「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(89ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an anisotropic dry etching method in which a silicon nitride film can be selectively anisotropically dry-etched for all of a silicon oxide film, a polysilicon film and a silicon film.例文帳に追加

シリコン窒化膜をシリコン酸化膜、ポリシリコン膜及びシリコン膜の全てに対して選択的に異方性ドライエッチングすることができる異方性ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing damage and stresses caused by damage from a sidewall part, a lower edge part and corners of the die, without having to apply etching to a semiconductor wafer from the rear surface thereof.例文帳に追加

半導体ウェハを裏面からエッチングすることなしに、ダイの側壁部と低部エッジおよびコーナーからのダメージをとそれにより応力を除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which can eliminate a problem caused from an anti-reflecting film while keeping wide to some extent a DOF margin in exposing a resist film.例文帳に追加

レジスト膜を露光する際のＤＯＦマージンをある程度広く確保しつつ、反射防止膜に起因する問題を無くすことができるようにしたエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The device, method and system for monitoring operation of one or more mass flow controllers which supply such processes as deposition, etching and others with gases are provided.例文帳に追加

堆積、エッチング、およびその他の製造工程に気体を供給する１つまたは複数の質量流量コントローラの動作を監視する装置、方法、およびシステムが記載される。 - 特許庁

The method of framing the resist pattern includes a step of forming the resist pattern on a material worked by discharging a composition containing a photosensitive agent to the material under reduced pressure, and a step of etching the material by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for suppressing the adhesion of a reaction product on the sidewall of a mask material by etching regardless of the density of a pattern.例文帳に追加

パターンの密度に関係なく、エッチングによる反応生成物がマスク材料の側壁に付着することを抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new method for processing a substrate surface by which an etching solution can be reused, and the contamination of the surface to be processed caused by the intrusion of impurities can be suppressed.例文帳に追加

エッチング溶液の再利用が可能であり、また、不純物の混入による加工表面の汚染を抑制できる、新たな基板表面の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which a high-quality display device which is reduced in the fluctuation of finished dimension can be manufactured by performing processing based on the optimum etching time.例文帳に追加

表示装置において、最適なエッチング時間による加工を行うことにより、仕上がり寸法のばらつきの少ない良質な表示装置を得ることが可能である。 - 特許庁

A glass base board formed by a down draw method is subjected to etching and then the board is chemically reinforced, so that the main surface of the glass may have a compressive stress layer to obtain the cover glass.例文帳に追加

カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, wherein a wiring short circuit and a self-matching contact in which increase of contact resistance is suppressed are formed, without causing etching stop.例文帳に追加

配線ショートとコンタクト抵抗の増大が抑制された自己整合コンタクトをエッチストップを起こさずに形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition, a pattern formation method, a polymer and a compound which are excellent in pattern formation property, MEEF performance and etching resistance.例文帳に追加

パターン形成性、ＭＥＥＦ性能及びエッチング耐性に優れる感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、重合体及び化合物を提供すること。 - 特許庁

When this etching method is applied for forming a back channel portion of a thin film transistor, the thin film transistor can have excellent electrical characteristics.例文帳に追加

更には、当該エッチング方法を薄膜トランジスタのバックチャネル部を形成するエッチングに採用することで、当該薄膜トランジスタの電気的特性を良好なものとすることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate for mounting a light-emitting element, which can form a power supply part by simple treatment without carrying out plating treatment or etching treatment.例文帳に追加

メッキ処理やエッチング処理を行わずに簡単な処理で給電部分を形成することができる発光素子搭載用基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To prevent a leak path from being generated due to wet etching at a planned interconnection formation location by a manufacturing method for a semiconductor device like a GaAs field-effect transistor.例文帳に追加

ＧａＡｓ電界効果トランジスタのごとき半導体装置の製造方法で、配線の形成予定箇所でのウェットエッチングによってリークパスが生じるのを防止する。 - 特許庁

The plasma processing method is used for forming high aspect ratio vias by implementing an etching step and a protective film forming step alternatively in a repeated manner.例文帳に追加

本発明の一形態に係るプラズマ処理方法は、エッチング工程と保護膜形成工程とを交互に繰り返し実施することでシリコン基板に高アスペクト比のビアを形成する。 - 特許庁

In the plasma etching method, gas having C_2F_4 is used as a treatment gas, pressure near a body to be treated in the treatment container is set to 45-75 mTorr.例文帳に追加

本発明のプラズマエッチング方法は、処理ガスとして、Ｃ_２Ｆ_４を有するガスを使用し、処理容器内の被処理体付近の圧力を４５〜７５ｍＴｏｒｒする。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an array substrate for displays for setting the width of an etching stopper 118 smaller than that of a gate line by back exposure, and for forming ΔL.例文帳に追加

裏面露光によってゲート線の幅よりもエッチングストッパ１１８の幅を小さくし、ΔＬを形成できる表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a preparation method of an etching liquid which can easily and speedily dissolve the desired quantity of silicon in a flowing phosphoric acid solution.例文帳に追加

流動する燐酸溶液中に所望の量の珪素を簡単且つ、迅速に溶解させるエッチング液の調製方法、エッチング方法及びエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of etching an organic insulating film which can form a vertically worked shape with less bowing and can form a little shoulder dropping of a hard mask, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

ボーイングが少ない垂直加工形状を形成しうるとともにハードマスクの肩落ちが少ない有機系絶縁膜のエッチング方法及びこのエッチング方法を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflection type electrode substrate which has low resistance but a large work function and is useful as an electrode substrate for an organic EL element, to provide its manufacturing method and to provide an etching composition used for the manufacturing method.例文帳に追加

低抵抗で仕事関数の大きい、有機ＥＬ素子の電極基板として有用な反射型電極基板及びその製造方法、並びにその製造方法に用いるエッチング組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a substrate which can control the reduction of the wiring width of copper wiring, when carrying out the etching removal of weld slag copper or weld slag nickel of a seed layer, in fine wire copper wiring formation by a semi additive method.例文帳に追加

セミアディティブ法での細線銅配線形成において、シード層のスパッタ銅またはスパッタニッケルをエッチング除去する際に、銅配線の配線幅の減少を抑制できる基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a protective film forming method, a protective film forming device, and a printed wiring board manufacturing method by which a protective film against etching is formed efficiently inside a through-hole on a printed wiring board having the through-hole.例文帳に追加

スルーホールを有するプリント配線基板のスルーホール内部にエッチングに対する保護膜が効率よく形成される保護膜形成方法及び保護膜形成装置並びにプリント配線基板製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a sample reduced in its surface unevenness in preparing a cross-sectional sample for use in observing TEM or SEM by an ion beam etching method, and to provide a sample preparing apparatus.例文帳に追加

本発明は、ＴＥＭやＳＥＭ等の観察に用いる断面試料をイオンビームエッチング法により作製するに当たり、試料表面の凹凸の少ない試料を作製する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a concave-convex substrate fabrication method for reducing an amount of etching liquid variation between lots and constantly forming a uniform projection-recess structure on the surface and a method for fabricating a photovoltaic element using the concave-convex substrate.例文帳に追加

エッチング液のロット毎のばらつきが少なく、安定して一定の凹凸構造を表面に形成することができる凹凸基板の製造方法及びそれを用いた光起電力素子の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an alloy layer laminate capable of forming a resistance part having a required resistance value in a wiring pattern formed by etching, and a method for manufacturing a part using the laminate.例文帳に追加

所要の抵抗値を有する抵抗部をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする合金層積層体の製造方法、および合金層積層体を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a solar cell high in the absorption index of light by forming a dielectric film mask and forming effective recesses and projections on the surface of single crystal and polycrystal wafers through chemical etching method.例文帳に追加

誘電体膜のマスクを形成し、化学的エッチング方法により単結晶及び多結晶ウェハの表面に効果的な凹凸を形成し、光の吸収率の高い太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a rugged pattern and a method for manufacturing an optical element by which a fine rugged resist pattern with high aspect ratio is formed only by light irradiation by making an etching process unnecessary.例文帳に追加

エッチング工程を不要として、光照射のみでアスペクト比の高い微細な凹凸状のレジストパターンを形成することができる凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of adequately evaluating an adhesion property of a corrosion resistant resist 2 and metal 1 in order to solve the problems for assuring the shapes and quality of products in a method of manufacturing the products by etching.例文帳に追加

エッチング加工により製品を製造する方法において、製品の形状や品質確保する為の問題を解決するために、耐食性レジスト２と金属１の密着性の適切な評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method and a semiconductor device manufacturing method capable of effectively removing deposits including metal accumulated on a pattern sidewall by dry processing while suppressing pattern thinning by side etching.例文帳に追加

サイドエッチングによるパターン細りを抑制しつつ、ドライ処理によってパターン側壁に堆積した金属を含む堆積物を効率良く除去することのできるプラズマ処理方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removal of contaminants during electron beam-induced deposition, ion beam-induced deposition and laser beam-induced deposition, or a method for real-time inhibition of oxidation during deposition or etching of oxidizable materials.例文帳に追加

電子ビーム誘起付着、イオンビーム誘起付着およびレーザビーム誘起付着中に汚染物を除去する、または酸化可能な材料の付着またはエッチング中の酸化をリアルタイムで抑制する方法を提供する。 - 特許庁

By using this etching method and inspecting the surface by XPS or other method, the etched surface can be inspected accurately and hence the silicon wafer can be evaluated accurately.例文帳に追加

また、このエッチング方法を採用し、その表面をＸＰＳなどの手法によって検査することによって、精度のよいエッチング表面の検査を行うことができ、的確なシリコンウェーハの評価を行うことができる。 - 特許庁

This is a method of forming a solar cell substrate performing ultrasonic cleaning after coarsening one main surface side of a solar cell substrate by a dry etching method, and the ultrasonic cleaning is performed by horn type ultrasonic cleaning equipment.例文帳に追加

太陽電池基板の一主面側をドライエッチング法で粗面状にした後に超音波洗浄する太陽電池基板の形成方法であって、上記超音波洗浄をホーン型超音波洗浄装置で行う。 - 特許庁

To provide an industrially advantageous method of purification for reducing the content of unsaturated impurities contained in 1,1-difluoroethane used as a coolant for a low temperature or etching gas, and a method for producing the same.例文帳に追加

低温用冷媒やエッチングガスとして使用する１，１−ジフルオロエタン中に含まれる不飽和不純物の含有量を低減させるための工業的に有利な精製方法および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting variations in a CD due to fogging effect, that appears in electron beam exposure and/or loading effect that appears in a dry etching process for exposure, and to provide a record medium where the method is recorded.例文帳に追加

電子ビーム露光時に現れるフォギング効果及び／または乾式エッチング工程時に現れるローディング効果によるＣＤの変化を補正して露光する方法及びこれを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resistance layer laminated member and a method of manufacturing a component using the resistance layer laminated member in which a resistor having a prescribed resistance is formed in a wiring pattern formed by etching.例文帳に追加

所要の抵抗値を有する抵抗器をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする抵抗層積層材の製造方法、および抵抗層積層材を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resistance plate laminated material capable of forming a resistor having a required resistance value in a wiring pattern formed by etching and to provide a method for manufacturing a component using the resistance plate laminated material.例文帳に追加

所要の抵抗値を有する抵抗器をエッチング形成された配線パターン内部に形成可能とする抵抗板積層材の製造方法および抵抗板積層材を用いた部品の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device that can be controlled easily by a simple method by suppressing a harmful influence exerted by ashing by using an inorganic film having a low dielectric constant as an etching stopper film, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

エッチングストッパー膜として無機低誘電率膜を用い、アッシングによる弊害を抑制することで、簡易な方法で制御良くかつ信頼性の高い半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board which is capable of removing the disused part of a base layer as it makes the best use of a semi-additive method when soft etching is carried out and reducing damage to a wiring pattern to an irreducible minimum at the same time.例文帳に追加

セミアディティブ法を生かしながら、ソフトエッチングする時に下地層の不要な部分を除去すると同時に配線パターンにダメージを最小限に止めるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming wiring pattern by which rewiring can be made without implementing a full-surface thin film forming step (sputtering) or etching step, a semiconductor device and a method for manufacturing it, a circuit board, and electronic equipment.例文帳に追加

全面薄膜形成工程（スパッタ）及びエッチング工程を用いずに再配線を形成する配線パターンの形成方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of producing an aluminum material for an electrolytic capacitor electrode having excellent etching characteristic, the aluminum material for electrolytic capacitor electrode, a method for producing the electrode material for the electrolytic capacitor and the aluminum electrolytic capacitor.例文帳に追加

エッチング特性に優れた電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法、電解コンデンサ電極用アルミニウム材、電解コンデンサ用電極材の製造方法およびアルミニウム電解コンデンサを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a method of correcting etching width which reduce process irregularities and improve precision in semiconductor substrate processing to manufacture a semiconductor device with less irregularities.例文帳に追加

プロセス処理のばらつきを低減し、半導体基板の加工精度を向上することでばらつきの少ない半導体装置を製造できる半導体装置の製造方法およびエッチング幅の補正方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of the semiconductor device, in which a semiconductor substrate 100 is etched by using a photoresist 102 including sulfur, in the manufacturing method of the semiconductor device including a dry etching process using a chlorine gase.例文帳に追加

塩素系ガスを用いるドライエッチング工程を含む半導体素子の作製方法において、硫黄を含むフォトレジスト102を用いて半導体基体100をエッチングすることを特徴とする半導体素子の作製方法。 - 特許庁

To prevent the dispersion of detection detuning of each manufactured oscillator, when manufacturing the oscillator for oscillation type gyroscope by molding the external shape of the oscillator by combining a photolithographic method with an etching method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法とエッチング法とを組み合わせて振動子の外形を成形し、振動型ジャイロスコープ用の振動子を製造するのに際して、製造した振動子ごとの検出離調のバラツキを防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a machining method for silicon substrate for machining the crystal face exposed through silicon etching with high shape accuracy, and an electrostatic driving ink jet head produced at a high productivity using a substrate formed by the method.例文帳に追加

シリコンエッチングにより表出する結晶面の形状精度の高い、シリコン基板の加工方法、及びこの方法で形成した基板を用いた高い生産性をもつ静電駆動式のインクジェットヘッドを提供すること。 - 特許庁

To obtain a method of working laminated film by which a laminated film can be worked by reducing the damage to an objective film by an ion beam by etching the objective film by accurately visually confirming the boundary of the film, and to provide a tunnel magnetoresistive effect element manufactured by the method.例文帳に追加

膜の境界を明瞭に視認して正確にエッチングし、イオンビームによる対象膜へのダメージの少ない積層膜加工方法及びそれにより製造したトンネル磁気抵抗効果素子を提供する。 - 特許庁