「line-width」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a circuit for generating pulse width modulation signal capable of suppressing increase of the power consumption accompanying adoption of multilevel gradation, and to provide a data line driving circuit, an electro-optical device, and electronic equipment using the same.例文帳に追加

多階調化に伴う消費電力の増大を抑えることができるパルス幅変調信号を生成するパルス幅変調信号生成回路、これを用いたデータライン駆動回路、電気光学装置及び電子機器を提供する。 - 特許庁

A sheet bar joining unit (80) is located at the line entrance side of the finish rolling mill (90) and a sheet bar heating unit (10) for heating the whole width of the sheet bar is located between the sheet bar joining unit (80) and the finish rolling mill (90).例文帳に追加

シートバー接合装置（８０）を仕上圧延機（９０）のライン入側に配置し、このシートバー接合装置（８０）と仕上圧延機（９０）との間にシートバーの全幅を加熱するシートバー加熱装置（１０）を配置してなる。 - 特許庁

To provide a cloth end-cutting device which can cut a sewed item with a predetermined uniform width from a sewing line and can be placed near a rotating drum regardless of the position of the rotating drum.例文帳に追加

縫製ラインから所定の均一の幅で縫製品を切断することができるミシンの布端切断装置であり、回転釜の配置位置に関わらず、釜の近傍に切断装置を設定することが可能なミシンの布端切断装置の提供。 - 特許庁

To maintain the number of housable users while securing a wide band width, to efficiently share a line in soft handover, to evade a data residue when using a variable communication rate, and furthermore to prevent the increase of retransmission further.例文帳に追加

広い帯域幅を確保しつつ収容可能なユーザ数を維持し、ソフトハンドオーバ時において効率よく回線をシェアし、可変通信レートを用いたときにおいてデータ残留を回避し、さらに、再送の増加を防止可能とする。 - 特許庁

To provide a projection optical system which can obtain pattern images of a desired line width over an effective image formation area without being substantially affected by scattered lights caused by the surface roughness, etc. of a refraction face or reflection face, for example.例文帳に追加

たとえば屈折面や反射面の表面粗さなどに起因する散乱光の影響を実質的に受けることなく、有効結像領域の全体に亘って所望線幅のパターン像を得ることのできる投影光学系。 - 特許庁

Accordingly, an abnormal resistance preventing smooth flow of current on the gate electrode 24 of the boundary line between the N-type region 14 and the P-type region 16 can be prevented without physically increasing the gate width of the gate electrode 24.例文帳に追加

したがって、ゲート電極２４のゲート幅を物理的に大きくしなくても、Ｎ型領域１４とＰ型領域１６の境界線上のゲート電極２４で電流が流れにくくなる抵抗異常の発生を抑制できる。 - 特許庁

Printing is made on a recording sheet by using a print head 50 in which a plurality of nozzles to discharge ink are arranged along a length corresponding to an entire width of a printing medium in a main scanning direction, and the printed image is read by a line sensor 120.例文帳に追加

インクを吐出する複数のノズルが主走査方向に沿う印字媒体の全幅に対応して配列された印字ヘッド５０を用いて記録紙に印字を行い、その印字された画像をラインセンサ１２０によって読み取る。 - 特許庁

The first traverse mechanism 11 moves independently from the second traverse mechanism 15, so that the apparatus can perform a high-speed and accurate arrayed winding without losing its winding shape even when winding a small- diameter line into a narrow width at a high speed.例文帳に追加

第一のトラバース機構１１と第二のトラバース機構１５とが別個に移動するので、細径の線を狭い幅に高速に巻線する場合においても、巻崩れを生じず、高速かつ正確な整列巻きをすることができる。 - 特許庁

To provide a pattern sewing machine which forms disruptive lines, which have a predetermined width in alignment with the sewing line of a pattern design, in a template negative plate such as pasteboard and can simply, quickly, and inexpensively create a template at time of sewing a pattern seam.例文帳に追加

厚紙等のテンプレート原板にパターン模様の縫製ラインに沿った所定幅を有する分断ラインを形成し、パターン縫目を縫製する際のテンプレートを簡単且つ迅速に、しかも安価に作成できるようにすることである。 - 特許庁

Then, the diaper base body is bent along the second width direction center line, the inner surface of the diaper base body and both side edge part outer surfaces of a second half body are joined, and a part between both side edge parts is separated from the inner surface.例文帳に追加

次に、おむつ基体を第２幅方向中心線に沿って折曲して、おむつ基体の内面と第２半体の両側縁部外面とを接合するとともに両側縁部の間の部分を内面から離間させておく。 - 特許庁

To decrease nonuniformity of an irradiation range or intensity distribution of light in projection exposure using a graded index lens array, to form a pattern having a uniform line width of the pattern or a smooth side wall, and to form a finer pattern.例文帳に追加

分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。 - 特許庁

As shown in Figure, the potential is controlled to be the back contrast potential so that the fogging value may lie in an allowable extent in accordance with the characteristics of toner in use, without uniformly changing the back contrast potential with reference to the change having stages A to I in the line width.例文帳に追加

線幅の段階ＡないしＩの変化に対し、バックコントラスト電位を一様に変化させることなく、図示のように、使用するトナーの特性によっても、カブリ値が許容範囲に収まるようなバックコントラスト電位に制御する。 - 特許庁

When paper P is actually placed, a paper guide member 52 is made to closely adhere to both sides of paper, in the case where the resistance value of the variable resistor is r1, as shown in the drawing, the paper width L2 can be found from the straight line m2.例文帳に追加

実際に用紙Ｐを載置したときは、用紙ガイド部材５２を用紙の両側に密着させ、可変抵抗器の抵抗値がｒ１の場合、図６に示すように直線ｍ２から用紙幅Ｌ２を求めることができる。 - 特許庁

To provide a crosstalk detecting circuit capable of detecting the effect of crosstalk caused by the variation of a line width in a production stage, and a semiconductor integrated circuit device in which the variation can be controlled in the production of lines.例文帳に追加

配線幅が製造段階においてばらつくことによって生ずるクロストークの影響を検出できるクロストーク検出回路、および配線製造バラツキを制御することができる半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

To provide a signal transport substrate that is electromagnetically shielded to obtain a much higher degree of freedom when designing a trace pattern or trace width of a signal line and to obtain a much higher degree of freedom also when adjusting a characteristic impedance.例文帳に追加

信号線のトレースパターンやトレース幅などの設計に、より一層の自由度が得られると共に、特性インピーダンスの調整の上でもより一層の自由度が得られる電磁シールドされた信号伝達基板を提供する。 - 特許庁

Lithium manganate of which the variation of a half-value width of an essential diffraction line by the X-ray diffraction under a charging condition of 0%-100%, is 25% or less, is used in a positive electrode active material, and amorphous carbon is used in a negative electrode active material.例文帳に追加

正極活物質に充電状態０％乃至１００％間のＸ線回折による主要回折線の半値幅変化を２５％以下としたマンガン酸リチウムを用い、負極活物質に非晶質炭素を用いた。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for adjusting such a deposited state as the deposition quantity or distribution of reaction products, and for adjusting the dimension of line width or in-wafer surface uniformity, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

反応生成物の堆積量や分布などの堆積状態を調整することで、ライン幅の寸法やウェーハ面内均一性などの調整をすることができる半導体装置の製造方法と半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus 6 for restraining a vehicle comprises a pitching permitting device 7 arranged at the lower side of a vehicle 4 to be tested, permitting pitching of the vehicle 4 where a width direction line 9 containing the center G of gravity of the vehicle 4.例文帳に追加

車両拘束装置６は、被試験車両４の下側に配置されるピッチング許容装置７を備え、被試験車両４の重心Ｇを含む幅方向線９を中心とする被試験車両４のピッチングを許容する。 - 特許庁

This throating member F1 for floor draining implement is furnished with a throating member main body 1 formed by a plural number of line members 10 by connecting members 11 with clearances of required width and a gripping member 2 installed on the connecting members 11 free to oscillate in a range of a position to project upward from a position where it is stored in the clearances of the line members 10.例文帳に追加

床排水器具用水切部材Ｆ１は、複数の条部材１０を所要幅の隙間を以て連結部材１１で連結して形成した水切部材本体１と、連結部材１１に、条部材１０の隙間に収容された位置から上方へ突出する位置の範囲で揺動できるように取り付けてある把手部材２を備えている。 - 特許庁

In the flash-butt welder for joining the preceding steel sheet and the succeeding steel sheet in a continuous cold processing line, the quality of the weld zone is diagnosed based on a temperature distribution obtained by measuring temperature on the weld zone in the designated width from the weld line as a center, in the state before or after trimming of a bead within 10 seconds after the completion of upsetting.例文帳に追加

連続冷間処理ラインでの先行鋼板と後行鋼板を接合するフラッシュバット溶接において、アップセット完了後１０秒以内に、ビードをトリミングする前またはトリミング後の状態で、溶接線を中心とする所定幅の溶接部について温度を測定し、その温度分布から溶接部の良否を診断する。 - 特許庁

To provide a line-convergence type ultrasonic probe used for ultrasonic inspection, for line-converging and transmitting an ultrasonic beam to a material to be inspected and receiving an echo therefrom, capable of suppressing dispersion of flaw detection sensitivity, in a width direction that is normal to the converging direction (scanning direction) of the ultrasonic beam, and for improving the flaw detection efficiency.例文帳に追加

超音波探傷検査に用いられ、被検査材に超音波ビームを線収束させて送信しそのエコーを受信する線収束型の超音波探触子であって、超音波ビームの収束方向（走査方向）と直角な幅方向で探傷感度のばらつきを抑制でき、探傷能率を向上できる超音波探触子を提供する。 - 特許庁

To prevent a defect from being transferred onto a wafer substrate, by reducing the thickness of an organic film for correcting an opening-like defect by treatment on a line even when performing a washing treatment at specified timing to suppress the variations in pattern line width after exposure, and by the decreased shielding capability in charged particle beams at the defect portion.例文帳に追加

露光後のパターン線幅の変動を抑えるべく所定タイミングで洗浄処理を行う場合であっても、その線上処理によって開口状欠陥を修正する有機膜の膜厚が減少し、その欠陥部分における荷電粒子線の遮蔽能力低下により、ウエハ基板上へ欠陥が転写されてしまうのを回避できるようにする。 - 特許庁

The other second antenna pattern 12 is a repetitive pattern of triangle waves comprising a thin and long line with a prescribed amplitude L(12) drawn by a conductor thin film 12a with the prescribed line width w and formed to a region corresponding to the forming region of the first antenna pattern 11 in a state of being orthogonal to the first antenna pattern 11.例文帳に追加

他方の第２アンテナパターン１２も一定線幅ｗの導電体薄膜１２ａにより描かれた細長い一定振幅Ｌ（１２）の細長い三角波形の繰り返しパターンであり、第１アンテナパターン１１の形成領域に対応する領域に形成されており、しかも、当該第１アンテナパターン１１とは直交する状態に形成されている。 - 特許庁

The pattern manufacturing system comprises exposure to directly draw a resist overlying on a copper foil formed on both the faces of the substrate by using the line width of the pattern line and an exposure amount designated by processing pattern data 100, forming a resist pattern by developing the exposed resist, and forming a pattern by etching the copper foil of both the faces of the substrate forming the resist pattern.例文帳に追加

加工用パターンデータ１００により指定されたパターン線の線幅と露光量を用いて、基板の両面に形成された銅箔上にラミネートされたレジストに直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、レジストパターンが形成された基板の両面の銅箔をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

The unnecessary increase in characteristic impedance of a transmission line connected to a via hole 11 because a grounded conductor wiring cannot be disposed near the via hole 11 is suppressed by an increase in wiring width of a signal conductor wiring 2 in a drawing line region around the via hole 11, thereby realizing improvement of the high-frequency characteristics.例文帳に追加

ビアホール部１１周辺において接地導体配線を配置できないことから生じる、ビアホール部１１に接続される伝送線路の特性インピーダンスが不要な増加を、ビアホール部１１周辺の引き出し線領域における信号導体配線２の配線幅の増加によって抑制することにより、高周波特性の改善を実現する。 - 特許庁

By controlling the irradiation characteristics of a headlamp 4 so that the volume of light or color of a band-shape region B including a virtual line segment A may be different from those of the other regions, the virtual line segment A which is uniformly inclined downward from the vertex T arranged at a position offset from the driver toward the both sides in vehicle width direction is presented on a driving road.例文帳に追加

仮想線分Ａを含む帯状領域Ｂの光量若しくは色が他の領域のそれとは異なるように前照灯４の照射特性を制御することにより、運転者からオフセットした位置に配置した頂点Ｔから車幅方向両側に向けて一様に下降傾斜する仮想線分Ａを走行路面上に提示する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

In the determination of a text pixel, which difference out of differences between two pixels located on positions where a circle 12 having a radius equal to stroke width W around a pixel to be analyzed intersects with a row line, a column line and two lines having an 45° angle and the value of the pixel to be analyzed is larger than the relative threshold is examined.例文帳に追加

テキスト・ピクセルの決定は、分析されるピクセルについて、分析されるピクセルを中心としストローク幅Ｗに等しい半径を有する円１２が行線、列線、及び４５゜の角度を有する２つの線と交差する位置にある２つのピクセルの値と分析されるピクセルの値との差のいずれが相対しきい値よりも大きいかを検査する。 - 特許庁

An imaging apparatus 1 is easy to focus since it captures catoptric light by a surface of an imaging surface of an area camera 31, not by a line like a line camera, and also, it obtains images in uniform quality whose brightness is constant since highlight portions can be surely received by capturing the images in constant width even when the highlight portions are slightly moved in the case of using the area camera 31.例文帳に追加

この撮像装置１は、ラインカメラのように線ではなく、エリアカメラ３１の撮像面で面により反射光を捉えているので、ピントが合わせやすく、しかも、エリアカメラ３１の場合、一定の幅で画像を取り込むことで、ハイライト部分が若干移動しても確実にハイライト部分を受光できるので、明るさが一定した均質な画像が得られる。 - 特許庁

The bag delivery unit 14 has two grippers 34, 35, each of which grips one bag and is arranged across a prescribed distance in the direction of the bag width, where each reciprocates between a receiving position (shown by a virtual line) and a delivery position (shown by a full line) simultaneously while approaches each other when moving from the receiving position to the delivery position.例文帳に追加

この袋受渡し装置１４では、それぞれ１個ずつ袋を把持する２つのグリッパー３４、３５が、袋の幅方向に所定間隔を置いて配置され、受取り位置（仮想線で示す位置）と引渡し位置（実線で示す位置）の間を同時に往復移動し、かつ受取り位置から引渡し位置への移動の過程で相互の間隔を狭める。 - 特許庁

Specifically, an outer edge predetermined breaking part 16A provided along an outer profile line of the boundary between the base material 12 and the airbag door 14 is formed by the streak 26, and a central predetermined breaking part 16B provided along a central profile line of the boundary between the airbag doors 14, 14 with each other is formed by a grove shape recessed part 18 having required width.例文帳に追加

具体的には、基材１２とエアバッグドア１４との境界となる外部輪郭ラインに沿って設けられる外縁破断予定部１６Ａがウェルドライン状の条痕２６により形成され、エアバックドア１４,１４同士の境界となる中央輪郭ラインに沿って設けられる中央破断予定部１６Ｂが所要幅の溝状凹部１８により形成される。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、（１）第一のレジストパターンの線幅が変動しない、（２）第一のレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a notching method for a metal strip in a continuous treatment line thereof capable of preventing the width end of a metal strip portion having a notch of an arc shape or the like from being caught by either upper or lower blade after the notching, and preventing the metal strip from being broken in that state when the conveyance is re-started, and a continuous treatment line for the metal strip.例文帳に追加

円弧状等の切欠きを形成された、金属帯部分のうちの幅端が、ノッチング後の上下刃のどちらかに引っ掛かってしまって、搬送が再開されたときに、その場で破断してしまうのを防止できる、金属帯の連続処理ラインにおける金属帯のノッチング方法及び金属帯の連続処理ラインを提供する。 - 特許庁

On both sides in the tape longitudinal direction of A-D bursts constituting an LTO servo pattern respectively, auxiliary pulses 10 parallel with a line orthogonal to a tape edge and having a length roughly equal to a spacing along the line orthogonal to the tape edge between both ends in the tape width direction of the respective bursts A-D are formed at prescribed spacings in the tape longitudinal direction from the respective bursts A-D.例文帳に追加

LTOサーボパターンを構成するA〜Dバーストのテープ長手方向の各々両側に、テープエッジに直交する線に対して平行であり、且つA〜Dの各バーストのテープ幅方向両端間の、前記テープエッジに直交する線に沿う間隔と略等しい長さの補助パルス10を、A〜Dの各バーストからテープ長手方向に所定間隔隔てて形成する。 - 特許庁

A minute pattern resin film 22 is formed on one main surface of a key top body 36 by using a minute pattern forming resin film 20 having properties such that it retains liquid state at ordinary temperature and is cured with light to form a minute pattern (e.g., line width and line interval of 0.1 mm or less) by transfer or others followed by curing by UV irradiation.例文帳に追加

常温下で液状を保持し光を受けて硬化する性質の微細模様形成用樹脂膜２０を用い転写その他により微細模様（線幅及び線間例えば０．１ｍｍ以下）を形成し、ＵＶ光照射により硬化させた微細模様樹脂膜２２を、キートップ本体３６の一方の主表面に形成する。 - 特許庁

The embossed pattern, in its central region, is provided with a pair of front-side embosses extending from a predetermined position in the front side region in the length direction and formed to face the width directional center line of the article; and a pair of rear-side embosses extending from a position slightly separated from the front-side embosses and formed to face the center line.例文帳に追加

エンボスパターンは、中央領域においては、前側領域側の所定の位置から長さ方向に延びる、物品の幅方向中心線に対向して形成される一対の前方サイドエンボスと、該前方サイドエンボスからわずかに離間した位置から、後側領域方向に延びる、中心線に対向して形成される一対の後方サイドエンボスとを有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase difference film which is wide and has uniform phase difference values by improving the insufficient uniformity of a drawing line over the entire width of the film which occurs at a drawing point (or on the the drawing line) when the film is stretched when the phase difference film excellent in heat resistance, surface properties, and optical characteristics is obtained.例文帳に追加

本発明の主な目的は、耐熱性、表面性、光学特性に優れた位相差フィルムを得るにあたり、フィルムを延伸する際に延伸点（または延伸線）で起こる、延伸線がフィルムの全幅に渉って均一にならないことを改善して、広幅で均一な位相差値を持つ位相差フィルムを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁

A registration means 30 performs a printing registration process so that the positional relationship between intersections 43a, 43b, 43c and 43d of a median line of the feed direction edges of the first and the second portion and a median line of the width direction edges of the first and the second portion, can be kept uniform.例文帳に追加

見当合わせ手段３０は、各見当マーク４０ａ、４０ｂ、４０ｃ、４０ｄにおける、第１の部分および第２の部分の送り方向端縁の中線と、第１の部分および第２の部分の幅方向端縁の中線との交点４３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄ間の位置関係をそれぞれ一定に保つよう印刷の見当合わせを行う。 - 特許庁

As a result, processing is switched by only middle-density areas, and areas having thick lines can be subjected to the same image processing independently of line width, and the image is prevented from looking unnatural in the switched boundary part due to switching of image processing.例文帳に追加

その結果、中濃度領域のみで処理を切り替えて、線の濃い領域は、線幅に関わらず同一の画像処理を行うことが可能となり、画像処理の切り換えによって切り換えた境界部分で画像が不自然に見えることがなくなる。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which suppresses display unevenness by stabilizing the cell gap of a liquid crystal display even when reducing the line width of a black matrix to achieve a high aperture ratio, and a liquid crystal display including the same.例文帳に追加

高開口率を達成するためにブラックマトリクスの線幅を細くしても、安定した液晶表示装置のセルギャップを安定化させ、表示ムラを抑制することができるカラーフィルタ基板、及びそれを備える液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

The pure water supply source 30 supplies liquid to the inside of the outer tank 10 so that the flow of the liquid is symmetric with respect to the center line of the inner tank 20 in both the directions of the width and the depth, inside the outer tank 10.例文帳に追加

また、純水供給部３０は、外槽１０内における液体の流れが幅方向および奥行き方向の両方向において内槽２０の中心線に対して対称となるよう、外槽１０内に液体を供給する。 - 特許庁

Each of the circumferential fine grooves assumes a straight line shape or a circular arc shape extended in the circumferential direction at an angle θ of 0 to 25° with respect to the tire circumferential direction and is composed of a plurality of fine groove pieces each having a groove width smaller than the inner and outer circumferential main grooves.例文帳に追加

前記周方向細溝は、タイヤ周方向に対して０〜２５°の角度θで周方向にのびる直線状又は円弧状をなしかつ前記内外の周方向主溝よりも溝巾が小な複数の細溝片からなる。 - 特許庁

For this apparatus, the surface of the substrate can be tested by comparing an image image formed by the secondary electron beam with the picture image stored beforehand, or by testing the pattern line width of the patterns on the surface of the substrate, based on the secondary electron beam.例文帳に追加

この装置では、２次電子線に基づき形成される画像を予め記憶した画像と比較したり、基板表面のパターンのパターン線幅を２次電子線に基づき検査することにより、基板表面の検査をすることができる。 - 特許庁

To provide a colored curable composition for a color filter capable of maintaining line width sensitivity and discrimination (alkali dissolution rate difference) between an exposure part and an un-exposure part and forming a fine pattern having high rectangularity in a pigment concentration heightened composition.例文帳に追加

顔料濃度を高めた組成において、線幅感度と露光部及び未露光部間のディスクリミネーション（アルカリ溶解速度差）を保ち、微細で矩形性の高いパターンを形成することができるカラーフィルタ用着色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

The wire rack is formed by connecting two wire pipes 2 composed in a C shape for supporting the depth direction on both right and left bottom sides of the deck pan, and straight line wire pipes 3 for supporting the width direction of the deck pan, in a square shape.例文帳に追加

前記デッキパンの左右両底辺の奥行方向を支持するコ字状に構成した２本の前記ワイヤパイプ２と、前記デッキパンの幅方向支持する直線状の前記ワイヤパイプ３とを方形状に連結してワイヤラックを構成した。 - 特許庁