「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mask cleaning device for an organic EL element aiming at restraint of temperature increase of a mask and improvement of etching efficiency, and to provide a method of manufacturing an organic EL display using it.例文帳に追加

マスクの温度上昇の抑制及びエッチング効率の向上が図れる有機EL素子用マスククリーニング装置及びそれを用いた有機ELディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a lead frame which generates no metal strip from a lead frame in a post-process by crushing ends of a thin metal bar after an etching process in manufacturing the lead frame.例文帳に追加

リードフレームの製造工程でエッチング処理後の薄板金属条材の端部を押し潰して、後工程でリードフレームから金属片が発生しないリードフレームの製造方法を提供する。 - 特許庁

The thin-film-forming method further has a heating step S2 of heating the organic layer on the object to be film-formed thereon in the vacuum, prior to the plasma treatment (etching) step S3 of a plasma exposure step.例文帳に追加

本発明では、プラズマ暴露工程であるプラズマ処理（エッチング）工程Ｓ３の前に、真空中で成膜対象物上の有機層を加熱する加熱工程Ｓ２を有する。 - 特許庁

To solve a problem occurring in a method of manufacturing a conventional wiring board in which a wiring board formed on a metal plate of a predetermined thickness is formed, and thereafter the metal plate is removed by etching.例文帳に追加

所定厚さの金属板上に形成した配線基板を形成した後、金属板をエッチング除去する従来の配線基板の製造方法の課題を解消する。 - 特許庁

To provide a thin-film semiconductor device which is provided with excellent element properties wherein variations in film thickness can be suppressed and the occurrence of dry etching damage can be also suppressed, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

膜厚バラツキを抑制し、かつドライエッチングダメージの発生を抑制できる優れた素子特性を兼ね備えた薄膜半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method to produce a liquid crystal display device by which a reaction product is not deposited when a contact hole is opened in an interlayer insulating film by dry etching, and to provide a liquid crystal display device.例文帳に追加

ドライエッチングによる層間絶縁膜へのコンタクトホール開口時に反応生成物が再付着しない液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fine grid manufacturing method with which a base material surface is prevented from being oxidized, and etching processing is prevented from being affected even in forming a mask film on the base material by using a metal pattern film.例文帳に追加

金属製のパターン膜を用いて基材上にマスク膜を形成しても、基材表面が酸化されずエッチング加工に影響を及ぼさない微細格子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device having a plurality of light-emitting cells such that an electric short circuit in a light-emitting cell due to metal etching by-products can be prevented, and to provide a method of fabricating the same.例文帳に追加

金属エッチング副産物による発光セル内における電気的な短絡を防ぐことができる複数の発光セルを有する発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical sensor device which allows a light receiving surface of an optical sensor device to be exposed from a sealing member without etching the sealing member, and to provide the optical sensor device.例文帳に追加

封止部材をエッチングすることなく、光センサ装置の受光面を封止部材から露出できるようにした光センサ装置の製造方法及び光センサ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus of manufacturing a magnetic recording medium by which a DTR medium having excellent S/N by determing the end point of flattening etching highly accurately can be manufactured.例文帳に追加

高精度に平坦化エッチングの終点を判定し、良好なＳ／Ｎ比を示すＤＴＲ媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the size, after etching, of a contact pattern formed on an insulating film, without changing a photolithographic process.例文帳に追加

絶縁膜に形成されるコンタクトパターンのエッチング処理後の寸法を、ホトリソ工程を変更させることなく、小さい値に変更させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To attain a rear-surface cleaning method of etching ruthenium deposited on a bevel portion and on the rear surface of a substrate with a simple device arrangement, enabling chemical solution treatment without using a shield plate.例文帳に追加

遮断板を使用せずに薬液処理を可能とする裏面洗浄方法であり、容易な装置構成にて、ベベル部および基板裏面に付着したルテニウムのエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory element effective to suppress the occurrence of active attack in an etching process upon formation of a gate for example by suppressing an EFH change of an element separation film.例文帳に追加

素子分離膜のEFH変化を抑えることで、たとえばゲート形成時のエッチング工程でアクティブアタックが発生するのを抑えるのに有効なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micro-lens substrate manufactured by an etching method to easily and surely form a recessed part having a prescribed shape and size, a transparent type screen and a rear type projector.例文帳に追加

所望の形状や大きさの凹部を容易かつ確実に形成できるエッチング方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an antenna pattern or the like capable of efficiently manufacturing the antenna pattern without the need for a large scale facility such as an etching facility wherein waste of a metallic material is not almost caused.例文帳に追加

エッチング設備等の大掛かりな設備を必要とせずに効率よく製造することができ、しかも金属材料の無駄が殆ど無いアンテナパターンの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a film depositing method that allows comparatively reducing an etching rate during cleaning even if depositing a film at comparatively low temperatures and thus allows improving the controllability of a film thickness.例文帳に追加

比較的低温で成膜してもクリーニング時のエッチングレートを比較的小さくでき、もってクリーニング時の膜厚の制御性を向上させることができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solar cell capable of suppressing a plasma from damaging a wafer light-receiving surface and suppressing a scraping amount of a diffusion layer by reducing etching more than necessary.例文帳に追加

必要以上のエッチングを減少させることで、プラズマが与えるウェハ受光の面損傷の抑制、拡散層の削り量の抑制が可能な太陽電池の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a composition for conditioning a copper surface, which can maintain adhesiveness between copper and an insulation material such as a resin, without roughing the copper surface by using a method such as etching.例文帳に追加

銅の表面をエッチング等の粗化処理することなく銅と樹脂等の絶縁材との間の密着性を維持することができる銅の表面調整組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing unreacted gas and by-products with high efficiency from treating devices such as a CVD device for forming an amorphous semiconductor thin film, and an etching device of the thin film.例文帳に追加

非晶質半導体薄膜形成用のＣＶＤ装置や該薄膜のエッチング装置などの処理装置において、未反応ガスや副生成物を効率良く除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate with a high-quality patterned metal film by which the generation of pitting can be prevented during wet-etching of the metal film formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された金属膜のウェットエッチング時において孔食の発生を抑制し得る、品質の良好なパターン化金属膜を有する基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper film, which can form a copper film having a predetermined pattern without needing an etching step, and to provide a composition which can be used therefor.例文帳に追加

エッチング工程がなくても、所定のパターンを有する銅膜を形成することを可能とした銅膜の形成方法、およびそのために使用することができる組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic capacitor that has reduced alignment precision required in a lamination process and dispenses with any special processes, such as etching processing, and to provide a method of manufacturing the multilayer ceramic capacitor.例文帳に追加

積層工程で要求される位置合わせ精度が緩く、かつ、エッチング処理などの特殊な工程を必要としない積層セラミックコンデンサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film with excellent transmittance characteristics, a required electric property and etching speed, as well as a method of manufacturing the conductive film with safety and a high productivity.例文帳に追加

透過率特性が良好であり、所望の電気特性、エッチング速度を有する透明導電膜、及び該導電膜を安全に、生産性高く製造する手段を提供する。 - 特許庁

In this method, substrates are carried by disposing guide rolls 7 and 8 with a space of ≥1 mm therebetween in a large number of liquid drain-off rolls disposed between liquid spray tanks of an etching machine or the like.例文帳に追加

エッチング機等の液体噴霧槽間に多段配置される液切りロールにおいて、１ｍｍ以上の隙間を設けたカ゛イト゛ロール７，８を配置して基板を搬送する方法。 - 特許庁

To provide a plasma etching device using a simple method, for suppressing the adhesion and deposition of the reactive produce of a material to be etched, such as an Al-family deposit to a quartz bell jar.例文帳に追加

簡便な方法で、石英ベルジャへのAl系堆積物等の被エッチング材料の反応生成物の付着、堆積を抑制することができるプラズマエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

The crucible 12 is heated in a range from 1,700°C to 2,750°C under a nitrogen atmosphere to obtain a planarized surface at an atomic level (planarity of about 0.3 nm) at a higher speed (etching rate of 200-300 μm/hour) than that in a prior method.例文帳に追加

窒素雰囲気中で黒鉛製坩堝１２内を1700℃〜2750℃に熱することにより、原子オーダーのレベルで平坦（平坦度〜0.3nm）な面が従来よりも高速（エッチング速度200〜300μm/hour）に得られる。 - 特許庁

To provide a processing method for a processed layer capable of forming a plurality of layers in desired shapes by suppressing an increase in the number of processes as much as possible and preventing the progress of side etching.例文帳に追加

工程数の増加を可及的に抑制し、サイドエッチの進行を防止して、複数の被処理層を所望の形状に形成することができる被処理層の処理方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical semiconductor element includes a preprocessing stage of forming a plurality of projections 401 on the light emission surface and a processing stage of subjecting the light emission surface to anisotropic etching 404.例文帳に追加

光放出面に複数の突起４０１を形成する前処理工程と、光放出面を異方性エッチング４０４する加工工程とを有する製造方法である。 - 特許庁

To provide an etching device and a method which are capable of forming uniform irregularities on the surface of a board with high tact without arranging and aligning a plate member on the board.例文帳に追加

プレート部材をいちいち位置合わせして基板上に配置する必要がなく、均一な凹凸を基板表面に高タクトで形成することができるエッチング装置とエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a distortion occurring in a reed screen type part of a thin metal sheet with very narrow slit type apertures manufactured by a photo-etching process.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

Thereby increase in the resistance of wiring or generation of a short-circuiting caused by excessive polishing, excessive etching or the like when the flattening is carried out by the CMP method can be prevented.例文帳に追加

これにより、ＣＭＰ方法のような平坦化を利用する場合に発生する過多研磨または過多蝕刻等による配線の抵抗の増加あるいは短絡の発生を防止できる。 - 特許庁

To provide a treatment system of boards for flexible printed wiring boards by a roll-to-roll method by which a development time, etching time and peeling time can be easily adjusted.例文帳に追加

現像処理時間、エッチング処理時間、剥離処理時間を容易に調整できるロールｔｏロール方式によるフレキシブルプリント配線板用基板の処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching device for a crystal plate capable of efficiently working the plate in an ultra-thin manner and a method for manufacturing the plate as well as the crystal plate.例文帳に追加

水晶板を効率よく極薄に加工することができる水晶板のプラズマエッチング装置および水晶板の製造方法並びに水晶板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of forming multilayer polysilicon resistors 5, 6 and 7 on the semiconductor substrate, and regulating the depth etching on a contact 10 to obtain the desired resistance.例文帳に追加

半導体基板上に、ポリシリコン抵抗５、６、７を多層に形成し、コンタクト部の１０エッチングの深さを調節することで、所望の抵抗値を得るように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element in which a street can be formed on a semiconductor film laminated on a metal supporter without scattering metal nor producing etching residues.例文帳に追加

金属支持体の上に積層された半導体膜に金属の飛散やエッチング残りを生じることなくストリートを形成することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a probe tip manufacturing method capable of easily manufacturing probe tips having a prescribed shape on a substrate without having to use a lithography technique nor an etching technique.例文帳に追加

リソグラフィ技術とエッチング技術を用いることなく所定の形状を有するプローブチップを基板上に容易に製造することができるプローブチップの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor substrate quality evaluating method includes processes of etching a semiconductor substrate surface and of detecting a bright point on the etched substrate surface using a foreign substance inspection device.例文帳に追加

半導体基板表面をエッチングする工程と、異物検査装置により前記エッチングした基板表面における輝点を検出する工程とを含む半導体基板の品質評価方法。 - 特許庁

Or, the method comprises the steps of setting a heating temperature of the mold at a pressing time to a heat deteriorating temperature of the film, selectively modifying the film by pressing the mold, and then wet etching the film.例文帳に追加

あるいは、プレス時の型の加熱温度をレジスト膜の熱劣化温度に設定して型をプレスすることにより、レジスト膜を選択的に変性させた後、ウエットエッチングを行なう。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a diffraction optical element capable of performing phase correction without adding an etching process and without being subjected to the restriction due to resolution ability of photolithography.例文帳に追加

エッチング工程を追加することなく，また，フォトリソグラフィの解像能力による制限を受けることなく位相補正を行うことの可能な回折光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises forming the semiconductor layer containing an organic material with etching using a mask, and completing the organic TFT in the state of leaving the mask on the semiconductor layer without removing it.例文帳に追加

本発明は、マスクを用いたエッチングにより有機材料を含む半導体層を形成し、マスクを除去せず半導体層上に残した状態で有機ＴＦＴを完成させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon carbide semiconductor device used for manufacturing a silicon carbide semiconductor device uniform in channel length without giving plasma damage owing to plasma etching to a channel region.例文帳に追加

チャネル長の均一な炭化珪素半導体装置を、チャネル領域にプラズマエッチングによるプラズマダメージを与えずに製造する炭化珪素半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The etching treatment method for copper has: a step in which copper is subjected to oxidation treatment to be copper oxide; and a step in which the copper oxide is thereafter dissolved with an acidic solution.例文帳に追加

銅をエッチング処理する方法であって、銅を酸化処理して酸化銅とする工程、その後、前記酸化銅を酸性溶液で溶解する工程を有する、銅のエッチング処理方法。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device manufacturing method for producing less electromigration and stress migration by removing a reactive product after forming an aluminum wire with dry-etching.例文帳に追加

ドライエッチングによるアルミニウム配線形成後、反応生成物を除去することにより、エレクトロマイグレーション、ストレスマイグレーションの少ない、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a piezoelectric film element securing etching selectivity between a non-lead piezoelectric film and a lower electrode, and capable of being fabricated with high precision; a method for manufacturing a piezoelectric film element; and a piezoelectric device.例文帳に追加

非鉛の圧電膜と下部電極とのエッチング選択性を確保するとともに、高精度に加工することができる圧電膜素子、圧電膜素子の製造方法、及び圧電デバイスを提供する。 - 特許庁

The conductive pattern 20 is formed, for example, by selectively removing a metallic foil formed entirely on the surface of the porous material by a method such as etching.例文帳に追加

導電パターン２０は、例えば、複合多孔体の表面全体に形成された金属箔をエッチング等の方法により選択的に除去することにより形成されたものである。 - 特許庁