「dry method」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having high maximum density, high sensitivity and less fog, giving a silver tone which is a good cold black toner, and excellent in image storage stability, and an image forming method using the same.例文帳に追加

最高濃度及び感度が高く、カブリが少なく、銀色調が良好な冷黒調であり、かつ画像保存安定性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hair treatment composition which can impart dry touch and softness even to the hair having high damage degree and can control the scattering and spreading of hair tips, and to provide a method for treating hair with the composition.例文帳に追加

損傷度合いの大きな毛髪に対しても、サラサラとした感触ややわらかさを付与でき、かつ毛先のチリツキおよび広がりを抑え得るヘアトリートメント用組成物と、該組成物を用いた毛髪の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a friction transmission belt and a method of manufacturing the friction transmission belt excelling in power transmission property and sound reducing property in both dry travel and wet travel and maintaining its effect over a long period of time.例文帳に追加

乾燥走行時、湿潤走行時ともに動力伝動性及び静音性に優れると共に、長期に渡ってその効果を持続可能な摩擦伝動ベルト、および摩擦伝動ベルトの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for drying goods, which can dry an article having a small-diameter mouth such as an eyedropper or the like completely in a short time with a small quantity of air, and also can discharge the particles remaining in the article.例文帳に追加

目薬容器等の小口径の口を有する物品を少量のエアーで短時間で完全に乾燥させると共に物品内に残留した粒子を排出させることができる物品の乾燥方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a friction test method and a friction tester capable of measuring stably a friction coefficient at a dry time by solving a problem of generation of a denatured layer of rubber having high adhesion generated on the surface of a rubber test piece.例文帳に追加

ゴム試験片の表面に発生する粘着力の高いゴムの変成層の発生の問題を解決し、ドライ時の摩擦係数の安定した測定を行うことが可能な摩擦試験方法及び摩擦試験機を提供する。 - 特許庁

The granule is characterized in that a powder which contains 71-85 mass% of a fish scale powder is granulated by a dry granulation method, wherein the bulk density is 0.39×10^6-0.52×10^6 g/m^3, and the angle of repose is 42-55 degrees.例文帳に追加

魚鱗粉末を７１〜８５質量％含有する粉粒体を乾式造粒法で造粒し、嵩密度が０．３９×１０^6〜０．５２×１０^6ｇ／ｍ^3であって、安息角が４２〜５５度であることを特徴とする顆粒。 - 特許庁

To provide a forming method of a fluorescent screen which is capable of preventing differences from occurring in dry speed in pigment films, so that it can form a superior quality fluorescent screen in which dots missing do not occur.例文帳に追加

蛍光面の形成において、顔料膜の乾燥速度に差が生じることを防止し、それによって顔料膜のドット落ちのない優れた品質の蛍光面を形成することを可能とする蛍光面の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminate strip material for lead frame in which the laminate strip material can be produced continuously within an industrially practical range of technology, i.e., at a low rolling rate, and the strip material can be bonded surely to a dry film layer.例文帳に追加

工業的に十分実用可能な技術の範囲で、即ち、低圧延率で連続生産の可能であり且つ帯材と乾式成膜層とが確実に接合されるリードフレーム用積層帯材の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this , BET specific area, pH, electric conductivity and insoluble residue of fly ash are measured, to determine the necessity of treatment of fly ash, and treating method (for example, dry classification, wet classification, water washing).例文帳に追加

フライアッシュのＢＥＴ比表面積、ｐＨ、電気伝導度、及び不溶残分を測定し、これらの測定値に応じて、フライアッシュの処理の要否及び処理方法（例えば、乾式分級、湿式分級、水洗等）を定めるフライアッシュの処理方法。 - 特許庁

The intermediate layer is formed on the anode surface using a high frequency plasma treatment in a dry-process and spin-coating method in a wet-process, and then desirably is cleaned using the optimum treatment to control the smoothness, adhesion, and film thickness.例文帳に追加

中間層は、ドライプロセスでは高周波プラズマ処理法、ウェットプロセスではスピンコート法などを用い、陽極表面に成膜した後、望ましくは適切な最適化処理（洗浄）を行い、平滑性、付着性、膜厚の調整を行う。 - 特許庁

To provide a wafer polishing method wherein scraps resulting from polishing are kept from being entrapped in between the wafer periphery and a protective tape in the process of dry-polishing with a pad the rear surface of the wafer with a protective tape attached to its front surface.例文帳に追加

ウエーハの表面に保護テープを貼着し裏面を研磨パッドによって乾式研磨する際にウエーハの外周のウエーハと保護テープとの間に研磨くずが付着しないようにすることができる、ウエーハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having high sensitivity and low fog in spite of a small amount of silver, and improved in image preservability in long-term storage, image tone and density unevenness, and also to provide an image forming method using the same.例文帳に追加

銀量が少量でありながら高感度、低カブリで、長期保存時の画像保存性、画像色調、濃度ムラが改良された銀塩光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which causes little degradation in a profile, is improved in pattern collapse and suppresses generation of scum, not only in normal exposure (dry exposure) but in immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for dry processing a fine structure capable of uniformly drying a substrate having a fine pattern of not more than 30 nm and a large diameter of not less than 100 mm in a short period of time without causing the fall-down of the pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、３０ｎｍ以下の微細パターンを持ち、１００ｍｍ以上の大口径基板をパターン倒れ無く、短時間で均一に乾燥できる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

To obtain an underwater sliding member which has sufficient abrasion resistance even in an environment having a high foreign matter concentration and has excellent sliding properties under a condition of dry operation in a start and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

異物濃度の高い環境においても充分な耐摩耗性を有するとともに、起動時のドライ運転の条件下においても良好な摺動特性を有する水中用摺動部材ならびにその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The glass fiber paper crushed material is constituted so that fiber length and fiber diameter approximates the original fiber length and fiber diameter by subjecting the glass fiber paper comprising glass fiber as main fiber to dry crushing by means of a tear method while leaving the organic binder resin content as it is.例文帳に追加

この課題は、ガラス繊維を主体繊維としたガラス繊維紙を、有機バインダー樹脂分を残したまま引き裂き方式で乾式破砕することにより元の繊維長および繊維径に近くした破砕物によって解決される。 - 特許庁

The method for manufacturing the hollow fiber membranes is characterized in that guides arranged at an equal interval and in a zigzag shape in the direction vertical to the running direction of the hollow fiber membranes are arranged in the bath and the plurality of hollow fiber membranes are caused to run while dividing fibers for every fiber, in the method for manufacturing the plurality of hollow fiber membranes by the dry and wet spinning method.例文帳に追加

複数の中空糸膜を乾湿式紡糸法により製造する方法において、浴中に中空糸膜の走行方向と垂直の方向に等間隔をおいてかつジグザグに配列されたガイドを設置し、複数本の中空糸膜を糸条毎に分繊させて走行させることを特徴とする中空糸膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for cleaning deposition film forming device, by which a high-quality deposited film of, particularly, high quality electrophotographic sensitive material can be obtained stably, by efficiently removing by-products in a reaction vessel, a dry etching method, and to provide a method of manufacturing article including a step of executing either of the methods.例文帳に追加

反応容器内の副生成物を効率的に除去することができ、高品質の堆積膜、特に高品質の電子写真感光体を安定して得ることが可能な堆積膜形成装置のクリーニング処理方法、ドライエッチング方法、およびこれらの方法のいずれか一方を行う工程を含む物品の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the optical waveguide for forming the optical waveguide in an oxide compound substrate includes first process of forming the optical waveguide in the oxide compound substrate by dry etching process, and a second process of re-coupling the oxygen damaged by the dry etching process by applying heat treatment to the oxide compound substrate having the optical waveguide in an oxygen atmosphere.例文帳に追加

酸化物化合物基板に光導波路を形成する光導波路の製造方法において、ドライエッチングプロセスにより、前記酸化物化合物基板に光導波路を形成する第１の工程と、前記光導波路が形成された前記酸化物化合物基板を、酸素雰囲気中で熱処理を行うことにより、前記ドライエッチングプロセスで欠損した酸素を再結合させる第２の工程とを備えた。 - 特許庁

The present method comprises providing a substrate in which a resistance heater for heating ink is formed, forming a shallow first trench communicating with an ink chamber to be formed later on a first surface of the substrate in which the resistance heater is formed through a wet or dry etching step, and forming a deep second trench communicating with the first trench and penetrating the substrate on a second surface through a dry etching step.例文帳に追加

本方法は，インク加熱用の抵抗発熱体を形成した基板を準備し，湿式または乾式エッチング工程を介して抵抗発熱体が形成された基板の第１面に後で形成されるインクチャンバと連通する浅めの第１のトレンチを形成し，乾式エッチング工程を介して基板の第２面に第１のトレンチと連通し基板を貫通する深めの第２のトレンチを形成する。 - 特許庁

The manufacturing method for a dry polymer granule comprises the steps of combining one or more kinds of emulsion polymers and one or more kinds of surfactants having an HLB value of 10-25 and of drying the combined product, with the dry polymer granule having such an elevated minimum ignition energy, a lowered or unchanged maximum explosion pressure and a lowered explosion strength (Kst) as is combined with a decreased dusting level.例文帳に追加

１種又は２種以上のエマルジョンポリマー及び１種又は２種以上の１０〜２５のＨＬＢ値を有する界面活性剤を組み合わせる工程、及び組み合わせ物を乾燥する工程を含む、減少したダスティングレベルと結び付けられた、増加した最小発火エネルギー、低下したまたは変化しない最大爆発圧力及び低下した爆発強度（Ｋｓｔ）を有する乾燥ポリマー顆粒の製造方法。 - 特許庁

When molding the FRP-sandwiched panel 10 by a VARTM molding method, in a stage of dry-laminating a reinforcing fiber material 1, a core material 2 and a reinforcing fiber material 3 on a mold face as a panel constitution member, a skin forming material 4 formed in advance is dry-laminated on at least one skin face of the laminate, and the laminate and skin forming material are integrally configured by impregnation of a thermosetting resin.例文帳に追加

ＦＲＰサンドイッチパネル１０をＶＡＲＴＭ成形法により成形する際に、パネル構成部材として、強化繊維材１、芯材２、強化繊維材３を型面上にドライ積層する段階で、この積層体の少なくとも一方の表皮面に予め形成された表皮形成材４をドライ積層し、熱硬化性樹脂の含浸により積層体と表皮形成材とを一体構造にする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a polysilicon layer 3 on a silicon substrate 1, forming a photoresist mask 5 on the polysilicon layer 3, dry etching the polysilicon layer 3 with the use of the photoresist mask 5 as a mask, and depositing a by-product 6 produced in the act of dry etching the polysilicon layer 3 on and on the side of the photo resist mask 5.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、シリコン基板１上にポリシリコン層３を形成する工程と、ポリシリコン層３上にフォトレジストマスク５を形成する工程と、フォトレジストマスク５をマスクにしてポリシリコン層３をドライエッチングするとともに、ポリシリコン層を３ドライエッチングしている最中に生成される副生成物６を、フォトレジストマスク５の上面および側面の上に堆積する工程とを有する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the crystal oscillator which forms a coating film consisting of photopolymer on the quartz plate, forms a desired shape by exposing resin with exposed light by using a mask and performs batch dry etching processing of the quartz plate by using the resin shape, transmissivity of the exposed light transmitted the mask is controlled and the batch dry etching processing of the quartz plate is performed.例文帳に追加

水晶板上に感光性樹脂からなる被膜を形成し、マスクをもちいて露光光により前記樹脂を感光させることによって、所望の形状を形成し、前記樹脂形状を用いて水晶板を一括ドライエッチング加工する水晶振動子の製造方法であって、前記マスクを透過した露光光の透過率が制御されかつ水晶板を一括ドライエッチング加工することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a dry etching method in which machining with superior machining precision and quality can be performed by reducing in-plane variance in etching rate, by solving the problem that the outer periphery of a sample is insufficiently machined because of in-plane variance in etching rate in the sample is large as to dry etching of an oxide film etc., is large to possibly generate problems of machining precision and quality.例文帳に追加

酸化膜等のドライエッチングに関し、試料内におけるエッチングレートの面内バラツキが大きいために試料外周部に加工量の不足部分が発生して加工精度や品質面において問題発生の恐れがあるという課題を解決し、エッチングレートの面内バラツキを低減して加工精度や品質面において優れた加工を行うことができるドライエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes: a step of selectively dry-etching a silicon substrate 101 with a first etching gas to form a first trench 109; and a step of further dry-etching the silicon substrate 101 on the bottom of the trench 109 with a second etching gas to form a second trench 113 including a part radially expanding downwardly from the bottom of the first trench 109.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、第１エッチングガスを用いてシリコン基板１０１を選択的にドライエッチングして第１トレンチ部１０９を形成する工程と、第２エッチングガスを用いて、第１トレンチ部１０９の底部においてシリコン基板１０１をさらにドライエッチングし、第１トレンチ部１０９の底部から下方向に向かって拡径した部分を含む第２トレンチ部１１３を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The positive charge type toner containing fine dry silica powder and fine wet silica powder as additives, and the method for producing the toner are provided, wherein fine dry silica powder having a positive charge type polar group and a hydrophobic group, and fine wet silica powder surface-treated with a quaternary ammonium salt type silane compound and having a fluorine-containing negative charge type polar group are used.例文帳に追加

外添剤として、乾式シリカ微粉末および湿式シリカ微粉末を含有してなる正帯電トナーおよびその製造方法を提供するにあたり、正帯電極性基および疎水性基を有する乾式シリカ微粉末と、フッ素含有負帯電極性基を有するとともに、第４級アンモニウム塩型シラン化合物により表面処理してある湿式シリカ微粉末とをそれぞれ使用する。 - 特許庁

The method for producing the polymer gel comprises: a step of preparing a first gel containing a first polymer having a crosslinked network structure and a liquid; a step of freeze-drying and pulverizing the first gel to obtain dry gel fine particles; a step of immersing the dry gel fine particles in a solution containing a second monomer to obtain a precursor liquid; and a step of polymerizing the second monomer in the precursor liquid.例文帳に追加

架橋網目構造を有する第１のポリマーと液体を含む第１のゲルを調製する工程と、該第１のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、第２のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、前記前駆体液中の第２のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form dense patterns without receiving the influence of standing waves and can form the patterns having a high aspect ratio in a dry etching step by combining lower layer films usable as thin films having excellent dry etching resistance and a resist film containing a fluorine-containing polymer having high transparency at a wavelength ≤193 nm and multilayered films for forming the patterns.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ薄膜として使用可能な下層膜と、波長１９３ｎｍ以下において透明性の高いフッ素含有重合体を含有するレジスト被膜とを組み合わせることにより、定在波による影響を受けることがなく、緻密なパターンを形成でき、ドライエッチング工程において高いアスペクト比を有するパターンを形成できるパターン形成方法およびパターン形成用多層膜を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the oxide magnetic material, having a dry molding process for obtaining a molded body by dry-molding a raw material mixture containing oxide magnetic particles and a lubricant in a magnetic field, a compound having a structure of acid anhydride, obtained by subjecting two carboxy groups in a compound having, as functional group, a plurality of carboxy groups in the molecule to dehydration reaction, is added as the lubricant.例文帳に追加

酸化物磁性体粒子と潤滑剤とを含む原料混合物を磁場中で乾式成形して成形体を得る乾式成形工程を有する酸化物磁性体の製造方法において、官能基として、分子中に複数のカルボキシル基をもち、分子内の二つのカルボキシル基を脱水反応させることによって得られる酸無水物の構造をもつ化合物を潤滑剤として添加する。 - 特許庁

To provide a double floor supporting leg capable of reliably and easily installing floor backing in a dry type noise-insulating double floor construction and stabilizing it without degrading the shock absorbing ability of the floor backing member and also provides the construction method using the leg.例文帳に追加

乾式遮音二重床構造における床下地の確実で容易な施工を可能にし、床下地材の緩衝撃性を損なうことなく、安定させることができる二重床支持脚及び、それを用いた施工方法を提供する。 - 特許庁

In the dry type separating method, an object to be separated is charged in a solid-gas fluidized bed wherein a powder is fluidized and the apparent density of the solid-gas fluidized bed is utilized to separate the object continuously every component.例文帳に追加

本発明の乾式分離方法は、粉体を流動化させた固気流動層に被分離対象物を投入し、固気流動層の見掛け密度を利用して、前記被分離対象物を成分毎に連続的に分離することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an optical recording medium which has the high sensitivity to enable application to a high-density recording medium, a three-dimensional display, a holographic optical element, etc., and can make high-diffraction efficiency, good storage stability and dry processing compatible with each other, and a hologram recording method.例文帳に追加

高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、乾式処理を両立することができる光記録媒体とホログラム記録方法を提供する。 - 特許庁

In the removal process of the semiconductor layer 14, a dry etching method is used so that even an electrode film 19 hidden under a resist 20 can be prevented from being removed, and that any level in difference can be prevented from being generated between the electrode 15 and 16 and the semiconductor layer 14.例文帳に追加

半導体層１４の除去工程では、ドライエッチング法を用いているので、レジスト２０の下に隠れている電極膜１９まで除去されることがなく、電極１５，１６と半導体層１４との間で段差は生じない。 - 特許庁

The negative electrode 21 has a diffusion preventing layer 21B formed by a dry or wet deposition method, a negative electrode current collector layer 21C, and a negative electrode activator layer 21D formed on a substrate 21A for deposition made of a plastic or the like.例文帳に追加

負極２１は、プラスチックなどよりなる成膜用基体２１Ａの上に、乾式成膜法または湿式成膜法により形成された拡散防止層２１Ｂ，負極集電体層２１Ｃおよび負極活物質層２１Ｄを有している。 - 特許庁

To provide a polishing pad which solves the problem of scratching caused by the use of conventional hard (dry) polishing pads, achieves an excellent polishing rate and polishing uniformity, and is applicable not only to primary polishing but also to finish polishing, and to provide a manufacturing method for the same.例文帳に追加

従来の硬質（乾式）研磨パッドを用いた場合に生ずるスクラッチの問題を改善し、かつ研磨レートや研磨均一性に優れ、一次研磨だけでなく仕上げ研磨にも対応できる研磨パッド及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an alkaline dry battery making clear the relation of the particle size of zinc powder and the tapered angle of a nozzle used for pouring a gelled negative electrode, and reducing the dispersion of the filling amounts of the gelled negative electrode containing the zinc powder having small particle size.例文帳に追加

亜鉛粉末の粒径とゲル状負極の注入に用いるノズルのテーパ角との関係を明確にし、粒径の小さな亜鉛粉末を含むゲル状負極の充填量においてバラツキの少ないアルカリ乾電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

More concretely, the alcohol fermentation method, wherein the ground product of the Perilla frutescens seeds is preferably added in an amount of ≥0.0004% (w/v), more preferably 0.0004 to 7.1% (w/v) as a dry weight on the basis of the alcohol fermentation raw material.例文帳に追加

より具体的には、エゴマの種子の粉砕物のアルコール発酵原料に対する添加量を乾物重量として、０．０００４％（ｗ／ｖ）以上添加し、より好ましくは０．０００４％（ｗ／ｖ）〜７．１％（ｗ／ｖ）添加する。 - 特許庁

To provide a method for recovering and utilizing active carbon in an apparatus for treating exhaust gas of sintering by which the active carbon can be effectively recovered and utilized in such a way that the active carbon can be used without waste in an active carbon movable layer type dry desulfurization and denitrification apparatus.例文帳に追加

活性炭移動層式の乾式脱硫脱硝装置での活性炭の使用に無駄が生じないよう有効に回収利用することができる焼結排ガス処理装置における活性炭の回収利用方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for constructing an underwater foundation structure, easily and positively forming a dry construction space while dispensing with temporary cofferdam construction, and considerably reducing a construction period and costs with little influence on the surroundings of a construction site.例文帳に追加

仮締切り工が不要ながらも簡便かつ確実にドライな施工空間を形成でき、また工区周辺に与える影響も少なく、工期及びコストの大幅な低減を可能とする水中基礎構造物の構築工法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing cationic resin-modified silica dispersion that has a low viscosity with reduced viscosity deviation without occurrence of gelation when the dry-type silica dispersion and the cationic resin aqueous solution are mixed and dispersed.例文帳に追加

乾式シリカ分散液とカチオン性樹脂水溶液とを混合・分散する時にゲル化すること無く、得られたカチオン性樹脂変性シリカ分散液の粘度が低く、且つばらつきが少ないカチオン性樹脂変性シリカ分散液の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can provide good pattern shape and line-edge roughness in normal exposure (dry exposure), liquid immersion exposure and double exposure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound used in the photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a hair treatment composition which can impart dry touch even to hair having large damage degree, can collect the tips of the hair, and can highly sustain these effects, and to provide a method for treating hair with the composition.例文帳に追加

損傷度合いの大きな毛髪に対しても、サラサラとした感触を付与できるとともに、毛先のおさまりをよくでき、しかもこれらの効果の持続性の高いヘアトリートメント用組成物と、該組成物を用いた毛髪の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of decreasing adhesion and contamination of fine particles (foreign matter) to a product and smoothly carrying out recovery and crushing treatment in the case of obtaining a dry solid matter by spreading a solution or a slurry on a rotary drum or belt.例文帳に追加

回転ドラム上またはベルト上にて、溶液やスラリー等を展延して、乾燥固形物を得るにあたり、微粒子（異物）の製品への付着や混入を低減することができ、また、回収や粉砕をスムーズに行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

A groove part DH is formed on a dry film 14 on a chrome layer 12 by a photolithography method by which exposure is made from the back face 11r of a glass substrate 11 of which the surface 11f is covered with the chrome layer 12 becoming a mask, and gold 15 is imbedded in the groove part DH.例文帳に追加

マスクとなるクロム層１２で表面１１ｆを覆われるガラス基板１１の裏面１１ｒから露光するフォトリソグラフィー法で、クロム層１２上のドライフィルム１４に溝部ＤＨを形成し、その溝部ＤＨに金１５を埋める。 - 特許庁