「alignment error」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a high quality image without glimmering by suppressing the effect of dimension errors of the high resistivity region when inherently there exists an error in the alignment precision.例文帳に追加

本質的に位置合わせ精度に誤差が存在する場合に、高抵抗領域の寸法の誤差による影響を抑制し、チラツキのない画質を得る。 - 特許庁

To facilitate a countermeasure to an alignment error specific to each aligner, and to prevent wasteful reworks.例文帳に追加

各露光装置固有のアライメント誤差に対処し、無駄なリワークのない露光装置における重ね合わせ精度制御方法及び重ね合わせ精度測定器を提供する。 - 特許庁

Then, it finds an overlapping error in the first and second sample shot groups and calculates an offset for an alignment mark location's measurement value in units of shots.例文帳に追加

第１及び第２のサンプルショット群における重ね合わせ誤差が検出され、それらショット毎に、アライメントマークの位置の計測値に対するオフセットが算出される。 - 特許庁

Namely, occurrence of a fitting error can be suppressed since they are fixed based upon the same alignment mark member M1 although the observation directions are different.例文帳に追加

すなわち、観察方向が異なるものの、それぞれの固定の基準となるアライメントマーク部材Ｍ１は同一であるため、取付誤差を抑制することができる。 - 特許庁

To attain alignment by using the luminous flux of the same area as an optical module area used for the correction of an image position by which a lay-over error is corrected.例文帳に追加

重ね合わせ誤差を補正する像位置補正に使用する光学モジュール領域と同じ領域の光束を利用して位置合わせを行う。 - 特許庁

During this coarse alignment procedure, a tuner 317 of a satellite broadcasting receiver 17 attempts to find a tuning frequency, at which demodulation and error correction is possible.例文帳に追加

この粗い調整処理の間、衛星放送受信機１７のチューナ３１７は復調とエラー訂正が可能な同調周波数を見つけようとする。 - 特許庁

Since a self-aligned LDD structure can be patterned by a barrier layer without using an additional photomask, alignment error can be avoided.例文帳に追加

この場合、余分なフォトマスクを使用することなく、バリア層によって自己整合ＬＤＤ構造をパターン化することができるので、アライメントエラーを回避することができる。 - 特許庁

To correct an error produced in gyro type pipeline alignment measurement by surely and stably measuring the attitude in pipeline piping of a pig body.例文帳に追加

ピグ本体のパイプライン配管内での姿勢を確実に、安定して計測することによりジャイロ方式のパイプライン線形計測で生じる誤差を補正する。 - 特許庁

To improve the performance of a semiconductor device to be acquired by highly accurately controlling so that an alignment error of an alignment mark generated in an exposure treatment in semiconductor manufacturing processes.例文帳に追加

本発明は、半導体装置製造工程の露光処理工程において発生する位置合わせマークの合わせ誤差を、少なくするように高精度に制御し、得られる半導体装置の性能を向上させることを目的とする。 - 特許庁

Position detecting means 11, 12 of the substrate stage ST used for positioning at an exposure position and position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST used for detecting alignment information at an alignment position are disposed so that the Abbe error about the exposure position and alignment position is approximately zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Moreover, means 11 and 12 for detecting the positions of the substrate stage ST used for positioning in exposure position, and means 11 and 13 (11 and 14) for detecting the position of the substrate stage ST used for detection of alignment information in alignment position are arranged severally so that the Abbe error may be zero to the exposure position and the alignment position.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Also, the position detecting means 11 and 12 of the substrate stage ST used for positioning on the exposure position, and the position detecting means 11, 13 (11, 14) of the substrate stage ST to be used for detection of alignment information on the alignment position are arranged in such a manner that the Abbe error to exposure position and alignment position becomes almost zero.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

Position detecting means 11 and 12 for the wafer stage ST, which are used for positioning at an exposure position and position detecting means 11 and 13 (11 and 14) for the wafer stage ST, which are used for alignment information detection at an alignment position, are so provided that Abbe error is almost zero relative to the exposure position and alignment position, respectively.例文帳に追加

また、露光位置での位置決めに使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１２と、アライメント位置でのアライメント情報検出に使用する基板ステージＳＴの位置検出手段１１，１３（１１，１４）をそれぞれ、露光位置とアライメント位置に対してアッベ誤差が略ゼロとなるように配置する。 - 特許庁

An optimizing part 109 further determines an objective function containing the reprojection error and the alignment error in response to a peripheral environment of the robot 1, and optimizes the determined objective function to calculate the own position of the robot 1.例文帳に追加

さらに、最適化部１０９が、これら再投影誤差及び位置合わせ誤差を含む目的関数をロボット１の周囲環境に応じて決定し、決定した目的関数を最適化してロボット１の自己位置を算出する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel in which input sensitivity is improved and a coordinate detecting error due to an alignment error is prevented in order to effectively detect the input position selected by a user.例文帳に追加

本発明は使用者によって選択された入力位置を効果的に検出するために、入力感度を向上させ整列誤差による座標検出不良を防止する液晶表示パネル及びそれの製造方法に関する。 - 特許庁

To solve the problem that a conventional stereoscopic photographing device cannot naturally photograph a stereoscopic image when the alignment error of a photographing optical axis of left and right parallax images is large due to a change over aging or vibration or the like.例文帳に追加

経年変化や振動等によって左右視差画像の撮影光軸のアライメント誤差が大きくなると、自然な立体画像を撮影することができない。 - 特許庁

The alignment information is compensated by a contraction percentage operation portion 81 and a compensating portion 82 so as not to contain an error in the environment inside the exposure chambers 10, 20.例文帳に追加

アライメント情報は、露光チャンバ１０、２０内の環境において誤差を含まないように、収縮率演算部８１及び補正部８２によって補正されうる。 - 特許庁

The relative position the in x-axis direction is adjusted based on an alignment error Δx1 in the x-axis direction between one x-axis mark and a mark of the mask corresponding to it.例文帳に追加

１つのｘ軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのｘ軸方向の位置合わせ誤差Δｘ_1に基づいてｘ軸方向の相対位置を調節する。 - 特許庁

To provide a method for making an etching groove for optical fiber setting and an etching groove for an optical waveguide of an optical coupler with less error of mask alignment.例文帳に追加

光結合器の光ファイバ装着用エッチング溝と光導波路用のエッチング溝とをマスクアライメントによる誤差を少なく製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device capable of reading out data correctly even if variation in a characteristic of a memory cell is caused by an alignment error etc. of the pattern at the time of manufacture.例文帳に追加

製造時のパターンの合わせずれ等により、メモリセルの特性にばらつきが生じても、正しくデータを読み出すことが可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simple and mechanically stable alignment apparatus in order to minimize an angle error of a partial beam obtained by deflecting a primary laser beam by a beam splitter.例文帳に追加

ビームスプリッタにより一次レーザービームを偏向させて得られた部分ビームの角度誤差を最小化するため、簡便で機械的に安定した調整装置を提案することにある。 - 特許庁

To provide an objective lens for alignment which is made inexpensive because of simple constitution, whose aberration is excellently compensated and which is hardly deteriorated due to aberration with respect to a manufacture error.例文帳に追加

簡単な構成で安価であり、かつ諸収差が良好に補正され、製造誤差に対して収差の劣化が少ないアライメント用の対物レンズを提供することができる。 - 特許庁

The digital multi-color image reduces or at least limits any adverse effect caused by an alignment error influencing the picture quality in a predetermined direction during reproduction thereof.例文帳に追加

デジタル多色画像は、その再現の間に、所定の方向に位置合わせエラーによる画像品質に及ぼす何れかの悪影響を低減する、または少なくとも限定する。 - 特許庁

To provide a convenient article alignment cabinet allowing not only an identical person engaged in storage work of various types of articles but also a third party to instantaneously take out an article without any error.例文帳に追加

各種物品の収納作業に携った本人のみならず、第三者でも誤りなく瞬時に取り出せる屋内用の便利な物品整理保管庫を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of an error that displacement is not dissolved no matter how many times positioning is repeated and alignment is not converged in positioning of a mask and a work for contact exposure.例文帳に追加

コンタクト露光のマスクとワークの位置合せにおいて、位置合わせを何度繰り返しても位置ずれが解消せず、アライメントが収束しないというエラーの発生を防ぐこと。 - 特許庁

Especially, when the fourth lens group G4 is made thin in order to enhance compaction, eccentric error sensitivity of respective lens elements, surface shape error sensitivity, thickness/interval error sensitivity, etc. are increased to induce the necessity of very raising alignment precision and positioning precision in an optical axis direction, of respective lenses, whereby productivity is reduced.例文帳に追加

特にコンパクト性を追及して第４レンズ群Ｇ４が薄肉化された場合、各レンズ要素の偏芯誤差感度、面形状誤差感度、厚み・間隔誤差感度等が大きくなり、各レンズの軸出し精度や、光軸方向位置出し精度を非常に高める必要が生じ、生産性が悪くなってしまう。 - 特許庁

On the basis of the obtained correspondence relationship and the actual amount of generation of the alignment error, the prediction amount of generation of aberration predicted to be generated due to the actual amount of generation is obtained, and the measurement error is corrected on the basis of the predicted amount of generation.例文帳に追加

求められた上記対応関係とアライメント誤差の実際の発生量とに基づき、該実際の発生量に起因して発生すると予測される収差の発生予測量を求め、該発生予測量に基づき測定誤差を補正する。 - 特許庁

To provide a thermal lens absorption spectrophotometer which does neither require a high accuracy in alignment to facilitate alignment work and nor require experienced skills in measurement to enable a simple, quick measurement and in which a disturbance hardly causes an influence to decrease an error in the measurement as much as possible.例文帳に追加

高いアライメント精度が要求されないためアライメント作業が容易であり、そのため測定に熟練を必要とせず簡便に且つ迅速に測定でき、また外乱による影響を受け難くして測定誤差を極力小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

A display substrate is floated from a reference base 20 supporting a substrate from lower side to correct alignment error due to attitude such as deflection, warpage or the like of a processing side when aligning a display substrate P, or a warpage angle is found to correct the attitude, and then alignment is conducted.例文帳に追加

表示基板Ｐをアライメントする時の処理辺の撓みや反りなどの姿勢によるアライメント誤差を矯正するために、基板を下から支える基準ベース２０から表示基板を浮上させ、または反り角度を求めて姿勢を矯正し、その後アライメント処理する。 - 特許庁

To prevent the influence of a wafer process as much as possible, to quantitatively optimize a mark for position detection according to a position detection system mounted in a projection aligner to be used, and at the same time to minimize an alignment error due to the wafer process, and to provide a device for improving alignment accuracy.例文帳に追加

ウェハプロセスの影響を受け難く、使用する露光装置の搭載する位置検出方式に応じて位置検出用マークを定量的に最適化でき、且つウェハプロセスや装置起因のアライメント誤差を最小限にして高い位置合わせ精度を実現する。 - 特許庁

To provide an information recording medium and an information reproducing method with which the relative alignment of a light source and the medium and the relative alignment of the medium and a two-dimensional photodetector can be accurately performed and an error generation rate can be suppressed as a result.例文帳に追加

光源と媒体との相対的な位置合わせ及び媒体と２次元光検出器との相対的な位置合わせを精度良くすることができ、その結果誤り発生率を抑制することのできる情報記録媒体及び情報再生方法を提供する。 - 特許庁

In an alignment mark position measuring method for sequentially measuring positions of a plurality of alignment marks on an object necessary for aligning the object, every time the positions of one or a predetermined number of alignment marks are measured (step S3), an error measurement or the presence or absence of deterioration of a predetermined measuring accuracy is detected (step S9).例文帳に追加

対象物の位置合せに必要な前記対象物上の複数のアライメントマークの位置を順次計測するアライメントマーク位置計測方法において、１または所定数のアライメントマークの位置計測（ステップＳ３）毎に、誤計測または所定の計測精度の劣化の有無を検出する（ステップＳ９）ことを特徴とするアライメントマーク位置計測方法。 - 特許庁

The brightness step between the discharge cells neighboring in the column direction is reduced by the alignment error by applying different rising slopes or falling slopes of the sustain discharge pulse.例文帳に追加

維持放電パルスの上昇傾斜または／及び下降傾斜を異ならせて印加することにより、アライン誤差によって、列方向に隣接する放電セル間の輝度段差を減らすことができる。 - 特許庁

To make it possible to obtain an overlapping precision in a device region even when a relative position error exists between an alignment mark on a mask and the device region.例文帳に追加

マスクの描画装置の誤差により，マスク上のアライメントマークとデバイス領域に相対的な位置誤差があり，露光時のアライメントに問題が無くとも，デバイス領域での重ねあわせ誤差が発生する。 - 特許庁

To minimize alignment error of transcription and to realize a manufacturing method of a substrate for a hybrid optical integrated circuit provided with an antireflection film which is optimized to a cross section of an optical waveguide.例文帳に追加

転写の整列誤差を最小化し、光導波路の断面に最適化された反射防止膜を備えるハイブリッド光集積回路用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Magnification correction amount in the x-axis direction of the mask is acquired, based on an alignment error Δx2 in the x-axis direction between other x-axis marks and the marks of the mask corresponding to it.例文帳に追加

他のｘ軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのｘ軸方向の位置合わせ誤差Δｘ_2に基づいて、マスクのｘ軸方向の倍率補正量を求める。 - 特許庁

Thus, the data side probe 26 and the data electrode 60 are accurately aligned, and alignment error can be prevented even when a large liquid crystal panel is irradiated with a high-luminance backlight.例文帳に追加

これにより，データ側プローブ２６とデータ電極６０との位置合わせが正確になり，大型の液晶パネルを高輝度バックライトで照明した場合でもアライメント不良を回避できる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel which can have fine pixels and a high aperture rate by eliminating the concern for an alignment error while laminating substrates and can also have improved display quality.例文帳に追加

基板の貼り合わせ時のアライメント誤差を考慮する必要を無くして画素の微細化や高開口率化が可能であるとともに表示品位を向上可能な液晶パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern layout that can prevent changes in transistor characteristics caused by rounding which generates inside a corner of a diffusive region or a gate wiring and by an alignment error of a mask.例文帳に追加

拡散領域あるいはゲート配線の角部内側に発生する丸まりとマスクの位置合わせ誤差とに起因するトランジスタ特性の変動を防止し得るパターンレイアウトを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can simply decrease the error of alignment between a plurality of layers, and reduce an environmental load and an electronic device manufacturing method.例文帳に追加

複数レイヤー間の位置合わせ誤差を小さくすることができ、簡便で環境負荷を低減させることが可能となるパターン形成方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reinforcing bar joining device provided with a constitution capable of keeping an alignment precision when the reinforcing bars are joined regardless of the occurrence of the assembly error of parts with the lapse of time.例文帳に追加

経時的な部品の組み付け誤差の発生に関係なく鉄筋接合時での芯合わせ精度を維持することができる構成を備えた鉄筋接合装置を提供すること。 - 特許庁

To accurately expose a second pattern in alignment by compensating the error of a first exposure and the distortion of a printed board when the first exposure is a D/D system and a second exposure is a GA system.例文帳に追加

第１露光がＤ／Ｄ方式で、第２露光がＧＡ方式の場合に、第１露光の誤差とプリント基板の歪みを補償して第２パターンを精度良くアライメントにて露光させる。 - 特許庁

To keep the alignment precision of paper sheet-like materials during the feed of the paper sheet-like materials in a carrying direction regardless of the working error of the paper sheet-like materials to be image-printed.例文帳に追加

画像印刷される枚葉紙状材料の加工誤差とは無関係に搬送方向での枚葉紙状材料の送り中に枚葉紙状材料の整列精度が維持されるようにする。 - 特許庁

To provide an organic EL display panel making the TAB area of the film type device of an organic EL display device as small as possible, and enabling a stable connection even if an alignment error is large at the time of alignment of the film type device connected to an electrode line by TAB method.例文帳に追加

有機ＥＬ表示デバイスのフィルム型デバイスのＴＡＢ領域をできるだけ小さくし、ＴＡＢ方式によって電極ラインと連結するフィルム型デバイスのアライン時のアライン誤差が大きくても安定的な連結が可能であるようにした有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To reduce locational error in sealing with a funnel and suppress the aggravation of moldability due to the existence of an alignment part and the occurrence of a crack or the like, while realizing an alignment part appropriately capable of coping with long-distance from the seal edge face to a break line in a flat panel.例文帳に追加

フラットパネルにおけるシールエッジ面からブレイクラインまでの遠距離化に適切に対応できるアライメント部の構成を実現して、ファンネルとの封合時における位置決め誤差を可及的に低減させると共に、アライメント部の存在による成型性の悪化及びクラックの発生等を抑制する。 - 特許庁