid crystal display device with which heightening of contrast and widening of a viewing angle are materialized by optimizing a construction of a PDM compensation film and a condition of bend alignment of a liquid crystal without depending on trial-and-error methods, in an OCB-LCD using the PDM compensation film.例文帳に追加

PDM補償フィルムを用いるOCB‐LCDにおいて、トライアルアンドエラーによらずにPDM補償フィルムの構成および液晶のベンド配向の条件を最適化し、高コントラスト・広視野角化を実現してなるOCBモード液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A control section 2a computes a compensation factor of a correction formula which carries out an alignment degradation to the n-th order of more than the 5-th order as the compensation factor of a distortion shape in a shot and/or the compensation factor between distortion shape shots in the shot, and corrects a distortion error every shot (S6, S7).例文帳に追加

制御部2aは、ショット内ディストーション形状の補正係数および/またはショット内ディストーション形状ショット間補正係数として5次以上のn次に線形分解した補正式の補正係数を算出し、ショット毎にディストーション誤差を補正する(S6、S7)。 - 特許庁

To provide an alignment device and method whereby a product processing apparatus is accurately installed, product mounting positions for receiving / supplying products can accurately be designated while minimizing the error, and product receiving / supplying positions for receiving / supplying the products from / to a product automatic carrying device can accurately be aligned in a short time.例文帳に追加

製品加工装置を据付けを正確に行い、製品を収受する製品載置位置の誤差を極小に抑えて正確に指定でき、製品自動搬送装置との受け渡し位置合わせが正確かつ短時間で行うことができる位置合わせ装置および方法を得る。 - 特許庁

To provide a method and a system for managing semiconductor device manufacturing process by which the deviation in alignment which occurs when each layer is laminated can be suppressed effectively in a semiconductor device manufacturing process by reducing the measurement error in superimpose.例文帳に追加

重ね合わせ量の測定誤差を低減し、半導体装置製造工程において各層を積層する際の位置合わせずれを有効に抑制することを可能とする半導体装置製造工程管理方法および半導体装置製造工程管理システムを提供すること。 - 特許庁

The position detection error between the sensors 13a and 13b is ready measured using the microscope 5a and when an exposure of a wafer is performed on the stage 15a (or 15b) on one side of the stages 15a and 15b, an alignment of the wafer is performed using the sensor 13b (or 13a) on the other stage 15b (or 15a).例文帳に追加

アライメントセンサ13a,13bの位置検出誤差をレチクルアライメント顕微鏡5aを用いて計測しておき、一方のウエハステージ15a(又は15b)で露光を行う際に、他方のウエハステージ15b(又は15a)ではアライメントセンサ13b(又は13a)を用いてウエハのアライメントを行う。 - 特許庁

例文

The respective alignment mark pairs M1 and M2 are respectively set with distances Ds1 to Ds4 indicating positioning error width permitted for ensuring superimpose width necessary for the electrode wiring terminal 15 and the output wiring terminal 17, and distances Dr1 to Dr4 indicating positioning error width permitted for ensuring necessary discrete width for preventing the short of the electrode wiring terminal 15 and the adjacent output wiring terminal 17.例文帳に追加

各アライメントマーク対M1 、M2 には、電極配線端子15と出力配線端子17との必要とされる重畳幅を確保するために許容される位置合わせ誤差幅を示す距離Ds1 〜Ds4 と、電極配線端子15と隣り合う出力配線端子17とのショートを防止するのに必要な離間幅を確保するために許容される位置合わせ誤差幅を示す距離Dr1 〜Dr4 が設定されている。 - 特許庁




  
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