「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an etching device and a method which are capable of forming uniform irregularities on the surface of a board with high tact without arranging and aligning a plate member on the board.例文帳に追加

プレート部材をいちいち位置合わせして基板上に配置する必要がなく、均一な凹凸を基板表面に高タクトで形成することができるエッチング装置とエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a distortion occurring in a reed screen type part of a thin metal sheet with very narrow slit type apertures manufactured by a photo-etching process.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a light-emitting device having a plurality of light-emitting cells such that an electric short circuit in a light-emitting cell due to metal etching by-products can be prevented, and to provide a method of fabricating the same.例文帳に追加

金属エッチング副産物による発光セル内における電気的な短絡を防ぐことができる複数の発光セルを有する発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical sensor device which allows a light receiving surface of an optical sensor device to be exposed from a sealing member without etching the sealing member, and to provide the optical sensor device.例文帳に追加

封止部材をエッチングすることなく、光センサ装置の受光面を封止部材から露出できるようにした光センサ装置の製造方法及び光センサ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus of manufacturing a magnetic recording medium by which a DTR medium having excellent S/N by determing the end point of flattening etching highly accurately can be manufactured.例文帳に追加

高精度に平坦化エッチングの終点を判定し、良好なＳ／Ｎ比を示すＤＴＲ媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for separating a metallic plate, which can show the merits of both of the shearing work and the etching work by compensating for their respective faults by combining both of them.例文帳に追加

せん断加工とエッチング加工を組合わせることによって、それぞれの欠点がカバーされ、お互いの利点を発現できる金属板材の分離加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can remove a high dielectric film such as an HfO_2, HfSiO, or ZrO_2 attached to the internal surface, etc. of a treatment chamber by using an etching gas.例文帳に追加

処理室の内面等に付着したＨｆＯ_２、ＨｆＳｉＯ，ＺｒＯ_２等の高誘電体膜をエッチングガスによりクリーニングできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display element, which can reduce the loading effect of dry etching in an array process for forming a TFT thin film transistor of a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置のＴＦＴ薄膜トランジスタ形成のアレー工程において、ドライエッチングのローディング効果を低減できる液晶表示素子の製造方法を提案する - 特許庁

To provide a means for controlling a temperature of a semiconductor wafer upon large input heat etching b the use of a cooling method based on the heat of vaporization in a high-speed and in-plane uniform manner.例文帳に追加

気化熱による冷却方式を用いて、大入熱エッチング処理時における半導体ウエハの温度を、高速かつ面内均一に制御するための手段を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an inkjet head in which a process of making a cavity substrate in a thin plate can be carried out in a short time, and etching after the thinning process can be carried out highly precisely.例文帳に追加

キャビティ基板を薄板化する工程を短時間で行うことができ、薄板化の工程の後のエッチングを高精度に行うことのできるインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of avoiding break of structure due to etching, when a through hole is formed on the substrate with the structure constituted on the back thereof.例文帳に追加

裏面側に構造物が形成された基体に貫通孔を形成する際に、エッチングによる構造物の崩れを防止することができる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which etching residues of a polysilicon film on an inter-layer insulating film covering a MOS transistor can be reduced during electrode formation of a bipolar transistor.例文帳に追加

バイポーラトランジスタの電極形成時に、ＭＯＳトランジスタを覆う層間絶縁膜上のポリシリコン膜のエッチング残りの発生を低減可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing a non-magnetic garnet substrate, only the bevel face of a single crystal wafer is coated with an etching solution to selectively etch the bevel face.例文帳に追加

単結晶ウエハのベベル面のみにエッチング液を塗布することによって、該ベベル面を選択的にエッチングすることを特徴とする非磁性ガーネット基板の製造方法などによって提供する。 - 特許庁

To manufacture a master mold high in the uniformity of a recess of an uneven pattern containing a wide recess and a narrow recess in manufacturing the master mold using a reactive ion etching method.例文帳に追加

反応性イオンエッチング法を用いたマスターモールドの製造において、広幅凹部および狭幅凹部を含む凹凸パターンの凹部の均一性の高いマスターモールドを製造することを可能とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an Al alloy sheet of JIS 1000 series, which is subjected to surface treatment such as etching before being used, and is surely and stably surface-treated.例文帳に追加

エッチング等の表面処理が施されて使用されるＪＩＳ １０００番系のＡｌ合金板として、表面処理性が確実かつ安定して優れたものを製造する方法を提供する。 - 特許庁

Next, with the photosensitive film 47 as a mask, the first metal layer 43 is patterned so as to have the width (W1) by an anisotropic etching method to form the gate electrode with multilayer structure ((c) in Fig.5).例文帳に追加

次に、感光膜４７をマスクとして第１金属層４３を異方性エッチング方法で幅（Ｗ１）を持つようにパターニングして積層構造のゲート電極を形成する（図５（ｃ））。 - 特許庁

Therefore, regarding the method for recovering indium, indium can be efficiently adsorbed from an oxalic acid solution such as an etching waste solution exhausted upon the production of an ITO transparent electrode.例文帳に追加

それ故、本発明のインジウムの回収方法は、ITO透明電極製造時に排出されるエッチング廃液のようなシュウ酸溶液から、インジウムを効率よく吸着することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electrode foil for an electrolytic capacitor capable of improving capacitance by effectively removing adhering negative ions during etching, and smoothly performing coating formation in chemical conversion.例文帳に追加

エッチングにおける付着陰イオンを効果的に除去し、化成時の皮膜形成を円滑に行い、静電容量を向上できる電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mold for forming a glass element, whereby mold life can be extended by eliminating occurrence of selective etching etc. based on crystal plane orientation and increasing number of recycle.例文帳に追加

結晶面配向による選択的エッチング等を排し、リサイクル回数を増やし金型寿命を延ばすことができるガラス素子用成形金型の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a highly accurate wafer by which a high flatness can be obtained by removing minute waving about several nm to several hundred nm in amplitude produced by etching, when manufacturing a wafer.例文帳に追加

ウェーハの製造に際し、エッチングにより形成される振幅が数nmから数百nm程度の微小なうねりを除去して高平坦度が得られる高精度ウェーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a SONOS (silicon oxynitride oxide semiconductor) memory device which solves the problem of bringing about a damage on a substrate surface in a peripheral circuit region when etching a polysilicon and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ポリシリコンのエッチング中に、周辺回路領域内に基板面の損傷が生じる問題を解決するような、ＳＯＮＯＳメモリーデバイス及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flash memory element effective to suppress the occurrence of active attack in an etching process upon formation of a gate for example by suppressing an EFH change of an element separation film.例文帳に追加

素子分離膜のEFH変化を抑えることで、たとえばゲート形成時のエッチング工程でアクティブアタックが発生するのを抑えるのに有効なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a micro-lens substrate manufactured by an etching method to easily and surely form a recessed part having a prescribed shape and size, a transparent type screen and a rear type projector.例文帳に追加

所望の形状や大きさの凹部を容易かつ確実に形成できるエッチング方法を用いて製造されたマイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an antenna pattern or the like capable of efficiently manufacturing the antenna pattern without the need for a large scale facility such as an etching facility wherein waste of a metallic material is not almost caused.例文帳に追加

エッチング設備等の大掛かりな設備を必要とせずに効率よく製造することができ、しかも金属材料の無駄が殆ど無いアンテナパターンの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high-quality semiconductor device in which the generation of an eave-shaped portion to be formed during anisotropic etching is suppressed and a coverage defect or step cut does not occur.例文帳に追加

異方性エッチング時に形成されるひさし状部分の発生が抑制され、カバレージ不良や段差切れのない、高品質な半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an intrinsic Josephson tunnel device which produces the intrinsic Josephson tunnel device without necessitating high grade and complicated technologies such as ion injection, ion beam etching, and lithography.例文帳に追加

イオン注入やイオンビームエッチングおよびリソグラフィーなど高度で複雑な技術を要することなく、固有ジョセフソントンネルデバイスを作製する固有ジョセフソントンネルデバイスの簡易作製法を提供する。 - 特許庁

The method of etching an aluminum-neodymium alloy is comprised of exposing the alloy to plasma comprising a mixed gas of chlorine 62 and hydrogen iodide (H I) 64.例文帳に追加

本発明は、アルミニウムとネオジムの合金を塩素６２とヨウ化水素（ＨＩ）６４のガス混合物から形成されるプラズマに暴露することによって、合金をエッチングする方法を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing nanotubes from nanorods by selectively etching only inner parts of nanorods of a piezoelectric material having an asymmetric crystal structure, and to provide nanotubes of the piezoelectric material.例文帳に追加

非対称結晶構造を有する圧電物質のナノロッドの内部のみを選択的にエッチングすることにより、ナノロッドからナノチューブを製造する方法及び圧電物質のナノチューブを提供する。 - 特許庁

The etching treatment method for copper has: a step in which copper is subjected to oxidation treatment to be copper oxide; and a step in which the copper oxide is thereafter dissolved with an acidic solution.例文帳に追加

銅をエッチング処理する方法であって、銅を酸化処理して酸化銅とする工程、その後、前記酸化銅を酸性溶液で溶解する工程を有する、銅のエッチング処理方法。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device manufacturing method for producing less electromigration and stress migration by removing a reactive product after forming an aluminum wire with dry-etching.例文帳に追加

ドライエッチングによるアルミニウム配線形成後、反応生成物を除去することにより、エレクトロマイグレーション、ストレスマイグレーションの少ない、信頼性の高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a piezoelectric film element securing etching selectivity between a non-lead piezoelectric film and a lower electrode, and capable of being fabricated with high precision; a method for manufacturing a piezoelectric film element; and a piezoelectric device.例文帳に追加

非鉛の圧電膜と下部電極とのエッチング選択性を確保するとともに、高精度に加工することができる圧電膜素子、圧電膜素子の製造方法、及び圧電デバイスを提供する。 - 特許庁

In a first method, an Si-Ge mixed crystal layer that becomes a base and a silicon epitaxial film that becomes an emitter are continuously formed, and the silicon epitaxial film is removed by wet etching for forming the emitter.例文帳に追加

第１の方法は、ベースとなるＳｉ−Ｇｅ混晶層とエミッタとなるシリコンエピタキシャル膜を連続して成膜し、ウエットエッチングによりシリコンエピタキシャル膜を除去してエミッタを形成する。 - 特許庁

To provide a platinum working method which is capable of finely working platinum with high accuracy without remaining of deposits ands does not damage the ground surface of the platinum in treatment after dry etching.例文帳に追加

デポ物残りのない高精度な白金の微細加工を可能とし、さらにはドライエッチング後の処理において白金の下地にダメージを与えることのない白金の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor laser element that can improve processing precision of a ridge portion by improving controllability of etching depth and then sufficiently suppress occurrence of kinking.例文帳に追加

エッチング深さの制御性を向上させてリッジ部の加工精度を改善でき、したがってキンクの発生を十分に抑制できる半導体レーザ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To realize an etching liquid and a method, by which a Ti-W(titanium- tungsten) alloy thin film is removed in a process where a solder bump electrode is formed on a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置上への半田バンプ電極製造におけるＴｉ−Ｗ(チタン−タングステン)合金の薄膜を除去するためのエッチング液とそのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for ion beam etching which can improve the productivity by simplifying the manufacturing process and which is suitable for being used in manufacturing an optical device.例文帳に追加

製造プロセスを簡素化して生産性の向上を図ることができ、また、光学デバイスの製造に用いて好適なイオンビームエッチング方法及びイオンビームエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving a yield and reliability of a product by restraining plasma charge to a gate insulation film in dry etching.例文帳に追加

ドライエッチング時のゲート絶縁膜へのプラズマチャージを抑制することにより、製品の歩留まり及び信頼性を向上させることのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming a hafnium silicon oxide film under the condition that film thickness uniformity in a wafer surface is excellent and suppressing a variation of a threshold by etching treatment.例文帳に追加

ウエハ面内の膜厚均一性に優れた条件でハフニウムシリコン酸化物膜を形成し、エッチング処理によって閾値変動を抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent and a surface treatment method, for obtaining a copper or copper alloy surface having excellent in-plane uniformity upon spray etching treatment to copper or a copper alloy.例文帳に追加

銅または銅合金に対してスプレーエッチング処理時に面内均一性に優れる銅または銅合金表面を得るための表面処理剤および表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a frequency adjusting method for a surface acoustic wave apparatus, which can conduct frequency adjustment with higher accuracy, on the occasion when frequency adjustment is performed by ion beam etching.例文帳に追加

イオンビームエッチングにより周波数調整を行うにあたり、より一層高精度に周波数調整を行うことができる弾性表面波装置の周波数調整方法を提供する。 - 特許庁

The conductive pattern 20 is formed, for example, by selectively removing a metallic foil formed entirely on the surface of the porous material by a method such as etching.例文帳に追加

導電パターン２０は、例えば、複合多孔体の表面全体に形成された金属箔をエッチング等の方法により選択的に除去することにより形成されたものである。 - 特許庁

To provide a cleaning method for plasma etching equipment that can control variation in width between interconnections among wafers in a lot and improve throughput in a cleaning step.例文帳に追加

ロット内のウェハ間において配線間幅のばらつきを抑制するとともに、クリーニング工程におけるスループットを向上させることができるプラズマエッチング装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode capable of obtaining cathode foil excellent in capacitance, tensile strength, bending strength and peeling strength in the etching face.例文帳に追加

静電容量、引張強度、折曲強度及びエッチング面剥離強度に優れた陰極箔を得ることができる電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate quality evaluating method includes processes of etching a semiconductor substrate surface and of detecting a bright point on the etched substrate surface using a foreign substance inspection device.例文帳に追加

半導体基板表面をエッチングする工程と、異物検査装置により前記エッチングした基板表面における輝点を検出する工程とを含む半導体基板の品質評価方法。 - 特許庁

Or, the method comprises the steps of setting a heating temperature of the mold at a pressing time to a heat deteriorating temperature of the film, selectively modifying the film by pressing the mold, and then wet etching the film.例文帳に追加

あるいは、プレス時の型の加熱温度をレジスト膜の熱劣化温度に設定して型をプレスすることにより、レジスト膜を選択的に変性させた後、ウエットエッチングを行なう。 - 特許庁