「introduction process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing polycrystalline silicon, comprising introduction of a reaction gas comprising a silicon-containing component and hydrogen by means of one or more nozzles into a reactor comprising at least one heated filament rod on which silicon is deposited.例文帳に追加

シリコンを含有する成分と水素とを含有する反応ガスを、１つ又はそれ以上のノズルを用いて少なくとも１本の加熱されたフィラメントロッドを有するリアクター中へ導通し、前記フィラメントロッド上にシリコンを析出させることを含む多結晶シリコンの製造方法。 - 特許庁

The process includes the introduction of a bi-component silicone resin 6 into the container 4, the placement of at least one solid cosmetic product 5 on the silicone resin 6 introduced in the container 4, and the polymerization of the resin 6 with consequent anchoring of the cosmetic product 5 to the container 4.例文帳に追加

容器４への二成分シリコーン樹脂６の導入、前記容器４内に導入された前記シリコーン樹脂６への少なくとも１種の固形化粧品５の配置、および、結果として前記容器４へ前記化粧品５を固着させる前記樹脂６の重合が含まれる。 - 特許庁

To prevent a heat history of the manufacture process of a memory circuit from affecting a well region of a logic circuit, and to prevent introduction of contaminants to a substrate at the time of ion implantation for well region formation in a semiconductor device for which the memory circuit and the logic circuit are consolidated.例文帳に追加

記憶回路部と論理回路部とを混載する半導体装置において、記憶回路部の製造工程の熱履歴が論理回路部のウエル領域に影響を与えないようにし、また、ウエル領域形成のイオン注入時に基板への汚染物質の導入を防止できるようにする。 - 特許庁

If the window humidity does not sink to 96% or below even if this is continued for two min, the process of steps 284-294 is executed at two-min intervals, and the outer air introduction mode, defroster mode, the maximum wind quantity, and the maximum blowout temperature are maintained until the window humidity sinks to 96% or below finally.例文帳に追加

これを２分間継続してもウィンドウ湿度が９６％以下に下がらない場合は、ステップ２８４〜２９４の処理を２分毎に追加して実行し、最終的には、ウィンドウ湿度が９６％以下に下がるまで、外気導入モード、デフロスタモード、最高風量、最高吹出温度を維持する。 - 特許庁

A heavily doped N type region 52 and a heavily doped P type region 53 of a diode element 50 are formed utilizing a high concentration impurity introduction process for forming the source-drain region of TFTs 30, 80 and 90 on the same substrate 10b, and an intrinsic region 51 is formed between.例文帳に追加

同一基板１０ｂ上にＴＦＴ３０、８０、９０のソース・ドレイン領域を形成するための高濃度不純物導入工程を利用して、ダイオード素子５０の高濃度Ｎ型領域５２および高濃度Ｐ型領域５３を形成し、かつ、それらの間に真性領域５１を形成する。 - 特許庁

The introduction of 'Aosei Sencha Seiho' process started to be revealed in documents of that period and indicated the shift from maccha (powdered green tea) to sencha at the end of the Edo Period as one of the goals reached in the search for high quality tea. 例文帳に追加

こうした「青製煎茶」の登場の過程は当時の資料から明らかになってきており、江戸時代後期の抹茶から煎茶への流行の推移と、より高品質な商品を求める需要から茶の品質が向上していく中でのひとつの到達点であるといえる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for storing electronic members which does not requiring a baking process having been performed to prevent delamination at a high temperature reflow after introduction of a lead-free soldering, by storing electronic members with a package having no oxygen and no moisture from just after manufacturing until just before mounting.例文帳に追加

無酸素無水分包装で製造直後から実装直前まで保存することにより、鉛フリーはんだ導入後、実施されてきた高温リフロー時のデラミネーションを防ぐ目的で実施されているベーキング工程を必要としない、電子部材の保存方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an environmental load in a customer by specifying a resource interested in environmental load reduction based on a result obtained by calculating an environmental load in the customer introduction process of an information system; and by providing an activity plan for reducing the environmental load in accordance with the specified resource.例文帳に追加

情報システムの顧客導入プロセスにおける環境負荷を算出した結果に基づき環境負荷低減対象とする資源を特定し、特定した資源に応じて環境負荷低減のための活動計画を提供することにより、顧客先における環境負荷の低減を図る。 - 特許庁

In the medium term of the quenching process, the refrigerant discharged from the quenching treatment furnace 3 is introduced to the tempering treatment furnace 4 through the introduction pathway 5 to be used in the tempering process, and a part of the refrigerant discharged from the quenching treatment furnace 3 flows to a heat storage and heat exchange unit 8 while bypassing the tempering treatment furnace 4 through a bypass pathway 7.例文帳に追加

焼き入れ工程中期に、焼き入れ処理炉３から排出される冷媒を導入通路５通じて焼き戻し処理炉４へ導入し、焼き戻し工程に供すると共に、焼き戻し工程で再加熱されるワーク２が所定温度を超えないように、焼き入れ処理炉３から排出される冷媒の一部を焼き戻し処理炉４を迂回通路７により迂回して蓄熱・熱交換器８へ流す。 - 特許庁

This process for the manufacture of an organopolysiloxane composition, in particular a sealant, comprises mixing a polymer, preferably a silicone, a surface active filler, an organosilane such as a cross-linker, a catalyst and an adhesion promoter, in which the organosilane (iii) is mixed with the surface active filler (ii) prior to the introduction of the adhesion promoter.例文帳に追加

ポリマー、好ましくはシリコーン、界面活性充填剤、架橋剤のようなオルガノシラン、触媒および接着促進剤を混合することを含んでなるオルガノポリシロキサン組成物、特にシーラントの製造プロセスであって、該接着促進剤の導入前に、該オルガノシラン（ｉｉｉ）を該界面活性充填剤（ｉｉ）と混合する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which is obtained by a vacuum vapor deposition process for forming a thin magnetic metallic film under introduction of oxygen and has a high recording capacity to make a high output obtainable in spite of the low noise applicable to an ALT3 format and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

酸素を導入しながら、金属磁性薄膜を形成する真空蒸着プロセスによって得られる磁気記録媒体およびその製造方法において、ＡＩＴ３フォーマットに適用できる低ノイズでありながら高出力が得られる高記録容量の磁気記録媒体並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for controlling the solubility or dispersibility of a material in an oil medium includes (1) addition of the material to the oil medium, and (2) introduction of a group represented by the formula *-L^1-L^2 into the material before or after the above process (1).例文帳に追加

油性媒体への材料の溶解性又は分散性を制御する方法であって、（１）材料を油性媒体に添加すること、及び（２）前記工程（１）の前又は後に、下記式（Ｉ） ＊−Ｌ^1−Ｌ^2で表される基を材料に導入することを含む材料の溶解性又は分散性の制御方法である。 - 特許庁

At the time of the plasma bombardment, at least one among vacuum pressure before the introduction of the gaseous nitrogen into a chamber 1 deposited with the insulating base material 4, high frequency incident waves on the electrodes 2 and 3 in the process of the plasma bombardment, high frequency reflecting waves from the electrodes 2 and 3 and the pressure of the gaseous nitrogen is controlled as a managing item.例文帳に追加

プラズマボンバードの際には、絶縁性基材４を配置したチャンバ１に窒素ガスを導入する前の真空圧と、プラズマボンバード中の電極２，３への高周波入射波と、電極２，３からの高周波反射波と、窒素ガスの圧力との少なくとも１つを管理項目として制御する。 - 特許庁

Introduction of a material gas 121 into a film forming chamber is stopped after an absorbing process, and the inside of the film forming chamber is degassed by a degassing means (vacuum pump), thereby forming a state that an excessive gas other than the gas (aminosilane molecular layer 102) absorbed on a silicon substrate 101 is removed from the film forming chamber with one part left.例文帳に追加

吸着過程の後、成膜室内への原料ガス１２１の導入を停止し、成膜室の内部を排気手段（真空ポンプ）により排気することで、シリコン基板１０１に吸着したもの（アミノシラン分子層１０２）以外の余剰ガスが、一部を残して成膜室から除去された状態とする。 - 特許庁

Subsidies were provided to help defray the cost of interest on loans to fund the introduction of equipment required to process domestically produced materials, stabilize management, and so forth. Subsidies were also provided to help defray cost of interest or lease fees incurred in order to introduce machinery and equipment needed to ensure stable supplies of high-quality wood products offering reliable performance for low cost. 例文帳に追加

国産材の加工に必要な加工設備の導入や経営の安定等に必要な資金の借入れに対する利子助成と、品質・性能の確かな木材製品を低コストで安定的に供給するための機械設備の導入等に対する利子助成やリース料への助成を行った。 - 経済産業省

With regard to ii), it has been noted that the slow decision-making process in Japanese companies hampers the development and introduction of products that match the market needs and the creation of an efficient local production and procurement structure, which seems to be leading to a tendency for Chinese companies, the market and consumers to gradually distance themselves from such affiliates11.例文帳に追加

②については、これら日本企業の意思決定スピードの遅延により、日本企業のマーケットニーズに見合った製品の開発・投入や、現地における効率的な生産・調達体制の構築が阻害され、中国企業、マーケット及び消費者からも徐々に敬遠されているとの指摘がある11）。 - 経済産業省

The main control unit 80 fluctuates an amount of supply of the atmosphere gas from an atmosphere gas supply source 106 in a direction where the pressure fluctuation within the vacuum chamber 10 due to the evaporation of the vapor deposition material or the introduction of a process gas is mitigated during the course of the changeover of the heating state between the film-forming state and the non film-forming state.例文帳に追加

そして、主制御装置８０は、成膜状態と非成膜状態との間における加熱状態の切り替え途上において、蒸着材料の蒸発やプロセスガスの導入による真空チャンバ１０内の圧力変動を緩和する方向に、雰囲気ガス供給源１０６からの雰囲気ガスの供給量を変動させる。 - 特許庁

The spacer member 5A includes an introduction hole 6 which is opened in accordance with the arrangement of the lead terminal 3 in order to insert the lead terminal 3 and to pass molten solder material 4 during the bonding process, a portion 7 for storing the solder material 4, and a protrusion 8 for preventing solder bridge formation by forming a clearance between the electronic component and a printed wiring board.例文帳に追加

スペーサ部材５Ａは、リード端子３の配置に合わせて開口して、それぞれリード端子３が挿入されると共に、接合工程で溶融させるはんだ材４が通る導入穴６と、はんだ材４が格納されるはんだ格納部７と、プリント配線板との間に隙間を形成して、はんだブリッジの形成を防止する突起部８とを備える。 - 特許庁

In this process, the liquid mixture of the organic liquid and the ozone gas is preferably pressurized prior to the introduction to the gas-liquid separator to promote dissolving the ozone gas by the pressure.例文帳に追加

有機物を含む液体にオゾンガスを導入して酸化処理する際、オゾン処理を行う有機液体と、オゾンガス供給源からのオゾンガスとを、オゾンガスが反応処理器内で微細な泡の状態にて有機液体と接触するようにして混合させ、混合後の液体を気液分離器に誘導して過剰のオゾンガスを脱気除去した後、処理済みの液体製品を取り出す。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an oxide superconductive thin film which do not cause cracks in an oxygen introduction process in spite of a thick-walled oxide superconductive thin film as a manufacturing method for an oxide superconductive thin film which is used for manufacturing of a superconductive wire and consequently has a high Ic value, and to provide a superconductive wire having the high Ic value.例文帳に追加

超電導線材の製造に用いる酸化物超電導薄膜の製造方法として、厚膜の酸化物超電導薄膜であっても、酸素導入過程においてクラックを発生せず、その結果、高いＩｃ値を有する酸化物超電導薄膜の製造方法とを提供し、また高Ｉｃ値を有する超電導線材を提供する。 - 特許庁

This method of intracellular introduction is a method for introducing a protein and/or peptide into a cell, which comprises the process of introducing a conjugate generated by binding of a compound adsorbable on a cell surface to a protein and/or peptide via a polysulfide bond into a cell and treating with a reducing agent.例文帳に追加

タンパク質及び／又はペプチドを細胞内に導入する方法であって、該細胞内導入方法は、タンパク質及び／又はペプチドと細胞表面に吸着する化合物とがポリスルフィド結合を介して結合した結合体を細胞内に導入し、還元剤により処理する過程を含んでなるタンパク質及び／又はペプチドの細胞内導入方法である。 - 特許庁

Many of these countries were in their path towards the introduction of the euro, and were in the midst of a process of rapidly catching up with euro-zone countries.They have seen rapid capital inflow largely from other EU economies, motivated by the expectation of future growth and stability supported by the liberalization of capital account transactions following their EU accession. 例文帳に追加

東欧諸国の多くはＥＵ加盟、ユーロ導入のプロセスの中にあって、他のユーロ国に急速にキャッチアップするための過程の半ばにあり、急激な資金の流入は、EU 加盟に伴う資本取引の自由化を背景に将来の成長・安定を見越したＥＵ域内からのものが多かったことなど、アジア諸国とは大きく事情が異なります。 - 財務省

Further, even when introduction conditions of the n type or p type impurities and heating conditions of a semiconductor substrate 1 in well formation are predetermined, the reverse withstand voltage of the diode can optionally be set by adjusting the interval of the border area Ad, so the diode can be formed by using the well forming stage in an ordinary CMOS process.例文帳に追加

またｎ型およびｐ型の不純物の導入条件や、ウェル形成時における半導体基板１の加熱条件が予め決まっている場合でも、境界領域Ａｄの間隔を調節することでダイオードの逆方向耐電圧を任意に設定できるので、通常のＣＭＯＳプロセスでのウェル形成工程を用いてダイオードを形成できる。 - 特許庁

The plasma process equipment is provided with a treatment room, an introduction wave guide 4 having an internal space 20 where a first standing wave of the microwave is formed by resonance, dielectics 5p, 5q in which a second standing wave of the microwave is formed by resonance, and a slot antenna 6 having a slot for introducing the microwave from an internal space 20 to the dielectrics 5p and 5q.例文帳に追加

プラズマプロセス装置は、処理室と、共振によってマイクロ波の第１の定在波が形成される内部空間２０を有する導入導波管４と、共振によってマイクロ波の第２の定在波が内部に形成される誘電体５ｐおよび５ｑと、マイクロ波を内部空間２０から誘電体５ｐおよび５ｑへと通すためのスロット６ａを有するスロットアンテナ６とを備える。 - 特許庁

Particularly, the process includes: disposing a constant temperature probe having a corrosive surface in a known position in the boiler; periodically removing the probe for visual and/or physical observation; calibrating the degree of corrosion on the probe based on the comparison with data for boiler components; and utilizing the calibration data to control introduction of corrosion control chemicals into the boiler.例文帳に追加

特に、腐食性の表面を有する一定温度プローブをボイラー中の既知の場所に配置し、プローブを周期的に取り出して肉眼および／または物理的な観測をし、プローブの観測およびボイラーの構成要素に関するデータとの比較に基づいてプローブ上の腐食の程度を較正し、次にこの較正データを利用してボイラー中への腐食コントロール化学剤の導入をコントロールする。 - 特許庁

From the perspectives of implementing efficient and effective inspections and lightening the burdens of firms that receive inspections, and in relation to the measures considered in the above-mentioned “Project for Reviewing the Inspection Process,” the items such as the trial introduction of prior notice inspection and the meeting with top management, of which directions are fixed to some extent, have been incorporated into the “Basic Inspection Guidelines.” The guidelines are currently undergoing public comment. 例文帳に追加

効率的かつ効果的な検査の実施や検査対象先の負担軽減等の観点から、先述の業務点検プロジェクトの検討状況において、予告検査の試行的な導入や経営陣を交えたミーティング等一定の方向性が固まった項目については、「証券検査に関する基本指針」に盛り込み、パブリック・コメントに付したところである。 - 金融庁

In other words, introduction of markets or development of private companies as market players alone cannot bring about long-lasting stable economic growth. True transition impact cannot be attained unless EBRD itself is fully involved in the process and ensures that the market functions in a sound manner, and that privatised companies are engaged in sound business activities that are truly desirable for the country's economic development. 例文帳に追加

つまり、市場をつくる、あるいはそのプレイヤーたる民間企業を育成するだけでは長期的に安定的な経済発展は得られず、その市場が健全に機能しているか、民間企業がその国の経済発展にとって望ましい業務活動を行っているか、にまでEBRD自身が踏み込んで関与していかないことには、真の意味でのtransition impactは達成できないということです。 - 財務省

At this time, the spectral analysis involves introduction of a semiconductor substrate into the process chamber, dry etching of the semiconductor substrate with a plasma, detection of the beam emitted from a viewpoint during dry etching, and turning of the beam into a spectrum, as well as sampling the spectrum per dry etching time zone, and aquisition of more than one specific wave strength.例文帳に追加

この時、スペクトル分析は、工程チェンバー内に半導体基板を投入する段階と、前記半導体基板をプラズマで乾式エッチングする段階と、乾式エッチングの間にビューポイントから投射された光を検出する段階と、前記光をスペクトル化することは勿論、スペクトルを乾式エッチング時間帯ごとに抽出して、一つ以上の特定波の強さを得る段階で構成される。 - 特許庁

The manufacturing method of the pattern forming body has a plasma irradiation process in which a patterning substrate having: a base material; an intermediate layer formed on the substrate and including a silane coupling agent or a polymer of the silane coupling agent ; and the resin layer formed in a pattern shape on the intermediate layer, is irradiated with plasma from the side of a resin layer by using fluorine gas as an introduction gas.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、シランカップリング剤または前記シランカップリング剤の重合体を含有する中間層と、前記中間層上にパターン状に形成された樹脂層とを有するパターニング用基板に、前記樹脂層側からフッ素ガスを導入ガスとしてプラズマ照射するプラズマ照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The rule change regarding the capital adequacy ratio was recently decided and announced and is now in the public comment process. The partial introduction of flexibility into the capital adequacy ratio regulation reflects circumstances specific to Japan, as exemplified by Japanese banks’ relatively large exposure to stocks. Behind the increasing volatility of Japanese stock prices are foreign investment funds’ activities, as a result of which we are now witnessing seemingly irrational events, such as the average PBR (price-to-book ratio) for stocks listed on the Tokyo Stock Exchange dropping below one. Meanwhile, valuation losses on securities holdings are required to be deducted from the Tier 1 capital in the calculation of the capital adequacy ratio. We have concluded that for the management of the Japanese economy, it is essential to prevent foreign investment funds’ activities from significantly affecting and undermining the financial intermediary function of Japanese deposit-taking financial institutions, so we have decided on this as an extraordinary measure. 例文帳に追加

先般決定し公表し、現在パブリックコメントにかかっているということだと思いますが、自己資本比率規制の一部弾力化については、我が国にやや特有の事情と申しましょうか、典型的には我が国の銀行が株式へのエクスポージャーが相対的に大きい、その中で、我が国の株式市場において株価が非常にボラティリティが高くなってきている、その背景には海外の投資ファンド等の動きがある、ということで、結果的に、例えば東京証券取引所でPBR（株価純資産倍率）の平均値が1を下回るといったような、必ずしも合理的には理解しにくいような、そういう事態が出てきている、他方で有価証券の評価損というものが自己資本比率の計算上、ティア1（基本的項目）から控除されるという仕組みになっておりますので、その海外の投資ファンドの動きによって我が国の預金取扱金融機関の金融仲介能力というものが大きく振り回されて、仲介能力が損なわれるという、ここの因果関係をどこかで遮断するということが、我が国の経済全体の運営の上で必要性が極めて高いということで取られた臨時の措置ということでございます。 - 金融庁