「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide the method for manufacturing a semiconductor device having a stable and reliable self-aligned contact, avoiding etching stop, short- circuited wiring or chip size increase.例文帳に追加

エッチストップ、配線ショートおよびチップサイズの増大を招くことなく、安定で信頼性の高い自己整合コンタクトを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching method that does not deteriorate a processing shape of an aluminum film containing copper, which is wiring, and can suppress occurrence of copper residues.例文帳に追加

配線である銅含有アルミニウム膜の加工形状を劣化させることなく、かつ銅の残さ発生の抑制可能なドライエッチング方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask so as to reduce dispersion in the size of a pattern due to a loading effect and a micro-loading effect produced in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程で発生するローディング効果及びマイクロローディング効果によるパターンのパターン寸法ばらつきを低減するようにしたフォトマスクを作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode of a board capable of being formed by etching and assuring necessary area in the connection of an electrode of an electronic component and the board.例文帳に追加

エッチングにて形成し、かつ電子部品の電極との接合に必要な面積が確保できる基板の電極形成方法及び基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The mount 10 and its locaters 14 are manufactured in a low-cost method, such as a chemical etching, stamping, a boring process, a bending process, an embossing process, or forming process.例文帳に追加

台座１０およびそのロケータ１４は、低コストの方法で、例えば化学的エッチング，スタンピング，穿孔加工，折り曲げ加工，エンボス加工または形成加工により製造される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for preventing an etching damage to the other region while patterning precision and high speed are maintained, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

パターニング精度、高速性を維持しつつ他の領域へのエッチングダメージを防止する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method of controlling critical dimensions of structures, formed on a substrate using an etching processing, in a semiconductor substrate processing system.例文帳に追加

半導体基板処理システムにおいて、エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の最小寸法を制御する改善された方法を提供すること。 - 特許庁

To provide both a method for producing a high-purity texafluorothane usable as an etching gas or a cleaning gas in a production process for a semiconductor device and the use thereof.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程でエッチングガスあるいはクリーニングガスとして使用することができる高純度のヘキサフルオロエタンを製造する方法およびその用途を提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing an electroless plating film by which a film with excellent adhesion can be deposited onto the surface of a material to be plated without performing etching.例文帳に追加

エッチング処理を行わなくとも密着性に優れた被膜を被めっき物表面上に形成することができる無電解めっき被膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching method and the like capable of improving selection ratio of a dielectric layer containing silicon to an organic film layer as a mask as compared with a conventional system.例文帳に追加

従来に比べてマスクとしての有機膜層に対するシリコン含有誘電層の選択比を向上させることのできるプラズマエッチング方法等を提供する。 - 特許庁

By applying a subtractive construction method for the copper-clad board for the printed wiring board having such a structure as above, a wiring pattern 3 of a large etching factor is formed.例文帳に追加

このような構造を有するプリント配線板用銅張板に対してサブトラクティブ工法を施すことにより、エッチングファクタ−の大きな配線パタ−ン３を形成する。 - 特許庁

The method includes a filtering step wherein oxalic acid containing etchant used for etching ITO is filtered by an NF membrane 25 into permeate and non-permeate.例文帳に追加

本発明では、ＩＴＯのエッチングに使用した蓚酸含有エッチング液をＮＦ膜２５によりろ過して透過液と非透過液とに分離するろ過工程を備える。 - 特許庁

The method includes a chemical etching stage for developing macrostructure, and in addition, a bleaching stage with an electrochemical corrosion using a bath containing phosphoric acid and at least one weak acid.例文帳に追加

化学的マクロ組織腐食段階を含み、さらに、リン酸と少なくとも１つの弱酸とを含む浴を使用して電気化学的腐食による「ブリーチング」段階を行う方法。 - 特許庁

A silicon nitride film used in an etching stopper film is formed by a Catalytic-CVD method at a substrate temperature of 250-400°C and a catalyst temperature of 1,600-2,000°C.例文帳に追加

本発明は、エッチングストッパー膜に用いたシリコン窒化膜を触媒ＣＶＤ（Ｃａｔａｌｙｔｉｃ−ＣＶＤ）法により、基板温度２５０〜４００℃、触媒体温度１６００〜２０００℃で成膜する。 - 特許庁

In this growth method, a process for successively injecting source, etching, and reduction gases into a chamber where a semiconductor substrate is loaded is repeatedly performed.例文帳に追加

本発明の成長方法では、半導体基板がローディングされたチャンバ内にソースガス、エッチングガス及び還元ガスを順に注入する過程を反復的に実施する。 - 特許庁

To provide an electric absorption type optical modulation element wherein an etching stop layer intervenes in a lower clad layer in its width and length directions and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

下部クラッド層中にその幅および長さ方向にエッチングストップ層を介在させた電気吸収型光変調素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

After that, the soft magnetic material only of the flat part is removed by an etching method having the anisotropy such as an ion milling so as to leave the soft magnetic material on the side surface of the dummy pattern.例文帳に追加

その後、イオンミリングなどの異方性をもつエッチング手法により、平坦部の軟磁性材料のみを除去し、ダミーパターン側面の軟磁性材料を残すようにする。 - 特許庁

In this method for constructing a damascene structure, a process gas containing CHF_3 as its main constituent is used for etching a barrier layer 44 containing SiC or SiCN.例文帳に追加

本発明のダマシン構造を形成する方法では、ＳｉＣ又はＳｉＣＮを含むバリア層４４をエッチングするプロセスガスに、主としてＣＨＦ_３を含むプロセスガスが用いられる。 - 特許庁

To provide a method for suppressing the damage of a silicon nitride film when etching the silicon nitride film whose underlayer is a silicon oxide film by using a hard mask having silicon oxide as its main component.例文帳に追加

酸化シリコン膜を下地とした窒化シリコン膜を、酸化シリコンを主成分とするハードマスクによりエッチングする際に、窒化シリコン膜の損傷を抑える方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film piezoelectric resonator capable of preventing a lower electrode from being damaged resulting from dry etching during forming a piezoelectric thin film pattern.例文帳に追加

その目的は圧電体薄膜パターンの形成時にドライエッチングに起因する下部電極のダメージを防止できる薄膜圧電共振器の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Subsequently, after a plated mask resist is formed, a wiring pattern is formed by a plating current from a surface of a semiconductor substrate without need for a wet etching method.例文帳に追加

次いで、メッキマスクレジストの形成を行なったのち、半導体基板の表面からのメッキ電流により、ウエットエッチング工法を行うこと無く、配線パターンの形成を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a wireless suspension blank by which a fine wiring part can be formed at a low cost and dry etching of an insulation layer can be performed with high accuracy.例文帳に追加

低コストで、微細な配線部を形成することができ、また絶縁層に対するドライエッチングを加工精度よく行えるワイヤレスサスペンションブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing a polysilicon film for reliably etching/removing the polysilicon film at an end of a substrate in desired width without a complicated process.例文帳に追加

煩雑な工程を経ることなく、基板の端部のポリシリコン膜を所望の幅で確実にエッチング除去することができるポリシリコン膜の除去方法を提供すること。 - 特許庁

Thus etching or the like for a high step part, which is performed in a conventional method, is unnecessary, and the movable structure body is accurately manufactured with simple manufacturing processes.例文帳に追加

これにより、従来の高段差部へのエッチング等を行う必要がなくなり、簡便な製造プロセスにより精度良く可動構造体を製造することができる。 - 特許庁

Another example includes a method for processing a wafer in a plasma environment, pre-loading a reactive gaseous flow and previously preventing the erosion of a wafer mask or an etching stop layer.例文帳に追加

他の実施例は、プラズマ環境においてウエハを処理し、反応性気体流を事前ロードしてウエハマスクまたはエッチングストップ層の浸食を防ぐ方法を含む。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing a substrate for a semiconductor package for cutting a lead wire for plating by alkali etching, and for operating short/open inspection before the division of the substrate.例文帳に追加

めっき用引出し線をアルカリエッチングによって切断し、基板の分割前にショート・オープン検査ができる半導体パッケージ用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein increase of resistance value of a diffusion layer can be restrained by restraining the etching of a silicon substrate by substrate cleaning.例文帳に追加

基板洗浄によるシリコン基板のエッチングを抑制し、拡散層の抵抗値の増大を低減することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a wiring board in which peeling strength between a conductor metal layer and an insulating resin layer can be enhanced without increasing the etching amount.例文帳に追加

エッチング量を大きくする必要なく、導体金属層と絶縁樹脂層とのピール強度を向上させることができる配線用板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element and its manufacturing apparatus which safely ensures the side profile of an object pattern to be etched from which etching by-product is removed.例文帳に追加

蝕刻副産物が除去された蝕刻対象物パターンの側面プロファイルを安全に確保することの出来る半導体素子の製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the loss caused by the crack and air bubbles generated in core patterning by dry etching in a method for manufacturing an optical wiring layers having cores and clads.例文帳に追加

コアとクラッドを有する光配線層の製造方法において、ドライエッチングでコアパターン時に生ずる亀裂及び気泡により発生する損失を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide an etching liquid which can form copper wiring free from undercut and hollowing and also having excellent linearity, and to provide a method for forming copper wiring using the same.例文帳に追加

アンダーカット及びえぐれが少なく、且つ直線性に優れた銅配線を形成できるエッチング液、及びこれを用いた銅配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device provided with a fuse and a capacitor while minimizing photographic and etching processes provided with the fuse and a MIM capacitor and a manufacturing method of the same.例文帳に追加

ヒューズとＭＩＭキャパシタを備え、写真及びエッチング工程を最小化しながらヒューズとキャパシタを備える半導体素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for etching processing of magnetic material by which a magnetic material that can further suppress the electric current flowing through a side wall material, and so on.例文帳に追加

側壁物を通じて流れる電流をより抑えることができる磁性体を加工することを可能にする磁性体のエッチング加工方法等を提供する。 - 特許庁

The method for forming the etching mask transfers, develops, and trims an exposure pattern 10 of linear shape in a photo resist 11 using a first reticle, then etches an SiO_2layer 12 making this as a mask.例文帳に追加

第１のレチクルを用いて、フォトレジスト１１に直線状の露光パターン１０を転写、現像、トリミングした後、これをマスクとしてＳｉＯ_2層１２をエッチングする。 - 特許庁

To provide a production method of an ingot for manufacturing an Fe-Ni base alloy thin plate for shadow mask, etc., improving uneven etching grade while restraining increase of the manufacturing cost as much as possible.例文帳に追加

エッチングむら品位を、製造コストの増加を極力抑制しつつ改善するシャドウマスク用等のFe−Ni系合金薄板製造用インゴットの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device excellent in the electrical characteristic by preventing a natural oxide film removed by etching from sticking again to a sidewall etc.例文帳に追加

エッチングにより除去した自然酸化膜がサイドウォールなどに再付着しないようにして、電気的特性に優れた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of reducing light-induced etching and redeposition of metal used to make mutually connected wires during a semiconductor manufacturing process, e.g., copper.例文帳に追加

半導体製造プロセス中に相互接続配線を作るために用いられる金属、例えば銅の光誘導の腐蝕及び再堆積を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrooptical device for efficiently carrying out a scum removal process and an etching process, and to provide an electrooptical device and a electronic equipment.例文帳に追加

スカム除去工程およびエッチンング工程を効率よく行うことのできる電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for evenly etching, in a plane, an oxide film with no abnormal electric discharge when an oxide film formed on a glass substrate is etched.例文帳に追加

ガラス基板上に成膜された酸化膜をエッチングする際、異常放電を発生させないようにして酸化膜を面内均一にエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the silicon substrate 10 is etched from the openings 11a in an almost isotropic manner by a wet etching method to form semispherical recessed parts 10a and the mask layer 11 is removed.例文帳に追加

この後、湿式エッチング法によって開口１１ａから略等方的にシリコン基板１０をエッチングし、半球状の凹部１０ａを形成し、マスク層１１を除去する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element which is provided with an etching stop layer where no restriction caused by a nonmixing region exists on the band gap, and its manufacturing method.例文帳に追加

非混和領域に起因する制約がバンドギャップに関して存在しないエッチング停止層を備える半導体レーザ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a flash memory in which not only CD control is easy, Moat Pit is prevented in floating-gate etching, but also the size of a device is reduced.例文帳に追加

ＣＤ制御が容易で、フローティングゲートエッチング時にモトピッを防止するだけではなく、デバイスの大きさを小さくすることができるフラッシュメモリの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an LED(light emitting diode) for preventing dissolution or peeling of an electrode due to etching at the time of manufacturing, and for increasing light emitting efficiency even in the case of a horizontal type, and a method for manufacturing this LED.例文帳に追加

製造時のエッチングによる電極の溶解,はく離を防止できると共に、横置き型でも発光効率の高いＬＥＤおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for producing an optical member comprising modifying the surface of a light-transmitting material by plasma etching to regulate its light reflecting properties and light transmitting properties is also provided.例文帳に追加

透光性のある材料の表面をプラズマエッチングして改質し、光の反射特性または透光性を調整する光学部材の製造方法である。 - 特許庁

To provide the method for forming a thin film pattern made of a substance difficult in etching or a substance hard in bringing it into close contact to a substrate.例文帳に追加

本発明の目的は、難エッチング物質や、基板との密着性の悪い物質の薄膜パターンを高精度に作成できる薄膜パターンの作成方法を提案することにある。 - 特許庁