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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > cooling processingに関連した英語例文

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cooling processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 626



例文

To provide a data processor having a cooling fan by which the processor can perform data processing always within the maximum limits of specifications.例文帳に追加

プロセッサによるデータ処理が常に仕様の最大範囲内で実行できる冷却ファンを有するデータ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of suppressing an increase in cost thereof and capable of remarkably improving the cooling efficiency of a focus ring.例文帳に追加

コスト上昇を抑制する共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cylinder block of an internal combustion engine improved in a degree of freedom of processing in a cooling water passage arranged in a cylinder wall.例文帳に追加

シリンダ壁に設けられる冷却水通路の加工の自由度を向上させることが可能な内燃機関のシリンダブロックを提供する。 - 特許庁

To provide a processing system for a substrate, in which interference of heat by gas flow between heating process units and cooling process units is suppressed.例文帳に追加

加熱処理装置と冷却処理装置との間で,気流による熱の干渉を抑制させる基板の処理システムを提供する。 - 特許庁

例文

Then, hydrogen fluoride gas cooled by the reaction cooling means 25 is supplied to the inside of the processing chamber 11 as cleaning gas.例文帳に追加

そして、反応冷却手段25によって冷却されたフッ化水素ガスを、クリーニングガスとして処理チャンバー11の内部に供給する。 - 特許庁


例文

The cooling clamp 4 holds the substrate 2 by pressing the substrate 2 from an upper surface 2b (processing surface) side onto the substrate placing platen 3.例文帳に追加

冷却クランプ4は、基板2を上面2b(処理面)側から基板載置台3に押さえつけることによって基板2を保持する。 - 特許庁

To provide a dicing device which has a side nozzle for effectively cooling a blade and a processing point by effectively utilizing cutting water.例文帳に追加

切削水を有効利用し,ブレード及び加工点を効果的に冷却する側面ノズルを有するダイシング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam processing device capable of preventing deviation of an ion beam to the center, and of keeping a cooling effect of an acceleration grid.例文帳に追加

イオンビームの中央への偏りを防止するとともに、加速グリッドの冷却効果を維持できる電子ビーム加工装置を提供する。 - 特許庁

On the bottom of the processing cavity, a substrate opening is also formed to provide a duct line used for gas cooling, electrical connection, and so on.例文帳に追加

前記処理キャビティの底部には、ガス冷却や電気接続等に利用される管路を設けるために、基板開口も作成される。 - 特許庁

例文

A substrate processing apparatus according to this invention comprises: at least a processing chamber including a microwave supply part supplying microwaves to a surface of a substrate and a gas supply part supplying an inactive gas to the surface of the substrate; and conveyance chambers which respectively include a cooling mechanism cooling the substrate that has been subjected to processing in the processing chamber and a conveyance mechanism conveying the substrate cooled by the cooling mechanism.例文帳に追加

本発明に係る基板処理装置は、基板の表面に向かってマイクロ波を供給するマイクロ波供給部、及び、基板の表面に向かって不活性ガスを供給するガス供給部を少なくとも備える処理室と、前記処理室において処理がなされた基板を冷却する冷却機構を備える搬送室、及び、前記冷却機構によって冷却された基板を搬送する搬送機構を少なくとも備える搬送室とより少なくとも構成される。 - 特許庁

例文

In order to rise the temperature of devices in the electronic equipment serving as an object of the thermic test to a junction temperature, rotational frequency of a cooling fan is computed (processing 504) from a prepared temperature control table and controls the cooling fan so as to rotate at the computed rotational frequency (processing 505).例文帳に追加

温度試験の対象となる電子機器内のデバイスの温度をジャンクション温度まで高めるため、予め作成しておいた温度制御テーブルから、冷却ファンの回転数を算出し(処理504)、算出した回転数で冷却ファンが回転するように制御する(処理505)。 - 特許庁

In a vehicle stop condition immediately after the processing for stopping the electric pump 34, processing for operating the electric pump 34 is performed so that the cooling water in the intercooler 18 is replaced by low-temperature cooling water prepared in the LT radiator 32 during the stop period of the electric pump 34.例文帳に追加

そして、電動ポンプ34を停止させる処理の直後の停車状態において、電動ポンプ34が停止される期間にLTラジエータ32内に準備された低温の冷却水によってインタークーラ18内の冷却水を入れ替えるべく電動ポンプ34を操作する処理を行う。 - 特許庁

To provide a cold plate in which cooling efficiency is enhanced at the time of cooling the heating components, e.g. a central processing unit or integrated circuits, in a computer while sustaining some degree of strength or machining efficiency.例文帳に追加

コンピューターの中央演算処理装置や集積回路等の発熱部品を冷却する際に、冷却効率が向上するとともに、ある程度の強度や加工効率も維持したコールドプレートを提供する。 - 特許庁

The electrodes 1, 2 are preferably in a cylindrical structure and, it is particularly preferable that a cooling material supply means 20 is provided for supplying cooling material 9 into the cylindrical electrodes to thereby decrease the temperature of the electrodes during plasma processing.例文帳に追加

電極は、円筒状構造であることが好ましく、特に、プラズマ処理中、電極温度を下げるために円筒電極の内部に冷却材を供給する冷却材供給手段を設けることが好ましい。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which receives less amount of a radiation heat influence from a substrate having a higher temperature on a substrate having a lower temperature when plural substrates are cooled in one cooling chamber thereby suppressing reduction in cooling rate of the substrate having the lower temperature.例文帳に追加

冷却室内で複数枚の基板を冷却する際に、温度の高い基板の輻射熱の影響を温度の低い基板が受けにくくなり、温度の低い基板の冷却速度の低下を抑える。 - 特許庁

The cooling fan 9 is positioned at the end of the groove 15, and air is ventilated through the duct 20 in the driving state of the cooling fan 9 whereby the radiation of heat of an IC 8 for processing an image is promoted.例文帳に追加

溝部15の端部には冷却用ファン9が位置しており、冷却用ファン9の駆動状態では、ダクト20を通じて空気が送風されることにより画像処理用IC8の放熱が促進される。 - 特許庁

To prevent a keyboard from locally becoming hot by sharing the keyboard where a plurality of keys are arranged as a cooling member, and dispersing and cooling heat being generated from such heat generation element as a CPU, due to the improvement of processing performance.例文帳に追加

複数のキーが配置されるキーボードを放熱部材兼用とし、処理性能の向上に伴うCPU等の発熱素子から発生する熱を、分散かつ放熱し、キーボードが局所的に熱くなるのを防止する。 - 特許庁

When an HDD starts recording or reproducing operation, the first cooling fan is rotated at high speed by the processing of a second rotation control means and a second cooling fan near the HDD is rotated.例文帳に追加

ここで、HDDが記録または再生の動作に入ると、第2の回転制御手段の処理により、第1冷却用ファンが高速回転すると共に、HDD近辺の第2冷却用ファンが回転する。 - 特許庁

The CPU processing speed control program 101 controls the number of operating cores among the cores(1)11a and (2)11b of the CPU11 within the range of the cooling capability of the cooling fan 25 driven at the rotation speed.例文帳に追加

そして、CPU処理速度制御プログラム101は、この回転速度で動作する冷却ファン25の冷却能力の範囲内で、CPU11が有するコア(1)11a,コア(2)11bの稼働数を制御する。 - 特許庁

In a cryogenic cooling device, when the chip is mounted to the cooling head of a refrigerator, a substrate for processing and a power transmission component with a square frame shape etc. are provided and while a chip carrier substrate mounted with the chip, a printed wiring substrate, the power transmission component and the substrate for processing are superposed on each other, the substrate for processing is fixed to the refrigerator by screws etc.例文帳に追加

極低温冷却装置において、チップを冷凍機の冷却ヘッドに実装する際に、加圧用の基板及び四角枠状等の力伝達部品を設けて、チップを搭載したチップキャリア基板とプリント配線基板と力伝達部品と加圧用の基板とを重ねた状態で、ネジ等によって加圧用の基板を冷凍機に固定する。 - 特許庁

In this facility for processing exhaust gas of the ash melting furnace, the exhaust gas exhausted from the ash melting furnace 2 is introduced into a temperature reducing tower 3 having a tower wall heat-exchanged by cooling water, is cooled and simultaneously volume-reduced by a radiation cooling means, and the gas is performed with combustion processing by a combustion means 34 after dust removal processing.例文帳に追加

灰溶融炉の排ガスを処理する設備において、その灰溶融炉2から排出される排ガスを、冷却水により熱交換される塔壁を備える減温塔3内に導入して輻射冷却手段によって冷却すると同時に減容して、除じん処理後に、燃焼手段34によりガスを燃焼処理する。 - 特許庁

Individual controllers 22 are provided on the respective processing units 2, each of which controllers adjusts an opening of the flow rate adjusting valve 20 based on the temperature of cooling water discharged from the processing unit detected by the temperature sensor 21 to alter a supply flow rate of the cooling water to the processing units 2.例文帳に追加

各処理ユニット2にはそれぞれ、個別コントローラー22が備えられ、各個別コントローラー22が、温度センサ21で検知されている処理ユニット2から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁20の弁の開度を調節制御して、処理ユニット2への冷却水の供給流量を変更するように構成している。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for supplying a combustible processing fluid or its vapor to a substrate for processing, which is capable of lowering a concentration of an inflammable gas in exhaust by cooling the exhaust from a periphery of the substrate.例文帳に追加

可燃性の処理流体又はその蒸気を基板に供給して処理を行う装置において、基板周辺からの排気を冷却することにより排気中の引火性のガスの濃度を低下することを可能にした基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cutting and grinding processing method using a cutting and grinding processing oil agent satisfying both lubrication property and cooling property with sufficient balance from the aspect of processing efficiency, being hardly decayed and excellent in a waste liquid treatment property from the aspect of environment.例文帳に追加

加工効率面からは潤滑性と冷却性の両方をバランスよく満たし、しかも腐敗しにくく、また環境面からは廃液処理性に優れた切削・研削加工用油剤を用いて、切削・研削加工する方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain guaranty of cooling a device for forming a continuous body in a machine of the tobacco processing industry, with a form as simple and efficient as possible.例文帳に追加

煙草加工産業機械の連続体成形装置の冷却を出来るだけ簡単で効率的形式で保証することを提供すること。 - 特許庁

An image heating apparatus is characterized by stopping cooling operation with the end of image heating processing regardless of the detected temperature of an image heating member.例文帳に追加

画像加熱部材の検出温度に関わらず画像加熱処理の終了に伴い冷却動作を停止させることを特徴とする。 - 特許庁

An illustrative embodiment provides a computer implemented method, a data processing system, and a computer program product for adjusting cooling setting.例文帳に追加

例示的実施形態は、冷却セッティングを調整する、コンピュータ実施される方法、データ処理システム、およびコンピュータ・プログラム製品を提供する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus capable of cooling a substrate by preventing the substrate from being cracked by a simple constitution, and a film deposition apparatus using the same.例文帳に追加

簡易な構成により基板割れを防止して基板を冷却することができる処理装置及びこれを用いた成膜装置を提供する。 - 特許庁

The air-conditioner is used for cooling of a server room where servers are arranged, which sucks air in the room and blows it out after passing it through a processing unit.例文帳に追加

空調機は、ルーム内空気を吸い込み処理ユニットに通風してから吹き出すサーバーを配列したサーバールームの冷却に用いられる。 - 特許庁

After the processing treatment is performed within the temperature range of 600-750°C, the steel wire rod is cooled to 550°C, preferably at a cooling rate of100°C/sec.例文帳に追加

600〜750℃の温度範囲における加工処理終了後、550℃までの冷却速度は、100℃/sec.以下であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a reduced pressure dryer uniformly processing a substrate by rapidly cooling supporting pins with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成でありながら、支持ピンを迅速に冷却して、基板を均一に処理することが可能な減圧乾燥装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a water-cooled motor which can improve its cooling efficiency and manufacture cost, and a method of processing a waterway in the motor frame.例文帳に追加

冷却効率の向上と、製造コストの低減とを図ることができる水冷モータおよびそのモータフレームの水路加工方法を提供する。 - 特許庁

To quickly and effectively prevent a wafer after processing from cooling down in a semiconductor manufacturing device comprising a vertical reactor.例文帳に追加

縦型反応炉を具備する半導体製造装置に於いて、処理後のウェーハを迅速且効果的に冷却することを抑止しようとするものである。 - 特許庁

To provide a production method for a bent resin hose capable of accurately performing heating, bending processing and cooling at a short cycle and excellent in mass productivity.例文帳に追加

加熱、曲げ加工、冷却を短いサイクルで精度良く行うことができ、量産性に優れた屈曲樹脂ホースの製造法を提供する。 - 特許庁

A stage 2 relatively moves the workpiece 110 in the scheduled processing line with respect to the laser irradiation area and the cooling area.例文帳に追加

ステージ2は、加工予定線の方向に、加工対象物110をレーザ照射領域および冷却領域に対して相対移動させる。 - 特許庁

The semiconductor substrate processing apparatus includes a processing chamber 101, a transfer chamber 104, a cooling chamber 107, a load lock chamber 109, an unload lock chamber 110, a transfer machine 113, and a load port section 114.例文帳に追加

半導体基板処理装置は、処理室101、搬送室104、クーリング室107、ロードロック室109、アンロードロック室110、移載機113、ロードポート部114を備えて構成される。 - 特許庁

To support and seal a cover in a manner that it can slide freely and has excellent airtightness on a processing container for preheating or cooling by engineering supporting and sealing mechanisms of the cover to the processing container.例文帳に追加

予熱や冷却等の処理容器に対する蓋体の支持及び密閉機構を工夫して、当該処理容器上において、蓋体を摺動自在に、かつ、気密性良く支持及び密閉できるようにする。 - 特許庁

Accordingly, the cutting water is effectively used and as cooling efficiency of the blade and the processing point rises, chipping of a processing face or abnormal cutting is decreased, and damages or wears of the blade are restricted.例文帳に追加

従って,切削水が有効利用されており,ブレード及び加工点の冷却効率が上昇するので,加工面のチッピングや異常切断を低減し,ブレードの破損や磨耗を抑制する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is superior in heating efficiency and cooling efficiency, has no risk that various characteristics of a workpiece are adversely affected after a plasma processing and has comparatively low manufacture cost.例文帳に追加

加熱効率および冷却効率に優れ、プラズマ処理後における被処理物の諸特性に悪影響が及ぶおそれがなく、製造コストも比較的少ないプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

And by adopting the plasma processing, in which a temperature rise of the shroud tube 18 is smaller as compared with heat-treatment by burner irradiation, cooling time required after the plasma processing can be short enough.例文帳に追加

しかも、バーナ照射による加熱処理に比してシュラウドチューブ18の温度上昇が小さいプラズマ処理の採用により、プラズマ処理後に必要な冷却時間を十分に短いものとする。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a plasma processing device which allow the suppression of leak of a cooling gas supplied to between an electrostatic chuck for electrostatically attracting an insulative substrate and the substrate.例文帳に追加

絶縁性基板を静電的に吸着する静電チャックと基板との間に供給される冷却ガスのリークを抑えることができるプラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus for scribe processing includes a holder of holding a workpiece, a scriber performing scribe processing on the workpiece held by the holder and including a scriber shank having a diamond chip arranged atop, a moving module of relatively moving the holder and the scriber, and a cooling jet ejection unit including a cooling jet ejection nozzle emitting a cooling jet to a processing point where the workpiece and diamond chip abut against each other.例文帳に追加

スクライブ加工装置であって、被加工物を保持する保持手段と、該保持手段で保持された被加工物にスクライブ加工を施す、ダイアモンドチップが先端に配設されたスクライバシャンクを含むスクライブ手段と、該保持手段と該スクライブ手段とを相対移動させる移動手段と、被加工物と該ダイアモンドチップとが当接する加工点へ冷却ジェットを噴射する冷却ジェット噴射ノズルを含む冷却ジェット噴射ユニットと、を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

A first cooling pipe 38 for cooling an SPM liquid attached to an outside wall surface 37 of the substrate processing device is arranged on an attachment position of the SPM liquid on the outside wall surface 37 of a guiding part 24 of an inside constructional member 20.例文帳に追加

内側成部材20の案内部24の外側壁面37におけるSPM液の着液位置には、その外側壁面37に着液するSPM液を冷却するための第1冷却管38が配設されている。 - 特許庁

A processing apparatus 1 as the vapor deposition apparatus comprises a susceptor 5, a reaction tube 3, a cooling member (a gap between an outer periphery member 6 and an inner periphery member 8 of an upper wall 4 of the reaction tube, and a cooling material 10), and a heater 9.例文帳に追加

気相成長装置としての処理装置1は、サセプタ5と反応管3と冷却部材(反応管上壁4の外周部材6と内周部材8との間の間隙および冷却材10)とヒータ9とを備える。 - 特許庁

When the wafer W is placed on the cooling plate 60 and cooled, the cover 66 is moved down to form a processing chamber S, and the cover 66 at the low temperature is brought near to the wafer W to facilitate the cooling of the wafer W.例文帳に追加

ウェハWが冷却板60上に載置され,冷却される際に,蓋体66を下降させて,処理室Sを形成すると共に,低温の蓋体60をウェハWに近づけて,ウェハWの冷却を促進させる。 - 特許庁

To suppress lowering of vacuum degree due to temperature rise of cooling water, and reduce a quantity of sealing water for cooling the inside of a casing of a roots blower, in a suction processing device equipped with a multi-stage roots blower.例文帳に追加

多段式ルーツブロワーを備えた吸引処理装置において、冷却水の温度上昇による真空度の低下を抑制することができるとともに、ルーツブロワーのケーシング内部を冷却するための封水の量を削減すること。 - 特許庁

To provide a facility for processing distilled spirit lees without using cooling water for cooling a gas generated by the distillation of a concentrated liquid obtained from distilled spirit lees and capable of decreasing the amount of steam for the evaporation of alcohol.例文帳に追加

焼酎粕から得られる濃縮液を蒸留して得られる気体を冷却するための冷却水をなくすことができ、さらにアルコール蒸発のための蒸気の使用量を低減できる焼酎粕処理設備を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus provided with a wafer holder by which the cooling speed of a heater can be improved and the uniformity of temperature distribution of the heater at the time of cooling can be secured and capable of sharply shortening the processing time of a semiconductor wafer.例文帳に追加

ヒータの冷却速度の向上と共に、冷却時のヒータの温度分布の均一性を確保できるウエハ保持体を備え、半導体ウエハの処理時間を大幅に短縮することができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

Individual supply tubes 11 are branched from an original supply tube 10 communicated with a cooling water supply source, through each of which individual supply tubes 11 cooling water is individually supplied to each processing unit 2.例文帳に追加

冷却水供給源に連通接続された供給元管10から個別供給管11が分岐されて、各個別供給管11を介して各処理ユニット2に冷却水を個別に供給するように配管されている。 - 特許庁

例文

To provide a method for improving uniformity of a processing speed for cooling a wafer supporter at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.例文帳に追加

容量結合プラズマリアクタにおいて、ウエハ支持体を均一な温度で冷却する加工速度の均一性向上をすることができる方法を提供する。 - 特許庁




  
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