| 意味 | 例文 |
layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 13314件
The sound insulation floor structure may be formed by interposing the sound insulation floor constitution material 10 between a floor base material and a floor finishing layer, and the layers 14 to be compressed are compressed to the thickness of the joists in the sound insulation floor structure.例文帳に追加
この遮音床構成材10を床下地材と床仕上げ層との間に介在させて遮音床構造を形成してもよく、遮音床構造において、前記被圧縮層14は、根太の厚みにまで圧縮されている。 - 特許庁
To provide a reflective mask blank for extreme ultraviolet (EUV) lithography in which the mask has low reflectance in a wavelength range of EUV light and pattern inspection light and has an absorbent layer that is easily controlled to a desired film composition and a film thickness.例文帳に追加
EUV光およびパターン検査光の波長域の反射率が低く、かつ該所望の膜組成および膜厚に制御することが容易な吸収体層を有するEUVリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁
In this way, comprehensively reviewing sheeting of the polyethylene resin itself, winding thereof on the external surface of the rubber hose, oil resistance and wear resistance, retaining flexibility of the rubber hose, etc., it has been revealed that the thickness of the polyethylene resin layer is most preferably about 0.1 to 0.2 mm. 例文帳に追加
このようにポリエチレン樹脂自体のシーテイング、ゴムホース外表面への巻きつけ性、耐油性、耐摩耗性の効果、ゴムホースの可撓性保持等を総合的にみると、ポリエチレン樹脂層の厚さは0.1~0.2mm程度が最も良いということが分った。 - 特許庁
The water permeable layer has fibers secured almost without fuzzing and has sufficient tension strength, and uniformly has small permeation portions being small holes having a porous thin film formed thereon in a thickness direction through which the aqueous liquid permeates.例文帳に追加
透水層は、繊維同士がほぼ固定化され毛羽立ちがほとんどなく十分な引張強度を有するものとし、多孔薄膜が形成された小孔である水系液体が透過する厚さ方向の小透過部を満遍なく有する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a magnetic disk which provides a reliable magnetic disk by forming a lubricant layer by a dipping method on a disk substrate without irregularity in the film thickness of a lubricant, with excellent adhesion.例文帳に追加
潤滑剤を膜厚ムラが生じることなく、しかも優れた付着力でディスク基体に浸漬法で潤滑層を形成することができ、信頼性の高い磁気ディスクを得ることができる磁気ディスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an element which avoids a phenomenon that carrier in a channel is vanished by simply heat treating in an atmosphere when the thickness of an AlGaN barrier layer formed on a GaN semiconductor substrate is small.例文帳に追加
GaN系半導体基板上に形成されたA1GaNバリア層の厚さが薄い場合、簡便な雰囲気中での熱処理によりチャネル中のキャリアが消失する現象を回避する素子作製手法を提供する。 - 特許庁
Although a difference in level exists between a base material plane and the surface of the wiring electrode 113 at the back surface of the flexible circuit board 110, the protection layer 115 is formed of a resin material having a thickness and flexibility for absorbing this difference in level.例文帳に追加
フレキシブル回路基板110の背面には基材面と配線電極113表面との間に段差があるが、保護層115はこの段差を吸収する厚さと柔軟性を有している樹脂材料で形成されている。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of suppressing a generation of a short circuit between a gate electrode and a semiconductor substrate, and forming a thick silicide layer having a uniform thickness, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
本発明は、ゲート電極と半導体基板との間のショートの発生を抑制した上で、厚さが厚く、かつ均一な厚さとされたシリサイド層を形成可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a spraying device for forming an oxide thin film that is in an inexpensive configuration, and can manufacture a high-quality multilayer film in which the film thickness and composition of each layer are controlled accurately, and to provide a method for manufacturing the oxide multilayer film.例文帳に追加
安価な構成で、各層の膜厚・組成を正確に制御した高品質な多層膜を作製することができる酸化物薄膜形成用スプレー装置及び酸化物多層膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The rod lens base material 1 is so manufactured that one layer formed by the PCVD method decreases in thickness toward the center of the rod lens base material and the precision of the refractive index distribution of the rod lens is further improved.例文帳に追加
ロッドレンズ母材1の作製の際に、ロッドレンズ母材の中心に近づくほど、PCVD法により作製される1層の厚さが薄くなるようにロッドレンズ母材を作製して、ロッドレンズの屈折率分布の精度をさらに向上させる。 - 特許庁
To provide a flexible liquid crystal optical modulator which can prevent change in the film thickness of a liquid crystal layer due to added external force to curve the modulator and has high contrast by preventing the disturbance in the alignment of a liquid crystal.例文帳に追加
フレキシブルな液晶光変調器において、変調器を湾曲させる外力が加わった場合に液晶層の膜厚の変化を防止し得るとともに、液晶の配向の乱れを防止して高コントラストな光変調を可能とする。 - 特許庁
To provide a catalyst for treating exhaust gas, in which the thickness of a coat layer to be formed on a catalytic base material can be thinned and the leakage rate of ammonia can be lowered while keeping the denitration rate thereof and to provide a system for treating exhaust gas.例文帳に追加
触媒基材に対するコート層の厚さを薄くすることができ、かつ脱硝率を維持しつつ、リークするアンモニアの率を下げることができるようにした排ガス処理触媒、及び排ガス処理システムを提供する。 - 特許庁
The liquid crystal element 32 for compatibility corrects spherical aberration due to a difference of the substrate thickness between the two optical disks 35 and 36, and the liquid crystal element 33 for multilayer corrects spherical aberration based on the selected layer of the multilayer optical disk 37.例文帳に追加
互換用の液晶素子32は、2つの光ディスク35,36の基板厚の差による球面収差を補正し、多層用の液晶素子33は多層光ディスク37の層選択に基づく球面収差を補正する。 - 特許庁
To provide a steel for machine structural in which the thickness of a decarburizing layer on the surface is suppressed, and which has cold workability equal to that of the conventional steel subjected to softening annealing after hot rolling, and to provide a production method therefor.例文帳に追加
鋼材表面の脱炭層厚みが抑制された、従来の熱間圧延後に軟化焼鈍を施した鋼材と同等の冷間加工性を有する熱間圧延ままでの機械構造用鋼、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering target through which a TaN film that is used as a barrier layer for Cu wirings and whose thickness uniformity is, for instance, less than 5% through its surface can be obtained with high reproducibility.例文帳に追加
Cu配線のバリア層などとして用いられるTaN膜において、膜厚の面内均一性を例えば5%以下とすることが望まれており、そのようなTaN膜を再現性よく得ることを可能にしたスパッタターゲットが求められている。 - 特許庁
A layer of the aluminum or the aluminum alloy is retained in a predetermined thickness on the surface of the preform, the excess aluminum or aluminum alloy is removed by machining, and hence the final necessary working shape of the composite material is obtained.例文帳に追加
プリフォーム表面に所定の厚さでアルミニウムまたはアルミニウム合金の層を残して、余分なアルミニウムまたはアルミニウム合金を機械加工により切削除去し、必要とされる複合材料の最終加工形状を得る。 - 特許庁
The recess and projection forming layer 13a is formed by performing half exposure through an exposure mask, the development and heating to the photosensitive resin and is provided with recessed and projected parts corresponding to gentle film thickness change on the surface.例文帳に追加
凹凸形成層13aは、感光性樹脂に対する露光マスクを介してのハーフ露光、現像、および加熱を行うことにより形成したものであり、なだらかな膜厚変化に対応する凹凸を表面に備えている。 - 特許庁
To provide a semiconductor device having a gate insulating layer with a uniform film thickness and provided with a high breakdown voltage transistor capable of contriving the improvement of microfabrication and reliability, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
本発明の目的は、均一な膜厚を有するゲート絶縁層を有し、微細化および信頼性の向上を図ることができる高耐圧トランジスタを有する半導体装置およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁
Thus, the surface of the photoreceptor belt from which residual toner is removed by the cleaning blade and which becomes a clean state is coated with the lubricant, and then the surface of the lubricant is leveled so that the layer of the lubricant whose thickness is uniform is obtained.例文帳に追加
これによって、クリーニングブレードによって残留トナーが除去され、クリーンな状態となった感光体ベルト表面に、潤滑剤が塗布され、その後潤滑剤の表面が均されて、厚みの均一な潤滑剤の層となる。 - 特許庁
The backside of a semiconductor wafer 30 is ground to be thinned into a predetermined thickness, and then a metal layer 19 made of a metal having a linear expansion coefficient close to the linear expansion coefficient of the semiconductor wafer 30 is formed on the thinned surface.例文帳に追加
半導体ウエハ30の裏面を研削して所定の厚さに薄化した後、その薄化された面に、半導体ウエハ30の線膨張係数に近い線膨張係数を有する金属からなるメタル層19を形成する。 - 特許庁
As the single crystalline silicon substrate 10 to be laminated on the quartz substrate 20, a substrate satisfying the relation 2L≤t_ox between the thickness of the oxide film t_ox and an average ion implantation depth L of an ion implantation layer 12 of hydrogen may be used.例文帳に追加
石英基板20と貼り合わせる単結晶シリコン基板10として、酸化膜の膜厚と水素のイオン注入層12の平均イオン注入深さLが2L≦t_oxの関係を満足する基板を用いることとしてもよい。 - 特許庁
To provide a laser processing method for wafer for forming a reformed layer to the desired location within the wafer corresponding to fluctuation in thickness of the wafer, even when a warp is generated in the external circumference of the wafer held with attraction to a chuck table.例文帳に追加
チャックテーブルに吸引保持されたウエーハの外周部に反りが発生しても、ウエーハの厚さのバラツキに対応してウエーハの内部の所望位置に変質層を形成すことができるウエーハのレーザー加工方法を提供する。 - 特許庁
For a reflection substrate having a thickness of ≥2 mm and having a reflection layer on one surface and a transparent member having a pattern formed in a translucent shape on one surface, the transparent member is piled up on the other surface of the reflection substrate.例文帳に追加
一方の面に反射層を有した厚さが2mm以上の反射基板と、一方の面に半透明状で形成した模様を有した透明部材とを、該透明部材を反射基板の他方の面上に積み重ねる。 - 特許庁
By improving the dispersibility of the inorganic filler 22 through the use of the activator 23 in this way, the insulating porous layer 21 can be formed with uniform thickness and composition, which contributes to safety and excellent battery characteristics.例文帳に追加
このように活剤23によって無機フィラー22の分散性を向上させることにより、均一な厚み、組成の絶縁性多孔質層21を形成することができ、安全性と優れた電池特性を実現することができる。 - 特許庁
To form an adhesive layer of equal thickness in an accurate position at one portion of a lead for putting an insulation tape, in a semiconductor device that puts the insulating tape to the lead for mounting a semiconductor chip and for carrying out resin sealing.例文帳に追加
リードに絶縁テープを貼り付けて半導体チップの搭載、樹脂封止を行う半導体装置において、リードの一部領域に対して均等な厚さでかつ正確な位置に接着剤層を形成して絶縁テープを貼り付ける。 - 特許庁
In the metal film transfer film for the electronic component, a release agent layer and the metal film are formed in this order on the plastic film, and a film thickness of the metal film is 500-30,000 angstrom.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に離型層および金属膜がこの順に成膜された構造を有しており、 該金属膜の膜厚が500〜30000オングストロームであることを特徴とする電子部品用金属膜転写フィルムである。 - 特許庁
Since magnetic brush resulting from the napping of the magnetic toner T is formed inside the internal edge 29a of the corresponding magnetic sealing member 29, the thickness of a toner layer on the peripheral face of the developing sleeve 26 does not increase.例文帳に追加
磁性トナーTの穂立ちによる磁気ブラシが、磁性体シール部材29の内側端縁29aよりも更に内側に向かって形成されるため、現像スリーブ26の外周面上におけるトナー層の厚みが増加しない。 - 特許庁
Thus, the film thickness or composition of a light emitting layer 5 (especially quantum well) varies, so that different wavelengths can be assigned to the respective nano-columns 10 and light emission can be also realized in a plurality of wavelength areas without using phosphor.例文帳に追加
これによって、発光層5(特に量子井戸)の膜厚や組成もばらつき、各ナノコラム10に異なる波長を割当てることができ、蛍光体を用いることなく複数の波長域で同時に発光させることができる。 - 特許庁
This laminated acrylic plate has high impact resistance and fragment scatter preventiveness compared with a laminated acrylic plate formed by laminating the same number of acrylic veneers 1, 1 of the same thickness/the same material through a hard adhesive layer.例文帳に追加
同積層アクリル板は、同数枚の同一厚さ・同一材質のアクリル製単板1,1を硬質型接着剤層を介して積層して構成した積層アクリル板に比して高い耐衝撃性と破片の飛散防止性を有する。 - 特許庁
To provide a deposition substrate which allows the reduction of a film thickness while dispensing with an etching step to reduce the cost, and deposits a thin film layer having an uneven structure on a depositing substrate surface, and also to provide a method for manufacturing the same, and a deposition device.例文帳に追加
膜厚の低下を図りつつ、エッチング工程を不要として低コスト化を図り、凹凸構造を有する薄膜層が被成膜基板表面に成膜された成膜基板、その製造方法、および成膜装置を提供すること。 - 特許庁
Toward a ratio α and a ratio β which are determined in accordance with film thickness of individual layers in a laminated film of a reflective layer 3, a region which satisfies visible light transmittance, a shielding factor, a blueness index and a redness index is extracted.例文帳に追加
反射層3の積層膜における各層の膜厚に応じて決定される比率αおよび比率βに対して、可視光線透過率、遮蔽係数、青み指標および赤み指標の条件を満足する領域を抽出する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a light emitting device with a plurality of organic EL (Electro Luminescense) elements capable of forming a common layer of uniform film thickness over the plurality of organic EL elements by a method of applying ink in the form of a liquid column.例文帳に追加
インキを液柱状に塗布する方法を用いて、複数の有機EL素子にわたって膜厚が等しい共通層を形成することのできる、複数の有機EL素子を備える発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of fabricating developing roller using a coating method in which a resin layer with a uniform film thickness is formed on the circumferential surface of a conductive base body without requiring elaborate management and a complicated apparatus, while preventing coating failure due to foreign matter occurrence.例文帳に追加
煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の周面に均一の膜厚で樹脂層を形成する塗布方法による現像ローラーの製造方法の提供。 - 特許庁
By forming the outermost surface layer to have a thickness of 0.001-0.05 μm, a lead frame for an optical semiconductor device can be provided, wherein the lead frame is excellent in light reflectance, also has good corrosion resistance, and achieves further improved reliability in wire bonding performance.例文帳に追加
最表層の厚さは、0.001〜0.05μmとすることで、光の反射率に優れ、耐食性も良好であり、よりワイヤボンディング性の信頼性を高められた光半導体装置用リードフレームを提供することができる。 - 特許庁
To provide an evaluation method of a wafer with a thin film in which film thickness distribution of a micro thin film (SOI layer) that affects a device can be measured conveniently at a low cost over the entire wafer surface with a sufficient spatial resolution.例文帳に追加
本発明は、デバイスに影響するミクロな薄膜(SOI層)膜厚分布のウェーハ全面に渡る測定を、低コストかつ簡便に、十分な空間分解能で行うことができる薄膜付ウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁
Preferably, the mixing volume ratio (WC-Co/Fe-C) of the mixed powder of WC-Co cermet powder and Fe-C powder is 0.05 to 7.50, and the film thickness of the coating layer of the mixed powder is 40-520 μm.例文帳に追加
前記WC−Co系サーメット粉とFe−C粉の混合粉末の混合体積比(WC−Co/Fe−C)が0.05〜7.50であること、混合粉末のコーティング層の皮膜厚みが、40μm〜520μmであることが好ましい。 - 特許庁
The bonding is carried out in a state in which the warp of the metal structure 20 and the warp of the piezoelectric element 30 are in the same direction, thereby, a layer of the conductive adhesive 23 is made to be uniform in thickness, to improve performance of the optical scanner.例文帳に追加
金属構造体20の反りと圧電素子30の反りの向きを合わせて接着するので、導電性接着剤23の層の厚みを均一にすることができるので、光走査装置の性能を向上することができる。 - 特許庁
To provide a satisfactory optical disk suitable for high density recording by regulating ranges of an effective thickness and a refractive index of a light transmission layer in a next generation optical disk and the like, and to provide a recording and reproduction device for the optical disk suitable for high density recording.例文帳に追加
例えば次世代光ディスク等において有効な光透過層の厚さ及び光透過層の屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した極めて良好な光ディスクとその記録再生装置を提供すること。 - 特許庁
In this state, it is preferable that the thickness of the base material is 10-200 μm and that the length of the sealing layer protruding from the peripheral end of the base material is between 0 μm and 10 mm from the peripheral end of the base material.例文帳に追加
このとき、基材の厚さが10μm以上200μm以下であり、該基材の周縁端部からはみ出す前記封止層の長さが該基材の周縁端部から0μm以上10mm以下であることが好ましい。 - 特許庁
A gap length of the air gap 6 in a direction perpendicular to the lower magnetic material substrate 2 varies to be larger toward the looped conductor 3 and to be smaller away therefrom, and a thickness of the magnetic material core layer 4 has an in-plane distribution.例文帳に追加
エアギャップ6における下部磁性材基板2に垂直な方向のギャップ長は、ループ状導体3に近づく程大きくなり、離れる程小さくなるように変化していて、磁性材コア層4の厚みは面内分布を持つ。 - 特許庁
A rubbing part S is formed by making a part a little on a base end side from the bend 10a abut on the surface of the developing roller 8 by using spring elasticity, and the toner layer thickness of the surface of the developing roller 8 is regulated by the rubbing part S.例文帳に追加
屈曲部10aよりも少し基端側をバネ弾性を利用して現像ローラ8表面に当接させて摺擦部Sを形成し、この摺擦部Sにより現像ローラ8表面のトナー層厚を規制する。 - 特許庁
To provide a heat insulating material which is composed of a substrate including at least a fabric or a nonwoven fabric and a heat insulating resin material layer containing hollow or porous ceramic beads and is excellent in heat insulating performance although its thickness is as thin as 0.4-4.0 mm.例文帳に追加
少なくとも織布又は不織布を含む基材と中空又は多孔質のセラミックビーズを含有する断熱樹脂材料層からなり、厚さが0.4〜4.0mmと薄いにも拘わらず断熱性能に優れた断熱材の提供。 - 特許庁
The electromagnetic wave transmissive decorative component, in particular, of clear metallic glossiness is provided at low cost, without shielding an electromagnetic wave, by constitution of forming a Ge layer 2 having 10 nm to 30 nm of film thickness, on a surface of the component 1.例文帳に追加
部品1の表面に、膜厚が10nm〜30nmのGe層2を形成した構成とすることで、電磁波を遮蔽することなく、特にクリアな金属光沢を呈する電磁波透過性加飾部品が低コストで実現可能となる。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an organic EL light- emitting device equipped with a flat organic EL layer of a desired thickness on an only coating area without using a masking member, and to provide a plasma treatment device as well as electronic equipment.例文帳に追加
マスキング部材を使用することなく、塗布領域のみに平坦かつ所望の厚みの有機EL層を備える有機EL発光装置の製造方法及びこれに用いられるプラズマ処理装置並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a chemical liquid heating and drying device and method for compound wafers enabling a chemical liquid to be heated and dried without allowing unevenness in the thickness of a chemical liquid layer while restraining warping at the step of heating and drying the chemical liquid for the compound wafer.例文帳に追加
コンパウンドウエハーの薬液の加熱乾燥工程において、反りを抑制しつつ薬液層に厚薄が発生しないように加熱乾燥できるコンパウンドウエハーの薬液加熱乾燥装置並びにその方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electronic component that suppresses variance in electrode thickness and electrode side-face width of an external electrode, and also forms the external electrode in the form of a thinner layer even when the electronic component is made small-sized.例文帳に追加
電子部品を小型化しても外部電極の電極厚みおよび電極側面幅のばらつきを抑えることができ、なおかつ外部電極を薄層化することができる電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To improve accuracy of temperature management by increasing thermal capacity of a soldering bit and reducing a route of heat radiation, and to improve reliability of junction strength of a soldering part by forming an intermetallic compound layer of an appropriate thickness.例文帳に追加
こて先の熱容量を大きくするとともに放熱の経路を削減して温度管理の精度を向上でき、適切な厚さの金属間化合物層を形成して半田付け部の接合強度の信頼性を高めること。 - 特許庁
The method for determining the center position of the semiconductor substrate includes steps of forming an oxide layer 11 on the substrate, measuring the thickness of the substrate, and determining the center position of the substrate on the supporting material 20.例文帳に追加
半導体基板の中心位置を決定する方法であって、基板上に酸化物層11を形成するステップと、基板の厚みを測定するステップと、支持体20上での基板の中心位置を決定するステップと、を含む方法。 - 特許庁
To provide a shrink label having a printing layer exhibiting excellent adhesiveness to many base materials for general-purpose use in the shrink label and excelling in adhesiveness particularly to polyester-based films with a wide range of thickness.例文帳に追加
本発明の目的は、シュリンクラベルに汎用的に用いられる多くの基材に優れた密着性を示し、特に幅広い厚みのポリエステル系フィルムに対する密着性に優れた印刷層を有するシュリンクラベルを提供することにある。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor containing a polymerizable compound in a surface layer, the photoreceptor having no image unevenness caused by irregular film thickness and having high durability free of image degradation even in repeated use.例文帳に追加
表面層に重合性化合物を含有する電子写真感光体において、膜厚むらによる画像むらが無く、繰り返し使用しても画像劣化のない高耐久の電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁
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