「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(94ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a fine pattern, while facilitating etching in a two-layer substrate for flexible print circuit that employs an aromatic polyamide film.例文帳に追加

本発明の目的は、芳香族ポリアミドフィルムを用いた２層型フレキシプルプリント回路用基板において、エッチングが容易で微細パターンの形成を可能とする方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a material for multilayer processing, capable of forming a film having a high etching selective ratio to a film formed from an organic material, at a low temperature.例文帳に追加

低温で、有機材料から形成される膜に対して高いエッチング選択比を有する膜を形成可能な多層プロセス用材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors, wherein the chlorine ions, etc. adhered to the etching foil of each electrolytic capacitor can be removed effectively and its electrostatic capacitance can be increased.例文帳に追加

エッチング箔に付着している塩素イオン等を効果的に除去でき、かつ、静電容量を増大させることのできる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

The wafer edge etching method is to etch a semiconductor wafer including a bottom electrode serving as a stage disposed below the semiconductor wafer for supporting the semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハ下に配列され、前記半導体ウェーハを支持するステージの役割を行うボトム電極を含む半導体ウェーハのエッジをエッチングするためのウェーハエッジエッチング方法である。 - 特許庁

The built-in antenna is manufactured by coating a whole element 3 made of a thin metallic plate formed by press work or etching with a thin functional film material 1, using a laminate method.例文帳に追加

プレス加工又はエッチングによって成形された薄い金属板のエレメント３全体を薄い機能性フィルム材１でラミネート工法によって被覆する方法で内蔵アンテナを製造する。 - 特許庁

To provide a method of producing a fluorine gas, that is employable as an etching gas and a cleaning gas in producing semiconductors or liquid crystals, inexpensively on a massive scale.例文帳に追加

例えば、半導体や液晶を製造する際にエッチングガス及びクリーニングガスとして使用することができるフッ素ガスを安価に、かつ大量に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

The method for treating the phosphor comprises etching the phosphor composed of a II-VI compound semiconductor as a principal component with an acid and then cleaning the phosphor with a chelating agent or a chelating agent solution.例文帳に追加

II-VI族化合物半導体を主成分として構成される蛍光体を酸でエッチングした後に、キレート剤またはキレート剤溶液で洗浄する蛍光体の処理方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element for implanting a trench without void by applying a polishing step and a wet etching step with a low selection ratio at the time of trench implant.例文帳に追加

トレンチ埋め込みの際に研磨工程及び低選択比のウェットエッチング工程を適用してボイドなしにトレンチを埋め込むための半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method comprises a process of etching a substrate with a first plasma formed using a first gas mixture including a bromo-contained gas, an oxygen-contained gas, and a first fluorine-contained gas.例文帳に追加

臭素含有ガスと，酸素含有ガスと，第１のフッ素含有ガスとを含む第１の気体混合物を用いて形成される第１のプラズマで、基板をエッチングする工程を含む。 - 特許庁

To provide a micro-etching agent for copper and copper alloy, which can roughen surfaces of copper and the copper alloy, and to provide a method for micro-roughening the copper or the copper alloy therewith.例文帳に追加

銅および銅合金の表面を粗化することのできる銅および銅合金用のマイクロエッチング剤並びにこれを用いる銅または銅合金の微細粗化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern image forming device and method capable of shortening process time and reducing production cost without using photomask in an etching technology or lithography technology.例文帳に追加

リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

Preferably, the manufacturing method further includes a process S103 for removing an ion layer injected into the silicon substrate in the slit portion formed in the etching mask material by the focused ion beam.例文帳に追加

好ましくは、電子部品の製造方法は、集束イオンビームでエッチングマスク材に形成したスリット部分のシリコン基板に注入されたイオン層を除去する工程Ｓ１０３をさらに備える。 - 特許庁

To provide a highly reliable method for manufacturing the silver probe of a scanning tunnel microscope through the use of methyl alcohol as the solvent of an electrolyte, electrolytic grinding, and electrolytic etching.例文帳に追加

電解液の溶媒としてメチルアルコールを使用し、電解研磨及び又は電解腐蝕により、信頼性の高い走査トンネル顕微鏡の銀探針製作方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can suppress the reduction of pattern size of a polyimide film by etching and hardly changes device characteristics through processing; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

エッチングによるポリイミド膜のパターンサイズの減少を抑止すると共に、加工によって素子特性を変化させる恐れのない半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method for an electrostatic chuck that can remove, at low cost and readily the contaminants deposited on the front surface of a chuck plate 3 without carrying out plasma etching.例文帳に追加

チャックプレート３の表面に堆積した汚染物質を、プラズマエッチングを行うことなく、安価且つ簡便に除去できるようにした静電チャックのクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

A vertical trench in a silicon wafer 18 for forming a storage capacitor in a DRAM is etched in a reactive ion etching method to form an outline thereof with multiple waists 26 and 30.例文帳に追加

ＤＲＡＭの蓄積_キャパシタの形成に利用されるシリコンウエーハ１８における垂直トレンチは、多重ウエスト２６，３０を有する輪郭を有するように、反応性イオンエッチングによってエッチングされる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method enabling to perform anisotropic etching on a copper with good throughput and to form a bump electrode using the copper in a short time.例文帳に追加

スループット良く、銅を異方的にエッチングすることを可能とするとともに、銅を用いたバンプ電極を短時間で形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polycyclic polymer and a polycyclic resist composition useful for a photoresist composition transparent to a short wavelength of image focusing irradiation, and having resistance in a dry etching method.例文帳に追加

短波長の結像照射に対して透明であり、かつドライエッチング法に対して耐性のあるフォトレジスト組成物に有用な多環式ポリマー及び多環式ポリマー組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element capable of easily processing a shape having varying etching depths in the same plane while suppressing detachment of group V atoms, from a semiconductor.例文帳に追加

半導体からのＶ族原子の脱離を抑制しつつ同一面内でエッチング深さが異なる形状を簡易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning gas capable of improving cleaning effects by speeding up etching reaction in the cleaning gas containing fluorocarbon gas, and a cleaning method employing the cleaning gas.例文帳に追加

フルオロカーボンガスを含むクリーニングガスにおけるエッチング反応の速度向上を図り、クリーニング効果を高めることができるクリーニングガス及びこのクリーニングガスを使用したクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor apparatus with reduced parasitic resistance and bonding leakage by effectively removing a damaged layer occurring on a semiconductor substrate or a polysilicon layer due to dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングにより半導体基板やポリシリコン層に生じるダメージ層を効果的に除去して、寄生抵抗や接合リークが低減された半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize micromirror formation of high quality by an easy manufacturing process in a manufacturing method of a semiconductor device having a micromirror formed by anisotropic etching of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の異方性エッチングにより形成されるマイクロミラーを有する半導体装置の製造方法において、簡易な製造プロセスにより高品質のマイクロミラー形成を実現する。 - 特許庁

The method comprises a process of forming a layer doped with fluorine on the surface of a glass material, and a process for immersing the glass material in an etching liquid and processing.例文帳に追加

ガラス材料表面に予めフッ素をドープした層を形成する工程と、そのガラス材料をエッチング液に浸漬して加工する工程とを具備することを特徴とするガラス加工方法。 - 特許庁

To provide a wavelength variable interference filter, an optical module, an optical analysis device, and a manufacturing method of the wavelength variable interference filter capable of miniaturizing a substrate and shortening an etching time.例文帳に追加

基板を小型化でき、エッチング時間を短縮できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、光分析装置、及び波長可変干渉フィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a method for removing photoresist and/or etching residue from the substrate, the substrate is brought into contact with the composition.例文帳に追加

また、本発明は、基板からフォトレジスト及び／又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 - 特許庁

The method for forming the upconversion thin film on a substrate includes sputtering the upconversion material containing oxides as a target with the use of the gas capable of etching the oxide as a reactant gas.例文帳に追加

酸化物を含むアップコンバージョン材料をターゲットとして、反応ガスとして酸化物に対するエッチングガスを用いてスパッタリングを行うことにより、基材上にアップコンバージョン薄膜を成膜する。 - 特許庁

To reduce parasitic resistance when an electrode is formed in each contact hole which is formed on each of semiconductor layers of mesa junctions by using a dry etching method.例文帳に追加

メサ型接合された半導体層のそれぞれの上側に形成された各コンタクトホールにドライエッチング法を用いて電極を形成する際に、寄生抵抗を低減できるようにする。 - 特許庁

To provide a polarizing element preventing over-etching of a grid pattern and having a high aspect ratio, and to provide a method for manufacturing the polarizing element, a liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加

グリッドパターンのオーバーエッチが防止されるとともに高いアスペクト比を有する偏光素子、偏光素子の製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a material for the connection of printed circuit boards to uniformize the etching in the transfer direction of the boards and provide a method for producing printed circuit boards by using the material.例文帳に追加

配線基板の搬送方向のエッチングを均一にすることを目的とした配線基板接続用材料およびそれを用いた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the magnetic head includes a process in which the groove parts 25a, 25b1 and 25b2 are formed in a nonmagnetic layer by using an etching mask layer having a first-third aperture parts.例文帳に追加

磁気ヘッドの製造方法は、第１ないし第３の開口部を有するエッチングマスク層を用いて非磁性層に溝部２５ａ，２５ｂ１，２５ｂ２を形成する工程を備えている。 - 特許庁

The method of forming the fine metal pattern comprises dry film resist thinning treatments (T1 to T4) which are carried out in a period from a process of coating the dry film resist on a board (a) to a process of carrying out an etching process (d).例文帳に追加

基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a method of producing a steel plate for a dynamo-electric machine in which eddy current loss is more reduced as compared with a case where etching is carried out.例文帳に追加

エッチング処理した場合と比べて、渦電流損をさらに低減した回転電気機械用鋼板を得ることできる回転電気機械用鋼板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a cleaning method of a board, wherein deposit such as dry etching residue is practically and perfectly eliminated, while film reduction and modification of the surface of a film which is to be a substratum are prevented.例文帳に追加

下地となる膜の膜減りや表面の変質を防止しつつドライエッチング残渣等の堆積物を実質的に完全に除去する基板の洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a reliable semiconductor device which can suppress dishing in a pad region through a CMP step to realize suitable photolithography and etching step, and also to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

ＣＭＰ工程を経るパッド領域におけるディッシングを抑制し、適正なフォトリソグラフィ及びエッチング工程が行える高信頼性の半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for economically manufacturing a fine structure having a fine unevenness part permitting incident light to pass efficiently using a nano-imprinting technique but not an etching process.例文帳に追加

入射した光を効率よく通過させ得る微細凹凸部を有する微細構造体をエッチングプロセスではなく、ナノインプリント技術を使用して、経済的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a stiffener integrating a heat sink that enables high volume production which may not cause residual distortion and deformation and requiring the cutting process after the diffusing process and the etching process.例文帳に追加

残留ひずみや変形が発生せず張り出し加工後の切削加工や、エッチング加工を必要とせず大量生産が可能な放熱板一体型スティフナの製造方法。 - 特許庁

To provide a resist release agent peeling ability of which is hardly lowers even when resist is dissolved by repetitive use, and the etching method of a thin plate using the resist release agent.例文帳に追加

繰り返しの使用によりレジストが溶け込んでも剥離能力の低下が起こりづらいレジスト剥離剤、及びそのレジスト剥離剤を用いた薄板のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a recess gate of a semiconductor device, which can suppress occurrence of pointy horns in an etching process of a recess region during a recess gate process.例文帳に追加

リセスゲート工程中にリセス領域のエッチング工程で尖状のホーン（Ｈｏｒｎ）が発生することを抑制できる半導体装置のリセスゲート製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide metal polishing composition capable of suppressing etching by rapidly polishing metal and suppressing the occurrence of a damage to a polishing surface, and to provide a method for polishing the metal using the composition.例文帳に追加

金属を高速に研磨し、研磨表面への傷の発生を抑制し、エッチングを抑制し得る金属研磨組成物、及び該研磨組成物を用いる金属の研磨方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method is provided with an anisotropic etching process for performing anisotropic etching of the active layer and exposing a sacrificial layer, and an isotropic etching process for performing isotropic etching of the sacrificial layer from the exposed range and isolating the active layer for forming beams and the weight section from the base layer.例文帳に追加

活性層を異方性エッチングして犠牲層を露出させる異方性エッチング工程と、露出した範囲から犠牲層を等方性エッチングして梁と錘部を形成する活性層をベース層から遊離させる等方性エッチング工程を備えており、異方性エッチング工程でエッチングする個々の孤立範囲の最小径をｘ（μｍ）とし、周囲を孤立範囲で取り囲まれている領域の中心点から孤立範囲までの最短距離をＧ（μｍ）とし、犠牲層の厚さをｈ（μｍ）としたときに、下記式（１）と（２）を同時に満足する関係で孤立範囲群を分散して形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment mark capable of suppressing deformation of the shape of a plurality of the recesses of the alignment mark when the alignment mark is dug out by etching a regrown semiconductor layer, and to provide a method for manufacturing an optical semiconductor element.例文帳に追加

再成長された半導体層をエッチングしてアライメントマークを掘り出す際に、アライメントマークの複数の凹部の形状の崩れを抑制できるアライメントマーク形成方法及び光半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a non-oriented electrical steel sheet which is suitable to be used for a core material of a driving motor for automobile, and is excellent in an etching-processability and magnetic characteristics, and to provide a method for manufacturing the motor core using the steel sheet.例文帳に追加

自動車の駆動用モータなどのコア材に用いて好適な、エッチング加工性に優れ、かつ磁気特性にも優れる無方向性電磁鋼板の製造方法とその鋼板を用いたモータコアの製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a field emission type electron emission element suitable for mass production, to provide a manufacturing method of the field emission type electron emission element, and to provide an etching solution used for the manufacturing method of the field emission type electron emission element.例文帳に追加

量産製造することに好適な電界放出型電子放出素子、電界放出型電子放出素子の製造方法及び電界放出型電子放出素子の製造方法に用いるエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a MOS semiconductor device which method prevents side etching into an oxide film, and enables precise control of the dimension of a portion of an L-shaped side wall spacer that extends outward along the main surface of a semiconductor board.例文帳に追加

酸化膜へのサイドエッチを防止でき、Ｌ型サイドウォールスペーサーの半導体基板の主面に沿って外方に伸びている部分の寸法を精度よく制御できるＭＯＳ型半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an accurate plasma etching method suppressing a damage on a device by developing a plasma treatment method using a non-greenhouse effect gas to achieve global environmental protection and improvement of performance of a plasma process.例文帳に追加

地球環境保全およびプラズマプロセスの高性能化を実現するため、非温室効果ガスを用いたプラズマ処理方法を開発し、デバイスへの損傷を抑制することができる高精度のプラズマエッチング方法を提供すること。 - 特許庁