「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(216ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a variation in the shape and thickness of a resin sealing layer and improve the adhesive strength of a part chip to a wiring board and the protection of the part chip from undesired external action.例文帳に追加

電子部品実装回路基板における樹脂封止層の形状及び肉厚のバラツキを抑え、部品チップの配線基板への接着強度の増強や部品チップに対する不所望な外的作用からの保護を向上させる。 - 特許庁

The screen 3 is composed of a cylindrical body 7 where many through-holes 7a are formed in a thickness direction, and the dipping layer 10 covering the inner and outer surfaces of the end part of the screen 3 is integrally formed via the through-holes 7a.例文帳に追加

前記スクリーン３は、肉厚方向に多数の貫通孔７ａを形成した筒状体７から成り、当該スクリーン３の端部内外面を被覆するディッピング層１０は、前記貫通孔７ａを介して一体的に形成される。 - 特許庁

Consequently, a high polarization rate is actualized, so that even when element resistance is made small by reducing the film thickness of the nonmagnetic layer to smaller than a certain extent, a high magnetic resistance change rate can be obtained to obtain high sensing capability.例文帳に追加

これにより、高い分極率を実現できるので、非磁性層の膜厚を一定以上に薄くするなどして素子抵抗を小さくしたとしても、高い磁気抵抗変化率が得られ、高いセンシング能力を得ることができる。 - 特許庁

A lower barrier layer 19 comprising a tantalum nitride of about 25nm in thickness is deposited by a spattering method on the via hole 17a and a fourth insulating film 17 containing a wall surface and undersurface of the via hole and minute interconnection forming groove 18a.例文帳に追加

スパッタ法により、ヴィアホール１７ａ及び上部配線形成溝１８ａの壁面及び底面上を含む第４の絶縁膜１７の上に、厚さが約２５ｎｍの窒化タンタルからなる下部バリア層１９を堆積する。 - 特許庁

The average particle diameter of the lubricant particles is ≥3 times of the thickness of the top layer.例文帳に追加

支持体を挟んで感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する側とは反対側の最外層が滑り剤粒子とバインダーを含有し、該滑り剤粒子の平均粒径が最外層の膜厚の３倍以上であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

Further, the surface of skeletal concrete is pasted with a pottery-based tile via a mortar layer having an elastic modulus of 4.5×10^3 to 17×10^3 N/mm^2 and the average thickness of 3 to 45 mm.例文帳に追加

また、躯体コンクリートの表面に、弾性係数が４.５×１０^3〜１７×１０^3Ｎ／ｍｍ^2である平均厚さ３〜４５ｍｍのモルタル層を介して、陶磁器質タイルが張り付けられているタイル張りコンクリート構造物が提供される。 - 特許庁

The steel electric component is structured so that a plating layer of single component of Ni or Cr not containing P substantially and having a thickness of 5-20 μm is formed on the surface, and the metal structure of the parent material is made substantially a ferrite single phase structure.例文帳に追加

厚さが５〜２０μｍであるＰ（りん）を実質的に含まないＮｉまたはＣｒの単一成分めっき層を表面に形成し、かつ母材の金属組織が実質的にフェライト単相組織となるようにする。 - 特許庁

To speed up, appropriately in terms of time, the method of ceramic molding for preparing a final article, such as a crown cap, with high request in shape, and to improve the method so that the layer thickness can be controlled even without using the principle of electrophoresis.例文帳に追加

形状に要求が高い最終物品、例えばクラウンキャップの製造のためのセラミック成形を、その方法を時間的に相当に速め、そして電気泳動の原理を用いずにも層厚を制御可能なように改良する。 - 特許庁

The dielectric layer 40 is provided in order to improve the symmetry of the light sensitivity of both the charge generation layers 5 and 6, and its resistance value is preferably ≤200 kΩ/cm^2 or the film thickness is ≤500 nm.例文帳に追加

この誘電体層４０は、両電荷発生層５，６の光感度の対称性を改善するために設けられるもので、その抵抗値は２００ｋΩ／ｃｍ^２以下、あるいは、その膜厚は５００ｎｍ以下とされることが好ましい。 - 特許庁

A step part 40 is formed in a gas diffusion layer 26a composing the electrolyte membrane-electrode assembly 12 by cutting out in the thickness direction, corresponding to a boundary portion between a projection part 30a and a recessed part 30b of the first metallic separator 14.例文帳に追加

電解質膜・電極構造体１２を構成するガス拡散層２６ａには、第１金属セパレータ１４の凸部３０ａと凹部３０ｂとの境界部分に対応し厚さ方向に切り欠いて段差部４０が設けられる。 - 特許庁

Then formation of a reaction product with the crucible 3 by the local heating of the magnetic material 9 is suppressed and the generation of the splash is also suppressed and the magnetic layer having the uniform film thickness is stably formed on the medium side.例文帳に追加

このため、磁性材料が局部的に加熱されてルツボ３との反応生成物を生成するのを抑制でき、スプラッシュの発生を抑えることができ、均一な膜厚の磁性層を安定して媒体側へ形成することができる。 - 特許庁

During this crystal growth process, the Si substrate 10 gradually fractures with the ion implanted layer as the boundary, and, finally, the Si substrate 10 separates into a thin film part 11 having a thickness of about 100 nm and a main part of the substrate 10.例文帳に追加

この結晶成長過程において、上記のＳｉ基板１０は、イオン注入層を境に徐々に破断し、最終的には膜厚約１００ｎｍの薄膜部１１とＳｉ基板１０の主要部とに分離される。 - 特許庁

A practical sample grip is a conventional solid grip and an integrally molded two-layer one or a conventional belt-like solid grip wound up by a foamed chloroprene material of about 10 degrees in softness and about 3.5 mm in thickness.例文帳に追加

これを実施する例としては、クロロプレン発泡体の柔らかさ１０度前後、厚み３．５ミリ前後の素材を従来の固いグリップと２層１体成形もの、または帯状の従来の固いグリップにくるくる巻きつけて構成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic part wherein the thickness of an insulating layer is made uniform with a columnar conductor as a stopper, and roughing is surely treated irrespective of the type of a resin, and also to provide the electronic part.例文帳に追加

柱状導体をストッパとして絶縁層の厚みを均一にするとともに、樹脂の種類に左右されることなく確実に粗化処理を行うことが可能になる電子部品の製造方法および同電子部品を提供する。 - 特許庁

The alumina base plates 1, 3 have non-forming parts M of conductive films, the sum of its width d1 and film thickness d2 of a conductive glass layer 7 for connecting cap electrodes 8A, 8B functions as a discharge gap to absorb surge.例文帳に追加

アルミナ基板１，３には導電性皮膜の非形成部Ｍが設けられており、この幅ｄ_1と、キャップ電極８Ａ，８Ｂ接合用の導電性ガラス層７の膜厚ｄ_2との和ｄが放電間隙として機能し、サージを吸収する。 - 特許庁

The hydrophobic coating layer 190 having a full thickness guides the liquid drops, so that a meniscus can quickly recover and stabilize, and high-speed and high-frequency discharge is enabled, with abrasion resistance and chemical resistance being improved.例文帳に追加

十分な厚さを有する疏水性コーティング層１９０により液滴ガイドが与えられるので，メニスカスの迅速な復元及び安定化と高速及び高周波数の吐出が可能になり，耐摩耗性及び耐化学性が向上する。 - 特許庁

The light shielding member is composed of: a base material 1 having a resin layer 12 provided between two resin films 11 different in heat elasticity in the thickness direction; and a light shielding film 2 formed on at least one side of the base material.例文帳に追加

２枚の厚み方向で熱伸縮性が異なる樹脂フィルム１１の間に、樹脂層１２が設けられている基材１と、前記基材１の少なくとも片面に形成された遮光膜２とからなるように構成する。 - 特許庁

To provide a sheet material manufacturing method allowing less wrinkles of sheet materials, if wider and thinner, due to hardness irregularity on a product roll surface layer resulting from fixed thickness distribution occurring in the cross direction of the sheet materials.例文帳に追加

広幅で薄物のシート状物においても、シート状物の幅方向に発生する固定的な厚み分布に起因する製品ロール表層での硬度ムラによるしわの発生を抑制し得るシート状物の製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface of the steel sheet or the surface of a prescribed Fe-Ni alloy layer formed on the steel sheet is provided with a composite film containing tannate and Si whose coating weight is 0.05 to 250 mg/m^2, and having a thickness of 5 to 8,000 Å.例文帳に追加

鋼板表面上または鋼板の表面に形成した所定のFe−Ni合金層の表面上に、タンニン酸塩と、付着量が0.05〜250mg／ｍ^2であるSiとを含有し、厚さが５〜8000Åの複合皮膜を有することを特徴とする。 - 特許庁

Similarly, since the blue LED 4 and the green LED 5 are also insulated in a thickness direction via the insulating layer 12, the blue LED 4 and the green LED 5 can be driven independently even if they are brought closer.例文帳に追加

同様に、青色ＬＥＤ４と緑色ＬＥＤ５も絶縁層１２を介して厚み方向に絶縁されているので、青色ＬＥＤ４と緑色ＬＥＤ５とを近接してもそれぞれを独立して駆動させることができる。 - 特許庁

To provide a developing device in which a developer restricting member with a hollow structure is capable of restricting developer layer thickness while following the recesses and protrusions on the surface of the developer carrier, and capable of uniform coating, thereby preventing the occurrence of image failure.例文帳に追加

中空部を有する構成の現像剤規制部材において、現像剤担持体上の凹凸に追従しながら規制することができ、均一なコーティングができ、画像不良の発生を抑制する現像装置を提供する。 - 特許庁

An electrifying roll 34a is installed in contact with the photoreceptor drum 31a and after a toner image is transferred to a body to be transferred, the thickness of the layer of the residual liquid developer remaining on the image carrier is restricted to be 30μm or less.例文帳に追加

感光体ドラム３１ａに当接して帯電ローラ３４ａが配置されており、トナー像を被転写体に転写した後、像担持体上に残留する残留液体現像剤の層厚が３０μｍ以下に規制されている。 - 特許庁

The natural helix pitch of the ferroelectric liquid crystal in the ferroelectric phase is sufficiently tighter than the thickness of the ferroelectric liquid crystal layer of the device, the ferroelectric liquid crystal has a helical director structure and is not surface-stabilized.例文帳に追加

強誘電相では、強誘電性液晶の自然のらせんピッチが、素子の強誘電性液晶層の厚みよりも十分短いため、強誘電性液晶はらせん配向ベクトル構造を有し、かつ表面安定化されていない。 - 特許庁

The computer 104 controls a control circuit 106 based on the calculated plate thickness to move the placement table 100 in upper and lower directions and to control the interval between the peripheral surface of a rubbing roller 101 and an alignment layer of the substrate 112 to a specified value.例文帳に追加

コンピュータ１０４は算出した板厚に基づいて制御回路１０６を制御して、載置台１００を上下方向に移動させ、ラビングローラ１０１周面と基板１１２の配向膜との間隔を規定値に維持する。 - 特許庁

Without using a multi-quantum well structure, light can be emitted from nearly all the light emitting layer 3 that is comparatively large in thickness, so that the oxide semiconductor light emitting device which is simple in structure, manufactured at a low cost, and high in luminous efficiency can be obtained.例文帳に追加

多重量子井戸構造などを用いることなく、比較的厚い発光層３の略全体を発光できるので、構造簡易で製造コストが低く、しかも、高効率発光の酸化物半導体発光素子が得られる。 - 特許庁

The transparent organic thin-film transistor is constituted by using a p-type organic semiconductor material in a semiconductor active layer, in which the maximum absorbance in the range of 400 to 700 nm, which is visible region, is 0.2 or less, when the thickness of a thin film is made to be 30 nm.例文帳に追加

半導体活性層に、膜厚３０ｎｍの薄膜としたときに可視域である４００〜７００ｎｍの範囲の最大吸光度が０．２以下であるｐ型有機半導体材料を用いた透明有機薄膜トランジスタ。 - 特許庁

A coat is provided with one or more types of heatproof layers including at least one layer which is the texture hardened α-Al_2O_3 having a thickness between 2 μm and 20 μm composed of columnar grains having a length/breadth ratio between 2 and 12.例文帳に追加

被膜は、２〜１２の長さ／幅比をもつ柱状粒子から成る２〜２０μｍの範囲の厚みをもつテクスチャー硬化α−Ａｌ_2Ｏ_3である少なくとも１つの層を含めた１種以上の耐熱層で構成されている。 - 特許庁

The thickness of the nitriding treatment layer is satisfied with at least either that it is 1.5%-6% of the diameter of each of the balls 17, 17 or 1.5% or more of the diameter of each of the balls 17, 17 to 100μm.例文帳に追加

この窒化処理層の厚さを、これら各玉１７、１７の直径の１．５％以上６％以下と、これら各玉１７、１７の直径の１．５％以上１００μｍとのうちの少なくとも一方を満たすものとする。 - 特許庁

The thickness becomes 0.4 μm or less because of 2λ/n (μm) or less when λ is 0.65 μm and n is 3.5 assuming that the luminous wavelength of the light emitting semiconductor element is λand a refractive index of the first clad layer 4 is n.例文帳に追加

この層厚は、半導体発光素子の発光波長がλ、上記第１クラッド層４の屈折率がｎであるとして、２λ／ｎ（μｍ）以下、すなわちλが０．６５μｍ、ｎが３．５であるから、０．４μｍ以下である。 - 特許庁

To provide a vertically oriented liquid crystal display can enhance an ON transmittance when driven at a high duty, to enhance a contrast and a visibility angle, by making a phase difference value along a thickness direction of a liquid crystal layer large beyond a usual range.例文帳に追加

液晶層の厚さ方向の位相差値を通常範囲を越えて大きくすることにより、高デューティ駆動時のＯＮ透過率を上げてコントラストと視野角を向上した垂直配向型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Thus, since the film thickness of the coating layer 212 formed on the surface of the roller substrate 211 is uniform and thick, a practically applicable fixing roller 210 that is highly wear-resistant, releasable, and excellently durable can be obtained.例文帳に追加

これにより、ローラ基体２１１の表面に形成されたコーティング層２１２の膜厚が均一で厚いので、耐摩耗性および離型性が高く耐久性に優れた実用化可能な定着ローラ２１０を得ることができる。 - 特許庁

Thus, the adhesive 16 amount, the application area and the layer thickness filled upon the recessed part 17 are controlled precisely by the recessed part 17, and the positional precision between the hub 7 and the disk main body 6 after being cured is improved.例文帳に追加

凹部１７によってそこに充填される接着剤１６の量を正確に規定し、接着剤１６の充填域および層厚みを正確に規定し、硬化後のハブ７とディスク本体６との位置精度の向上を図る。 - 特許庁

In a cutting position S2 near the connecting position S1, the feed material 4 is cut in the direction intersecting perpendicularly to the axes L, L of the relative rotation to apply a soft metal layer with a designated thickness on the machined surface of the swash plate 10.例文帳に追加

結合位置Ｓ１の近傍の切断位置Ｓ２において、供給体４０を前記相対回転の軸線Ｌ，Ｌ’と直交する方向に切断し、斜板１０の被加工面上に所定厚の軟質金属層を付与する。 - 特許庁

The cutting device is to cut a laminate member upon pressing a cutter blade 32 to a receptacle table 31, wherein the receptacle surface 31a of the table 31 is provided with a recess 31b of a depth corresponding to the thickness of the first or second layer of the laminate member.例文帳に追加

受台３１に切断刃３２を押し当てて積層部材を切断する切断装置において、受台３１の受面３１ａに積層部材の第１層又は第２層の厚さに相当する深さの凹部３１ｂが形成される。 - 特許庁

An SOI substrate is equipped with a base substrate 11 and a dielectric film 12 laminated on the base substrate 11, and silicon layer regions 13 and 14 different from each other in thickness are formed on the dielectric film 12.例文帳に追加

ＳＯＩ基板は、下地基板１１と、下地基板１１上に積層された誘電体膜１２とを有しているが、該誘電体膜１２の上には異なる２種類の膜厚のシリコン層領域１３、１４が形成されている。 - 特許庁

To uniform film thickness of an organic EL thin film between effective optical area pixels and within each pixel, in manufacturing of an organic EL device forming an organic EL layer by discharging and applying an organic EL material on a substrate by an inkjet system.例文帳に追加

インクジェット方式で基板上に有機ＥＬ材料を吐出、塗布し有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ装置の製造において、有効光学領域画素間および各画素内で有機ＥＬ薄膜の膜厚を均一にする。 - 特許庁

To provide a data recording material having a fine particle layer precisely controlled in thickness, the number of layers and the density of fine particles and capable of directly performing fine data recording by the irradiation with energy, and a data recording method.例文帳に追加

層の厚さ、層数、及び微粒子密度が精度良く制御された微粒子層を有し、エネルギー照射による直接的且つ微細な情報記録が可能な情報記録材料および情報記録方法を提供する。 - 特許庁

The distribution of film thickness of the coated layer 11 formed on a cavity surface 10a of a forging die 10 is calculated based on a difference value between measured temperature distributions derived from intensity distributions of two kinds of infrared radiation having different wavelength bands.例文帳に追加

波長帯が異なる二種類の赤外線の強度分布から算出される測定温度分布の差分値に基づいて鍛造用金型１０のキャビティ面１０ａに形成された被膜１１の膜厚分布を算出する。 - 特許庁

The reinforcing layer 9 is formed so that its thickness becomes smaller gradually over a prescribed length L, in a direction where the power cable 3 is extended from a plumber section end 7a at the side of the power cable 3 in the plumber section 7.例文帳に追加

補強層９は、鉛工部７における電力ケーブル３側の鉛工部端部７ａから電力ケーブル３が延びる方向に所定の長さＬにわたって徐々にその厚さが薄くなるように形成されている。 - 特許庁

The first-layer semiconductor chip 11 is mounted with the thickness when the chip 11 is segmented from a semiconductor wafer and, after the chip 11 is sealed with a sealant 4, thinned by polishing the top surface (non-mounted surface) of the chip 11.例文帳に追加

第１層の半導体チップ１１は、半導体ウェハから切り出された時の厚さのものが実装され、さらに封止材４による封止がなされた後に、その上面（非実装面）が研磨されることにより薄くされる。 - 特許庁

To more accurately form a layer thickness in a three-dimensional shaping method to form a three-dimensional article from a plurality of layers continuously formed from a curable polymerizable liquid by exposing with a curing means such as a laser beam or the like.例文帳に追加

レーザビーム等の硬化手段への露出により硬化可能な重合性液体の連続的に形成された複数の層から３次元物体を形成する立体造形方法において、層厚の形成をより正確にする。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium having first and second information recording layers, in which cross talk between the first and second information recording layers is effectively suppressed by optimizing thickness of an intermediate layer.例文帳に追加

第１情報記録層と第２情報記録層とを有する光情報記録媒体において、中間層の厚みを最適化することによって、第１情報記録層と第２情報記録層間のクロストークを効果的に抑圧する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display device capable of achieving excellent display image quality by forming an organic EL layer having a relatively uniform film thickness in a pixel formation area for display pixels and by improving an aperture ratio of a display panel.例文帳に追加

表示画素の画素形成領域に膜厚が比較的均一な有機ＥＬ層を形成して表示パネルの開口率を向上させて、良好な表示画質を実現することができる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective display that leaves a layer having a thickness smaller than 1,000 Angstroms on an optical element, and is manufactured using the method of flattening the surface of a substrate where an optical element is deposited on the surface.例文帳に追加

光学エレメント上に１０００オングストローム未満の厚さを有する層を残すことのできる、表面上に光学エレメントを堆積させた基板の面を平坦化する方法を用いて製造された反射型ディスプレイを提供すること。 - 特許庁

The electromagnetic absorbing body is provided in which charcoal particles are solidified with a binder resin while a reflecting plate and a charcoal particle layer in which both surfaces are covered with a non-fabric, fabric, or resin film by a prescribed thickness are laminated.例文帳に追加

木炭粒子をバインダー樹脂によって固めるとともに、両面を不織布又は織布若しくは樹脂膜で覆って所定の厚みとした木炭粒子層と反射板とを積層したことを特徴とする電波吸収体。 - 特許庁