「height mark」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide an exposure device capable of controlling the height of a reference mark and easily ensuring planarity.例文帳に追加

基準マークの高さを管理し、平面度を確保するのが容易な露光装置を提供する。 - 特許庁

The pole images 13a to 13c has a scale mark 21 at least at a height position.例文帳に追加

ポール画像１３ａ〜１３ｃには、少なくとも１箇所の高さ位置に目盛線２１が付与されている。 - 特許庁

In the raised mark 9, the raise height h from the imaginary contour SL of the side wall portion 3 is 3-7mm.例文帳に追加

隆起マーク９は、サイドウォール部３の仮想輪郭線ＳＬからの隆起高さｈが３〜７mmである。 - 特許庁

The control means 20 allows the indicator 40 to display the guide mark G by changing height of the guide mark G in accordance with a distance from the present position of the vehicle to a guidance point.例文帳に追加

制御手段２０は、自車の現在位置から案内地点までの距離に応じてガイドマークＧの高さを変更して、ガイドマーＧを表示器４０に表示させる。 - 特許庁

Thereby, even if the thickness of the terminal is large, the inspection of the height of solder can be carried out easily with the height of the end face 24A of the board fixing part as a mark.例文帳に追加

したがって、端子厚が大きい場合でも基板固定部２３の端面２４Ａの高さを目印として、半田高さの検査を容易に行うことができる。 - 特許庁

In order to position the height position of the mouth of the patient sitting in the chair above the height position of the mark on the film, the relative positional relationship between both of them is adjusted.例文帳に追加

椅子に座った患者の口元の高さ位置が前記膜の目印の高さ位置より上方に位置するように、両者の相対位置関係が調整される。 - 特許庁

When the reference point is set to zero, the read calibration mark directly shows a height difference from the reference point in the following observation point.例文帳に追加

基準点をゼロにしておけば、つぎの測点では読み取った目盛りがそのまま、基準点との高低差になる。 - 特許庁

Also an L shaped bank pattern 32 of which the height is higher than that of the alignment mark 31 is arranged on a position separated toward the upstream side of a rubbing direction 100 when seen from the alignment mark 31.例文帳に追加

また、アライメントマーク３１から見てラビング方向１００の上流側に離隔した位置に、Ｌ字形状でありその高さがアライメントマーク３１よりも高い土手パターン３２を設ける。 - 特許庁

As a substitute to the mark 4, a table, which adjusts the angle in the height direction of the optical semiconductor element, may be provided on the substrate.例文帳に追加

位置合わせ用マーク４に代えて、光半導体素子の高さ方向の角度を調整する台座を基板に設けてもよい。 - 特許庁

Continuously, it is connected to the inside of the rolled-over recessed part 22 by electronic beam welding so that height of a welding mark stays in this rolled-over recessed part 22.例文帳に追加

続いて、電子ビーム溶接により、だれ凹部２２内に、溶接痕の高さがこのだれ凹部２２内に留まるように接合する。 - 特許庁

To provide a stage device provided with a mark stand capable of adjusting a focus of an electron beam or deflection sensitivity by using a mark at the height actually same as the height of a sample surface such as a mask, and an electron beam drawing device using the stage device.例文帳に追加

マスクなどの試料面の高さと実質的に等しい高さのマークを用いて、電子ビームの焦点や偏向感度を調整することが可能なマーク台が設けられたステージ装置と、このステージ装置を用いた電子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁

To provide radio communication equipment whose height is made low and in which the first pin mark that is easy to look at can be realized at low cost.例文帳に追加

無線通信装置の高さを低くすると共に見やすい１番ピン・マークを低コストで実現し得る無線通信装置を提供する。 - 特許庁

When there is a time series sequence in the flow diagram, a mark on a preceding page is displayed on the front and a mark of a subsequent page is displayed on the background, and marks of pages having a selective relation are arranged at the same height.例文帳に追加

フロー図においては、時系列の前後関係がある場合は、前のページのマークを上に、後のページのマークを下に表示し、選択肢的な関係にあるページのマークは同じ高さに配置する。 - 特許庁

By adjusting the height of an observation point on a sample to the height of the mark 47 and by using known offsets of the views of a slanting column and a vertical column at that time, the view of the slanting column is made coincident with that of the vertical column.例文帳に追加

試料上の観察点の高さをマーク４７の高さに調整し、その時の傾斜カラムと垂直カラムの視野の既知のオフセットを用いることにより、傾斜カラムと垂直カラムの視野を一致させる。 - 特許庁

A solder layer 11 has the composition identical to that of a solder bump 7, is lower in the height than a solder resist layer 9, and is welded on the surface of the recognition mark 10.例文帳に追加

認識マーク１０の表面に半田バンプ７と同じ組成でソルダーレジスト層９よりも高さの低い半田層１１が溶着されている。 - 特許庁

The inspection device 10 is composed of a plurality of patterns, which have the same area as an exposure region 12a and vary in height, and a positioning mark 15a.例文帳に追加

検査デバイス１０は、露光領域１２ａと同じ面積を有し、高さがさまざまである複数のパターンおよび位置決めマーク１５ａで構成される。 - 特許庁

At a position apart from a mesa part where an imprinting pattern is formed, a minute mesa, having the same height as an imprinting pattern part, is provided for forming an alignment mark on a template side.例文帳に追加

押印パターンの形成されたメサ部から離れた位置に、テンプレート側のアライメントマーク形成用で押印パターン部と同じ高さの微小メサを設ける。 - 特許庁

A mark 11 for checking the height of eyes is provided on a pillar part X of the vehicular cabin within a height range H between a lower end position 16b and an upper end position 16a in the horizontal direction of the eye range previously set in the driver's seat 8.例文帳に追加

車両の運転室のピラー部Ｘに、運転席８に予め設定されているアイレンジの水平方向の下端位置１６ｂと上端位置１６ａとの高さ範囲Ｈ内に目の高さ確認用の目印１１を設ける。 - 特許庁

A reference mark is displayed in a predetermined height and direction on the dome, and a cursor projected from the video projector is made coincident to a pointer, and the azimuthal angle and the height of this point image and projector coordinates of the cursor are measured at a plurality of positions.例文帳に追加

ドーム上の所定の高度，方位に基準となるマークを表示し、ビデオプロジェクタから投影されるカーソルをポインタに一致させ、この点像の方位角，高度とカーソルのプロジェクタ座標を複数個所について測定を行う。 - 特許庁

By giving a unique shape different from a residual cap (4) to the cap (3), or by reducing the height of the cap clearly, the role of the mark is made to play.例文帳に追加

特定の位置にあるキャップ（３）に、残りのキャップ（４）とは別の特異な形状をあたえるか、またはキャップの高さを明確に低くすることにより、マークの役割をさせる。 - 特許庁

On the mark stand, reference chips 114 and 115 provided with a plurality of marks 4a_1, 4a_2, 4a_3, 4b_1, 4b_2, and 4b_3 having different surface height are disposed.例文帳に追加

マーク台には、表面の高さが異なる複数のマーク４ａ_１、４ａ_２、４ａ_３、４ｂ_１、４ｂ_２、４ｂ_３が設けられた基準チップ１１４、１１５が配置されている。 - 特許庁

A part 46 with a view adjusting mark 47 having horizon and height previously determined to be equal to those of a stage plane formed therein as a reference point is formed on a wafer holder.例文帳に追加

基準点として予めステージ平面と同じ水平と高さを決めた視野合せ調整用マーク４７を形成した部位４６をウェーハホールダ上に設けた。 - 特許庁

A height-detecting mark 13 is set at the surface of an Si chip 12 (cell-adsorbing substrate), visibility is calculated by observing the image of the mark, the subsiding amount of the Si chip 12 is obtained by using the correspondence of the calculated visibility to the height of the Si chip 12, and an XYZ table 14 is vertically moved based on the subsiding amount.例文帳に追加

Ｓｉチップ１２（細胞吸着用基板）の表面に高さ検知マーク１３を設置し、その画像を観測することによりビジビリティを算出し、算出したビジビリティとＳｉチップ１２の高さとの対応関係を用いてＳｉチップ１２の沈下量を求め、沈下量に基づいてＸＹＺテーブル１４を上下方向に移動する。 - 特許庁

To display a mark at an accurate position regardless of the height and distortion of a pressurizing plate, in an image pickup device for breasts capable of imaging the radiation image of an object and displaying a mark in the region of interest on the object using a laser beam or the like.例文帳に追加

被写体の放射線画像を撮影するとともに、レーザー光等を用いて被写体上の関心領域に印を表示可能な乳房用画像撮像装置において、押圧板の高さや歪に関わらず、正確な位置に印を表示可能にする。 - 特許庁

When a plate-shaped body 1, which has an area substantially equal to that of a key 2 in the keyboard, a mark same as the key on the front surface, and an adhesive material on the back surface, is stuck onto the key 2, the height of the key can be easily and freely adjusted to the height allowing easy touch of the user in the keyboard.例文帳に追加

キーボードのキーと面積がほぼ同じで、表面にキーと同じ表記を持ち、裏面に粘着物質を持つ板状体をキーの上に貼ることで、そのキーの高さを指が届きやすい高さに簡単に、自由に調整することができる。 - 特許庁

In this method, a mark 57 for measurement is formed on the surface of the lens resin layer 52 in the region except the region of the microlens array pattern 56 at the same height as a plane of the pattern 56 including lens edges.例文帳に追加

ここで、レンズ樹脂層５２の表面のマイクロレンズアレイパターン５６の領域外において、マイクロレンズアレイパターン５６のレンズエッジを含む平面と同じ高さに測定用マーク５７を設ける。 - 特許庁

A shape recognition processor 12 specifies the shape of an alignment mark for every slice level of height from the input pictures, and stores it in a measurement data storage 14 as measurement data.例文帳に追加

形状認識処理部１２は，入力した画像から高さのスライスレベルごとにアライメントマークの形状を特定し，それを測定データとして測定データ記憶部１４に格納する。 - 特許庁

The engraved mark 2 which is engraved with high relief of a considerable height from the surface (n) of the sheet S by the recessed part 15 of the face plate C can be formed, and breakage and deterioration of strength of the sheet S can be prevented.例文帳に追加

面版Ｃの凹部１５により、シートＳの表面ｎから大きな高さをもって浮き上がらせた鮮明な刻印２を形成でき、シートＳの破れや強度の低下を防止できる。 - 特許庁

A catch-basin is installed in the original ground in a fill zone, and a mark for a light receiver 7 is attached to a position with a predetermined height H from the bottom end of a bowl 6 on a bulldozer for laying and leveling soil 4.例文帳に追加

盛土域の原地盤に排水桝を設け、土壌４を敷均すブルドーザ５上の土工板６の下端から所定高さＨの部位に受光器７の標識を取付ける。 - 特許庁

To detect the height and position of a projection on the surface of a printed circuit board and the position of a recognition mark by reading the surface of the printed circuit board as displacement data and luminance data and to decide the coordinate position of the projection on the circuit board on the basis of the coordinate position of the detected recognition mark.例文帳に追加

プリント基板表面を変位データ及び輝度データとして読み取ることにより、プリント基板表面の突起物の高さ及び位置と認識マークの位置を検出し、検出された認識マークの座標位置に基づき、基板上の突起物の座標位置を決定する。 - 特許庁

Prior to machining, the tip position M is positioned at the center of a reference mark S on a program, and the slippage quantity of the center position of the reference mark S on a printed circuit board 6 to the optical axis Oc is determined, and the thickness t of the printed circuit board 6 is determined by a height measuring device 34.例文帳に追加

加工に先立ち、先端位置Ｍをプログラム上の基準マークＳの中心に位置決めし、光軸Ｏｃに対するプリント基板６上の基準マークＳの中心位置のずれ量を求めるとともに、高さ測定装置３４によりプリント基板６の板厚ｔを求める。 - 特許庁

An axial alignment is acquired by computation from an axial alignment actually measured value at the time of establishment or overhaul and a level bench mark deformation amount shown by a difference between an actually measured value of a level bench mark height at the time of establishment or overhaul and that during operation, thereby to monitor it, in order to provide against accidents, etc.例文帳に追加

新設時またはオーバホール時の軸アライメント実測値と、新設時またはオーバホール時のレベルベンチマーク高さの実測値と運転中のそれとの差で示されるレベルベンチマーク変位量とから演算により求め、その監視ができるようにして事故等に備える。 - 特許庁

The pneumatic tire having a display mark 1 on a surface 2a of a sidewall part 2 has a first raised section 11 raised along a contour of the display mark 1, and a second raised section 12 adjacent to the outer side of the first raised section 11 and raised at the height lower than that of the first raised section 11.例文帳に追加

サイドウォール部２の表面２ａに表示マーク１を形成した空気入りタイヤにおいて、表示マーク１の輪郭に沿って隆起した第一隆起部１１と、第一隆起部１１の外方側に隣接して第一隆起部１１よりも低い高さで隆起した第二隆起部１２と、を有する。 - 特許庁

A double coated adhesive tape ring 13 which has thickness of height from a disk fixed plane of a gate mark 20 left on the disk fixed plane of a center core 10 or more and which is provided with a through hole 13H at a part corresponding to the gate mark 20 is prepared, a disk 4 is stuck to the center core 10 through this double coated adhesive tape ring 13.例文帳に追加

センターコア１０のディスク固着面上に残存するゲート跡２０のディスク固着面からの高さ以上の厚さを有し、かつゲート跡２０に対応する部位に透孔１３Ｈを備えた両面粘着テープリング１３を用意し、この両面粘着テープリング１３を介してディスク５をセンターコア１０に貼り付ける。 - 特許庁

To provide an irregularity inspection device that prevents irregularity in film thickness of photoresist of an RGB pixel portion, pattern missing of a BM pattern, an RGB pattern and a PS/VA pattern of a blank glass portion, a mark, and a product type number, and a height defect.例文帳に追加

ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。 - 特許庁

To make a molding without leaving a mark of a protrusion even if the molding has to be made by using a mold having on the cavity forming surface a protrusion such as a pin of a minute height that should be avoided being transferred.例文帳に追加

キャビティ形成面に転写されては困る微小高さのピンなどの突起が設けられている金型を用いて成形を行わざるを得ない場合でも、突起跡が残らないような成形を可能とすること。 - 特許庁

To measure horizontal angle of measuring points, even in dark environment, regardless of height and the like of the measuring point, reduce placing work of transit in marking work, and efficiently mark a plurality of vertical and horizontal lines.例文帳に追加

測点の高さ等に関係なく、また、暗い環境でも、測点間の水平角度を測定でき、また、墨出作業において、トランシットの据え付け作業を減らし、効率良く複数の縦と横の通りを墨出できるようにすることである。 - 特許庁

Where appropriate, two printing blocks shall be filed together with the application for registration. The printing blocks shall be of metal or wood and shall permit the mark to be printed clearly and in detail; their dimensions shall not exceed eight centimeters in height by ten centimeters in width. 例文帳に追加

該当する場合は，登録出願と共に印刷版2点を提出するものとし，印刷版は金属製又は木製で，標章の明瞭詳細な印刷を可能にするものとし，その寸法は縦8cm，横10cm以下とする。 - 特許庁

To provide a mechanism for identifying an indication of a mark plate only by turning eyes in the upward and downward directions without controlling the position of operater's eyes, even if the position of the tool is higher or lower with respect to the height of operater's eyes.例文帳に追加

器具の位置が作業者の目の高さに対して高かったり低かったりしても、作業者の目の位置を調整することなく、目線の方向を上下に向けるだけで記号板の表示を確認できる機構を提供する。 - 特許庁

This cellulose acylate film 1 produced by a film formation with melt-casting is provided by having die lines 2 in parallel to the film-forming direction (arrow mark X) and having ≤0.5 μm maximum depth or maximum height and ≥500 μm minimum width by ≤10 lines per 1 cm of the width direction (arrow mark Y) of the film.例文帳に追加

溶融流延によって製膜されたセルロースアシレートフィルム１であって、前記フィルムの製膜方向（矢印Ｘ）に平行であり且つ最大深さまたは最大高さが０．５μｍ以下および最小幅が５００μｍ以上のダイライン２が、前記フィルムの幅方向（矢印Ｙ）の長さ１ｃｍ当たり１０本以下であることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

As for a three-dimensional graph, display data for displaying a mark indicating financial assets are generated at a three-dimensional position determined from the position of the grid having the feature which is the closest to the generated feature vector and a height corresponding to the calculated evaluation value.例文帳に追加

３次元グラフにおいて、生成された特徴ベクトルに最も近い特徴を持つグリッドの位置と、算出された評価値に応じた高さとで定められる３次元位置に、金融資産を示すマークを表示する表示データを生成する。 - 特許庁

To allow height of a needle bar to which a pen mechanism is fitted to be moved vertically by a sewing machine motor, to allow the vertical movement of the needle bar while writing with a pen by using the pen mechanism to be blocked, and to allow a mark or a line to be neatly written with the pen.例文帳に追加

ペン機構を装着した針棒の高さをミシンモータにより上下に移動できること、しかもペン機構を用いたペン書き中における針棒の上下動を阻止でき、マークや線を綺麗にペン書きできるようにすることである。 - 特許庁

The inclination of the electron beam 15 at a position, inputted to each mark 32A of the mask 32 for calibration is calculated, based on the position coordinates of the XY stage 60 being detected in this manner, and on the difference in the height between the marks 70A and 72A.例文帳に追加

そして、このようにして検出したＸＹステージ６０の位置座標と、マーク７０Ａと７２Ａとの高低差とに基づいて較正用マスク３２の各マーク３２Ａに入力する位置における電子ビーム１５の傾きを算出する。 - 特許庁

A sliding block 40 is moved in the vertical direction in the state of the operation members 50, 50 being kept as they are, and the fingers are removed from the operation member 50 in view of the display of a vertical groove 59 from a window hole 36 or at a desired height where a mark 61 corresponds to the display 77.例文帳に追加

そこで、操作片５０，５０をそのままの状態としてスライドブロック４０を上下方向に移動させ、窓孔３６から縦溝５９の表示を見て、又はマーク６１と表示７７とが合致した所望高さにて、操作片５０から指を離す。 - 特許庁

The moving device 41 pumps the reference mark 10 between a position that is flush with the focus of the camera 11, and a position that is higher than the component 7b for packaging in which the height becomes the highest while being packaging on the printed-wiring board.例文帳に追加

前記基準マーク用移動装置４１は、前記カメラ１１の焦点と同じ高さになる位置と、前記プリント配線板に実装された状態での高さが最も高くなる実装用部品７ｂより高くなる位置との間で基準マーク１０を往復動させる。 - 特許庁