「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a treatment method of a waste liquid from sodium hydroxide treatment of aluminum material which can separate and recover aluminum hydroxide from etching the waste liquid at a low cost in a short time.例文帳に追加

短時間且つ低コストでエッチング廃液から水酸化アルミニウムを分離回収することのできるアルミニウム材の水酸化ナトリウム処理廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent electroconductive film excellent in transparency and etching treatment properties at a low production cost in a high conductivity (low specific resistance) and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

生産コストが低く、高い導電率で（比抵抗値の低く）、透明性、エッチング処理性に優れた透明導電性フィルム及びその製造する方法を提供する。 - 特許庁

The n-type semiconductor layers 20 and 30 serving as cathode layers are partially removed through a wet etching method so as to expose a part of the p-type semiconductor layer 18 serving as a gate layer.例文帳に追加

カソード層であるｎ形半導体層２０、３０の一部を、ウェットエッチング法により除去して、ゲート層であるｐ形半導体層１８を露出させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a forming die for forming a micro-lens array sheet comprises a resist film forming process, an exposure/development process, an etching process and a resist film removal process.例文帳に追加

マイクロレンズアレイシート形成用成形型の製造方法は、レジスト膜形成工程と、露光・現像工程と、エッチング工程と、レジスト膜の除去工程とを備えている。 - 特許庁

The method is characterized by forming a fine projecting and recessing surface by etching a surface of a glass substrate with photolithography and subsequently to form a metal thin film thereon.例文帳に追加

ガラス基板の表面にフォトリソグラフィ法でエッチングを行うことによって微細凹凸を形成した後、その上に金属薄膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a test pattern of a semiconductor device that allows recognizing an overetch or an underetch occurring at a side wall after an etching process.例文帳に追加

エッチング工程後に側壁で発生するオーバーエッチングまたはエッチング不足を確認することが可能な半導体素子のテストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a forming mold of a microneedle having a desired shape by precisely controlling the etching process of a silicon substrate.例文帳に追加

本発明の１つの態様は、シリコン基板のエッチングプロセスを正確に制御して、所望の形状を有する微細針の成形鋳型を製造することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for the production of an epitaxially grown water which includes the treatment of a silicon wafer by plasma etching before the epitaxial growth process.例文帳に追加

プラズマエッチング方法によるエピタキシャル成長工程前のシリコンウェーハの処理方法を含んだエピタキシャル成長ウェーハの製造方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of AlGaP light emitting diode with light reflecting layer which perfectly removes distortion by dicing process without resulting in over-etching of the light reflecting layer.例文帳に追加

光反射層をオーバーエッチすることなく、ダイシング加工歪を完全に除去することができる光反射層付きＡｌＧａＰ発光ダイオードの製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a second TiN film 6a is formed to improve the condition of the surface damaged by etching, and the upper aluminum film 9 is deposited by a high-temperature aluminum film depositing method.例文帳に追加

次いで、第２のＴｉＮ膜６ａを形成してエッチングダメージによる表面状態を改善した状態で、上層アルミ膜９を高温アルミ成膜法により成膜する。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for doubling component life of a ring for expanding plasma arranged within a processing chamber, and also to provide a method of manufacturing a semiconductor device and an Si ring.例文帳に追加

処理室内に配されるプラズマ拡張用のリングの部品寿命を倍化させるドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法、Ｓｉリングを提供する。 - 特許庁

To manufacture, at a low cost, a substrate for a liquid crystal display device, which has a common electrode pattern-formed by an etching method, and also has a projection for alignment restriction.例文帳に追加

本発明は、共通電極をエッチング法によりパターン形成し、かつ、配向規制用の突起を有している液晶表示装置用基板を安価に製造することである。 - 特許庁

In the determining method, from the intensity of a peak exhibiting the absorption maximum in the vicinity of the wavelength of 285 nm in the ultraviolet light absorption spectrum of an etching compositional liquid, the concentration is measured.例文帳に追加

エッチング組成液の紫外線吸収スペクトルにおいて波長２８５ｎｍ近傍に吸収極大を示すピークの強度から、濃度を測定することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film semiconductor element permitting a reduction in the resistance of a gate electrode, a reduction in the capacity of the capacitor of a source electrode, and an improvement in etching properties, and its manufacturing method.例文帳に追加

ゲート電極の低抵抗化、ソース電極のキャパシタ容量の低減、エッチング性の向上が可能となる薄膜半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional method of manufacturing a wiring board, in which a metal plate is removed by etching after forming the wiring board, formed on the metal plate having a prescribed thickness.例文帳に追加

所定厚さの金属板上に形成した配線基板を形成した後、金属板をエッチング除去する従来の配線基板の製造方法の課題を解消する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which has a multilayered film with an Al/TiN structure wherein an Al film and a TiN film which make an etching shape trapezoidal are laminated.例文帳に追加

エッチング形状が台形となるＡｌ膜とＴｉＮ膜が積層したＡｌ／ＴｉＮ構造の多層膜を有する半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a nonvolatile memory device having a charge trapping layer, which prevents device characteristic deterioration due to etching damage and restrains leak current.例文帳に追加

エッチングダメージから生じる素子特性の劣化を防止し、漏洩電流の発生を抑制する電荷トラップ層を有する不揮発性メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlay film from which a resist underlay film having superior etching resistance and a reduced reflectance can be formed, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、反射率が低減されたレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing apparatus that perform processes from removal of a damage layer of a substrate formed during slicing to texture formation step together in a lump through dry etching.例文帳に追加

スライス時に生じる基板のダメージ層の除去からテクスチャー形成工程を一括してドライエッチングにより処理する処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

After forming a wiring groove by an RIE method, a part having a low film density is quickly etched by wet etching to form a wiring groove 3a having a tapered shape.例文帳に追加

配線用溝をＲＩＥ法により形成した後、ウェットエッチングで膜密度が小さい部分を速くエッチングすることでテーパ形状の配線用溝３ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a heterojunction field-effect transistor by which a desired recess etching depth can be stably obtained, and to provide the heterojunction field-effect transistor.例文帳に追加

所望のリセスエッチング深さを安定して得ることができるヘテロ接合電界効果型トランジスタの製造方法およびヘテロ接合電界効果型トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of improving etching speed when manufacturing a semiconductor device that uses a single crystal silicon substrate.例文帳に追加

単結晶シリコン基板を用いた半導体装置を製造する際に、エッチング速度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a lead frame and a semiconductor apparatus for removing plating burr generated by etching from the lead frame and the semiconductor apparatus.例文帳に追加

エッチングにより発生しためっきバリをリードフレーム及び半導体装置から除去することを目的とするリードフレーム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method and device, the electron beam is emitted to the whole surface of a semiconductor wafer between a semiconductor exposing step and an etching step.例文帳に追加

上記目的を達成するために、半導体の露光工程と、エッチング工程間にて、半導体ウェーハの全面に対し、電子ビームを照射する方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an Fe-Ni series or Fe-Ni-Co series alloy thin sheet excellent in etching properties and to obtain a thin sheet for a shadow mask excellent in various characteristics and a shadow mask.例文帳に追加

エッチング性に優れたFe-Ni系またはFe-Ni-Co系の合金薄板の製造方法を提供し、諸特性に優れたシャドウマスク用薄板、シャドウマスクを達成する。 - 特許庁

The quantity of needless etched substances re-adhered to the upper part magnetic core and the recording gap at the time of etching is suppressed by this method and the work of high efficient and stable track width precision can be performed.例文帳に追加

この方法によりエッチング時に上部磁気コアや記録ギャップ部への再付着の量が押さえられ、高効率で安定したトラック幅精度の加工が可能になる。 - 特許庁

To provide a stencil mask and its manufacturing method which improve size precision in a stencil mask substrate surface by making the influence of microloading effect reduced in a dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング工程におけるマイクロローディング効果の影響を低減させ、ステンシルマスク基板面内の寸法精度を向上させるステンシルマスクおよび製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is capable of improving etching selectivity so as to manufacture a semiconductor device superior and uniform in characteristics with high manufacturing yield.例文帳に追加

本発明は、エッチング加工の選択比を高め、良好で均一な特性を持つ半導体装置を歩留まり良く作製する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for bonding nano-chips, particularly by the electrolytic etching having excellent adhesion safety.例文帳に追加

ナノチップの接着装置及び接着方法に関し、より詳細には優れた付着安全性を有する電解エッチングを用いたナノチップの接着装置及び接着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which enables the formation of a layer insulation film with a flat surface even if wet etching is carried out after CMP treatment.例文帳に追加

ＣＭＰ処理後にウェットエッチングを行っても平坦な表面を有する層間絶縁膜を形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming fine current wiring on a substrate in a short period of time by a simple apparatus without using a photomask, a resist, an exposure apparatus, and an etching apparatus or the like.例文帳に追加

フォトマスク、レジスト、露光装置、エッチング装置などを使わず簡単な装置で短時間に基板の上に微細な電流配線を形成する方法を与えること。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a light emitting diode chip by which lateral etching is performed to the light emitting diode chip at a low temperature to form the light emitting diode chip in an inverted cone shape.例文帳に追加

低い温度で発光ダイオードチップに横向きエッチングを行い、発光ダイオードチップを逆円錐状に形成させる発光ダイオードチップの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method is to clean the wiring board 70 in which the electrode 23 is disposed on the substrate 20, and to remove the foreign matters on the electrode 23 by using an etching liquid.例文帳に追加

基板２０上に電極２３が配置された配線基板７０を洗浄する方法であって、電極２３上の異物をエッチング液を用いて除去する。 - 特許庁

To obtain the manufacturing method of a semiconductor device, in which a processed layer used as the layer having a protective function in an after etching process can be accurately processed.例文帳に追加

後工程でエッチングからの保護機能を有する層として用いられる被加工層の加工を精度良く行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film bulk acoustic resonator and its manufacturing method in which material of low etching selectivity, relative to sacrificial material, can be integrated into a device structure.例文帳に追加

デバイス構造が、犠牲材料に対してエッチング選択性の低い材料を組み込むことができる薄膜バルク音響共振器及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition, a method by which a laser resonator containing a multi-mode interference waveguide section can be manufactured with high dimensional accuracy by using both lithography and dry etching is also devised.例文帳に追加

また、リソグラフィー技術とドライエッチング技術の併用により多モード干渉導波路部を含むレーザ共振器を寸法精度高く作製する手法も合わせて考案した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor storage device having a highly reliable capacitor, in which an electrode material deposition during etching is eliminated and which can be processed finely.例文帳に追加

エッチング時の電極材料による堆積物の形成をなくし、微細加工できる高信頼性のキャパシタを有する半導体記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist formation wiring substrate which enables a fine pitch by etching during formation of a circuit and provides an excellent manufacturing efficiency, and a method of manufacturing an electronic circuit.例文帳に追加

回路パターン形成の際のエッチングによるファインピッチ化が可能で、製造効率が良好なレジスト形成配線基板及び電子回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the method for manufacturing a semiconductor device having a stable and reliable self-aligned contact, avoiding etching stop, short- circuited wiring or chip size increase.例文帳に追加

エッチストップ、配線ショートおよびチップサイズの増大を招くことなく、安定で信頼性の高い自己整合コンタクトを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching method that does not deteriorate a processing shape of an aluminum film containing copper, which is wiring, and can suppress occurrence of copper residues.例文帳に追加

配線である銅含有アルミニウム膜の加工形状を劣化させることなく、かつ銅の残さ発生の抑制可能なドライエッチング方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask so as to reduce dispersion in the size of a pattern due to a loading effect and a micro-loading effect produced in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程で発生するローディング効果及びマイクロローディング効果によるパターンのパターン寸法ばらつきを低減するようにしたフォトマスクを作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode of a board capable of being formed by etching and assuring necessary area in the connection of an electrode of an electronic component and the board.例文帳に追加

エッチングにて形成し、かつ電子部品の電極との接合に必要な面積が確保できる基板の電極形成方法及び基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The mount 10 and its locaters 14 are manufactured in a low-cost method, such as a chemical etching, stamping, a boring process, a bending process, an embossing process, or forming process.例文帳に追加

台座１０およびそのロケータ１４は、低コストの方法で、例えば化学的エッチング，スタンピング，穿孔加工，折り曲げ加工，エンボス加工または形成加工により製造される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for preventing an etching damage to the other region while patterning precision and high speed are maintained, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

パターニング精度、高速性を維持しつつ他の領域へのエッチングダメージを防止する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供を提供する。 - 特許庁